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台湾意匠審査基準の改訂ポイント（後編）
2022年01月25日
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台湾知的財産局は、科学技術の進歩を踏まえ、デジタルイノベーション経済の発展を推進するとともに、近年の台湾の意匠（中国語「設計専利」）制度を改めて見直し、2020年9月29日に「専利審査基準-第三篇設計専利実体審査」の一部の改訂案を公告し、同年11月1日より施行した。本稿では前編、後編に分けで審査基準の改正ポイントについて解説する。後編では、明細書と図面の開示要件を緩和、分割出願に対する制限の緩和について説明する。
前編：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/21973/
■詳細及び留意点
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■本文書の作成者
聖島国際特許法律事務所 弁理士 洪 雅芬■協力
日本国際知的財産保護協会■本文書の作成時期
2021.10.26