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1.公報（Journal）の閲覧
(1) 南アフリカのCompanies and Intellectual Property Commission（CIPC) Intellectual Property Onlineのウェブサイト（https://iponline.cipc.co.za/）にアクセスし、図1のオレンジ線で囲んである「Publications」を選択し、プルダウンメニューから青線で囲んである「Patent Journals」をクリックすると直近のJournalのリストが表示される（図2）。

図1　CIPC Intellectual Property Onlineのトップページ

図2　Journal　リスト画面

(2) 確認したい「Journal」（例として、「E_Journal_September 2022 Part 2」を選択）をクリックすると公報のPDFファイルがダウンロードされる（図3a）。

図3a　Patent Journal表紙画面（2022年9月）

(2) ダウンロードしたファイルの「TABLE OF CONTENTS」ページ（図3b）の確認したい項目をクリックすると、該当するページが表示される。例えば、オレンジ線で囲んである「APPLICATIONS FOR REGISTRATION OF DESIGNS IN TERMS OF ACT No. 195 OF 1993」をクリックすると出願書誌情報を確認することができる（図3c）。緑線で囲んである「NOTICE OF REGISTRATION OF DESIGNS」をクリックすると登録公報詳細情報を確認することができる（図3d、3e）。青線で囲んである「DESIGNS」をクリックすると登録公報のリストが表示される（図3f）。

図3b　TABLE OF CONTENTSページ画面

図3c　出願書誌情報（出願公開）画面（意匠）

図3d　登録公報詳細情報画面1（意匠）

図3e　登録公報詳細情報画面2（意匠）

　登録公報に記載されている情報は、以下のとおり。

(21) Number of application（出願番号）
(22) Date of lodgement（出受領日）
(23) release date (if applicable)（リリース日（該当する場合）
(43) Date of registration（登録日）
(52) Class（分類記号）
(24) Type of design（意匠の種類）
(71) Name(s) of applicant(s)（出願人名）
(33) Country（国）
(31) Number of convention application（優先権主張番号）
(32) Date of convention application（優先権主張日）
(54) Articles to which design is to be applied（意匠を付する物品）
(57) Brief statement of features（特徴の簡単な説明）

図3f　登録公報リスト画面（意匠）

2.公報検索
(1) 南アフリカのCompanies and Intellectual Property Commission（CIPC) Intellectual Property Onlineのウェブサイト（https://iponline.cipc.co.za/）にアクセスし、図4のオレンジ線で囲んである「Designs」を選択し、プルダウンメニューの「Free Search」、または緑線で囲んである「Free Designs Search」をクリックするとアカウントを作成するよう指示される（図5から図12）。

図4　CIPC Intellectual Property Onlineのトップページ

図5　アカウント作成手順1

　図5のオレンジ線で囲んである「Create Account」をクリックすると図6が表示される。

図6　アカウント作成手順2
　図6のオレンジ線で囲んである「NO」をクリックすると図7が表示される。

図7　アカウント作成手順3

　図7のオレンジ線で囲まれている「Passport Number」にパスポートの番号を入力し、青線で囲まれている「CONTINUE」をクリックすると図8が表示される。

図8　アカウント作成手順4

図8の入力項目は以下のとおりである。なお、*印は入力必須項目である。
(a）Surname（苗字）
(b) Name(s)（名前）
(c)ID/Passport Number（ID/パスポート番号）：図7で入力したパスポート番号が表示される（図8は情報非表示）。
(d)Country（国）：Japanを選択すると(k)が「Select province」からState / Provinceを入力する欄に変わる（図9参照）。
(e)Cellphone Number（携帯電話番号）：国コードを含む携帯電話番号（数字のみ）を入力する。
(f)Email Address（emailアドレス）
(g)Re-type Email Address（emailアドレス再入力）
(h)Physical Address（住所）：＊印にポインターをあてると入力すべき内容（Street number and name）が表示される。番地を入力する。
(i) 町名や地名（入力例：Nagata-cho　1-chome）を入力する。
(j) ＊印にポインターをあてると入力すべき内容 Town/City（市町村）が表示される（入力例：Chiyoda-ku）。
(k) ＊印にポインターをあてると入力すべき内容 State/Province（県/地域）が表示される（入力例：Tokyo）。
(l) ＊印にポインターをあてると入力すべき内容 Postal/ZIP code（郵便番号）が表示される。
(m) Tick to copy your Physical Address to the Postal Address fields：緑の〇をクリックすると(n)に住所の内容が表示される。
(n)郵便住所：数字のみ入力する。

図9　アカウント作成手順4

　必要項目入力をし、図9（入力情報は非表示）の青線で囲んである「REGISTER」をクリックすると図10が表示される。

図10　アカウント作成手順5

　図10のオレンジ線で囲んである箇所に6桁の英語大文字が表示される（情報非表示）。この文字が公報検索する際のUsernameとなる。図8で入力したe-mailアドレスおよび携帯電話にCustomer Codeが登録されたメールが送られてくる。青線で囲んである「CONTINUE」をクリックするとパスワード設定画面が表示される（図11aおよび図11b）。

図11a　アカウント作成手順6（パスワード設定）

図11b　アカウント作成手順6（パスワード設定）

　図11aのオレンジ線で囲んである欄にパスワードを入力する。パスワードは8文字以上、英語大文字を1文字以上含み、英語小文字1文字以上を含み、数字1桁以上を含む必要がある。特殊文字は任意で@、$、!、#、%は使用することができる。上の欄（password）にパスワードを入力し、下の欄（Re-Type Password）は再入力欄である。図11bの青線で囲んである「UPDATE」をクリックすると図12が表示される。

図12　アカウント作成手順7

　図8で入力したe-mailアドレスおよび携帯電話に情報が更新されたメールが送られてくる（passwordは伏せ文字）。図12の青線囲んである「CONTINE」をクリックするとCIPCのe-Serviceのホーム画面（https://eservices.cipc.co.za/Index.aspx）に戻る。なお、CIPCからのメール受信まで時間がかかる場合や不達の場合もあるため、Customer CodeとPasswordは手元に控えておくことを勧める。

(2)アカウントを作成したのち、Companies and Intellectual Property Commission（CIPC) Intellectual Property Onlineのウェブサイト（https://iponline.cipc.co.za/）にアクセスし、図13のオレンジ線または緑線で囲んである「Free Designs Search」をクリックすると、ログイン画面が表示される（図14）。

図13　CIPC Intellectual Property Onlineのトップページ（図4再掲）

図14　ログイン画面（図5再掲）

(3)オレンジ線で囲んである「Username」「Password」欄に入力し、「Log in」をクリックすると、意匠検索画面が表示される。初期設定では「Simple Search」が表示される（図15）。

図15　意匠検索画面

2-1.Simple Search（簡易検索）

図16　Basic Search（簡易検索）意匠

(1) 図16画面のBasic Search（簡易検索）画面のオレンジ線で囲んである「Application Number」に出願番号を入力し、赤線で囲んである「Search」をクリックすると検索結果が表示される（図17）。

図17　検索結果画面

(2) 図17の検索結果の青字の「Application No」(出願番号)をクリックすると出願詳細情報が表示される（図18a、図18b）。

図18a　出願詳細画面1

図18b　出願詳細画面2

　出願詳細画面で確認できる情報は以下のとおり。
・Design number（意匠番号）
・Design articles（意匠の物品名）
・Date of application（出願日）
・Date of acceptance（許可日）
・Release date（リリース日）
・Date of registration（登録日）
・Type of design（意匠の種類）
・Status（ステータス）
・Design Class（意匠分類）
・Statement of features（意匠の特徴の説明）
・Name & address of applicant（出願人名および住所）
・Address for service（代理人住所）
・Design expiry date（満了日）
・Priority/Convention（優先権／条約）
　〇Country、Date、No（国、日付、番号）
・Renewal(s) （更新）
・Correspondence（通信履歴）：特許庁へ提出した書類の履歴が表示される。
・Application History（出願経過情報）

2-2.Advanced Search（詳細検索）
(1) オレンジ線で囲んである「Advanced Search」タブをクリックすると、詳細検索画面が表示される（図19）。

図19　Advanced Search（詳細検索）画面

　詳細検索で設定できる項目は以下のとおり。

・Design Number（意匠番号）
・Design Number（意匠番号）：出願番号を範囲で検索する。
・Design Article（意匠の物品名）
・Application Date（出願日）：入力欄をクリックするとカレンダーが表示される。カレンダーの年月を変更するには、オレンジ線で囲んである部分をクリックする（図20）。
・Registration Date（登録日）：Application Dateの範囲指定と同様。
・Reference Number（参照番号）
・Locarno Class(es)（ロカルノ分類番号）
・Design Type（意匠の種別）
・Design Status（意匠のステータス）
・Address for Service Name（代理人の住所）
・Proprietor Name（所有者名）

図20　Advanced Search（詳細検索）日付選択画面

(2) 例えば出願日を範囲して検索する場合、図20のようにカレンダーで選択またはyyyy-mm-ddで入力し、「Search」をクリックすると検索結果が表示される（図22）。

図21　Advanced Search（詳細検索）出願日範囲指定した例

図22　検索結果

(3) 検索結果の確認方法および確認できる項目は簡易検索と同様であるため、2-1．Simple Search（簡易検索）(2)を参照されたい。

3.留意点
　検索やアカウント作成時に頻繁に接続エラーやタイムアウトになることがある。エラーが続く場合は時間をおいて接続することをお勧めする。

1.公報（Journal）の閲覧
1-1.特許公報
(1) 南アフリカのCompanies and Intellectual Property Commission（CIPC) Intellectual Property Onlineのウェブサイト（https://iponline.cipc.co.za/）にアクセスし、図1のオレンジ線で囲んである「Publications」を選択し、プルダウンメニューから青線で囲んである「Patent Journals」をクリックすると直近のJournalのリストが表示される（図2）。

図1　CIPC Intellectual Property Onlineのトップページ

図2　Journal　リスト画面

(2) 確認したい「Journal（例として、「E_Journal_September 2022 Part 2）」を選択しクリックすると公報のPDFファイルがダウンロードされる（図3a）。

図3a　Patent Journal表紙画面（2022年9月）

(3) ダウンロードしたファイルの「TABLE OF CONTENTS」ページ（図3b）の確認したい項目をクリックすると、該当するページが表示される。例えば、オレンジ線で囲んである「APPLICATIONS FOR PATENTS」をクリックすると出願書誌情報を確認することができる（図3c）。緑線で囲んである「INSPECTION OF SPECIFICATIONS」をクリックすると登録公報詳細情報を確認することができる（図3d）。青線で囲んである「PATENTS」をクリックすると登録公報のリストが表示される（図3e）。

図3b　TABLE OF CONTENTSページ画面

図3c　出願書誌情報（出願公開）画面（特許）

図3d　登録公報詳細情報画面（特許）

　出願書誌情報および登録公報に記載されている情報は、以下のとおり。

(21) Number of application（出願番号）
(22) Date of application（出願日）
(43) Date of acceptance（許可日）
(51) Class（分類記号）
(71) Name of applicant(s)（出願人名）
(72) Name of all inventors（すべての発明者名）
(33) Country（国）
(31) Number convention application（優先権主張番号）
(32) Date of convention application（優先権主張日）
(54) Title of invention（発明の名称）
(00) Number of sheets（シート数（登録公報には要約および代表図のみ表示されている））

図3e　登録公報リスト画面（特許）

　図3eの登録公報リスト画面では、Application Number（出願番号）、Patent Title（特許の名称）、Filing Date（出願日）が表示されている。

2.公報検索
(1) 南アフリカのCompanies and Intellectual Property Commission（CIPC) Intellectual Property Onlineのウェブサイト（https://iponline.cipc.co.za/）にアクセスし、図4のオレンジ線で囲んである「Patents」を選択し、プルダウンメニューから「Free Search」、または緑線で囲んである「Free Patent Search」または緑線で囲んである「Free Patent Search」をクリックするとアカウントを作成するよう指示される（図5から図7）。

図4　CIPC Intellectual Property Onlineのトップページ

図5　アカウント作成手順1

　図5のオレンジ線で囲んである「Create Account」をクリックすると図6が表示される。

図6　アカウント作成手順2

　図6のオレンジ線で囲んである「NO」をクリックすると図7が表示される。

図7　アカウント作成手順3

　図7のオレンジ線で囲まれている「Passport Number」にパスポートの番号を入力し、青線で囲まれている「CONTINUE」をクリックすると図8が表示される。

図8　アカウント作成手順4

　図8の入力項目は以下のとおりである。なお、*印は入力必須項目である。
(a）Surname（苗字）
(b) Name(s)（名前）
(c)ID/Passport Number（ID/パスポート番号）：図7で入力したパスポート番号が表示される（図8は情報非表示）。
(d)Country（国）：Japanを選択すると(k)が「Select province」からState / Provinceを入力する欄に変わる（図9参照）。
(e)Cellphone Number（携帯電話番号）：国コードを含む携帯電話番号（数字のみ）を入力する。
(f)Email Address（emailアドレス）
(g)Re-type Email Address（emailアドレス再入力）
(h)Physical Address（住所）：＊印にポインターをあてると入力すべき内容（Street number and name）が表示される。番地を入力する。
(i) 町名や地名（入力例：Nagata-cho　1-chome）を入力する。
(j) ＊印にポインターをあてると入力すべき内容 Town/City（市町村）が表示される（入力例：Chiyoda-ku）。
(k) ＊印にポインターをあてると入力すべき内容 State/Province（県/地域）が表示される（入力例：Tokyo）。
(l) ＊印にポインターをあてると入力すべき内容 Postal/ZIP code（郵便番号）が表示される。
(m) Tick to copy your Physical Address to the Postal Address fields：緑の〇をクリックすると(n)に住所の内容が表示される。
(n)郵便住所：数字のみ入力する。

図9　アカウント作成手順4

　必要項目入力をし、図9（入力情報は非表示）の青線で囲んである「REGISTER」をクリックすると図10が表示される。

図10　アカウント作成手順5

　図10のオレンジ線で囲んである箇所に6桁の英語大文字が表示される（情報非表示）。この文字が公報検索する際のUsernameとなる。図8で入力したe-mailアドレスおよび携帯電話にCustomer Codeが登録されたメールが送られてくる。青線で囲んである「CONTINUE」をクリックするとパスワード設定画面が表示される（図11aおよび図11b）。

図11a　アカウント作成手順6（パスワード設定）

図11b　アカウント作成手順6（パスワード設定）

　図11aのオレンジ線で囲んである欄にパスワードを入力する。パスワードは8文字以上、英語大文字を1文字以上含み、英語小文字1文字以上を含み、数字1桁以上を含む必要がある。特殊文字は任意で@、$、!、#、%は使用することができる。上の欄（password）にパスワードを入力し、下の欄（Re-Type Password）は再入力欄である。図11bの青線で囲んである「UPDATE」をクリックすると図12が表示される。

図12　アカウント作成手順7

　図8で入力したe-mailアドレスおよび携帯電話に情報が更新されたメールが送られてくる（passwordは伏せ文字）。図12の青線囲んである「CONTINE」をクリックするとCIPCのe-Serviceのホーム画面（https://eservices.cipc.co.za/Index.aspx）に戻る。なお、CIPCからのメール受信まで時間がかかる場合や不達の場合もあるため、Customer CodeとPasswordは手元に控えておくことを勧める。

(2) アカウントを作成したのち、Companies and Intellectual Property Commission（CIPC) Intellectual Property Onlineのウェブサイト（https://iponline.cipc.co.za/）にアクセスし、図13のオレンジ線または緑線で囲んである「Free Patent Search」をクリックすると、ログイン画面が表示される（図14）。

図13　CIPC Intellectual Property Onlineのトップページ（図4再掲）

図14　ログイン画面（図5再掲）

　オレンジ線で囲んである「Username」「Password」欄に入力し、「Log in」をクリックすると、特許検索画面が表示される。初期設定では「Simple Search」が表示される（図15）。

図15　特許検索画面

2-1.Simple Search（簡易検索）

図16　Basic Search（簡易検索）

(1) 図16画面のBasic Search（簡易検索）画面のオレンジ線で囲んである「Application Number」に出願番号を入力し、赤線で囲んである「Search」をクリックすると検索結果が表示される（図17）。

図17　検索結果画面

(2) 図17の検索結果の青字の「Application No」(出願番号)をクリックすると出願詳細情報が表示される（図18aから図18c）。

図18a　出願詳細画面1

図18b　出願詳細画面2

図18c　出願詳細画面3

　出願詳細画面で確認できる情報は以下のとおり。
・Patent number（特許番号）
・Title of invention（発明の名称）
・Date of application（出願日）
・Date of acceptance（許可日）
・Date of expiry（満了日）
・Date of grant（登録日）
・Type of patent（特許の種類）
・Status（ステータス）
・IPC Class（国際特許分類）
・Patent abstract（特許　要約）：表示されない。
・Inventors（発明者）
・Name & address of applicant（出願人名および住所）
・Address for service（代理人住所）
・Assignee(s)（譲受人）
・Priority/Convention（優先権／条約）
　〇Country、Date、No.（国、日付、番号）
・International patent number（国際出願番号）
・International filing date（国際出願日）
・Renewal(s)（更新）
・Correspondence（通信履歴）：特許庁へ提出した書類の履歴が表示される。
・Application History（出願経過情報）

2-2.Advanced Search（詳細検索）
(1) オレンジ線で囲んである「Advanced Search」タブをクリックすると、詳細検索画面が表示される（図19）。

図19　Advanced Search（詳細検索）画面1

　詳細検索で設定できる項目は、以下のとおり。
・Application Number（出願番号）
・Application Number（出願番号）：出願番号を範囲で検索する。
・Title of Invention（発明の名称）
・Application Date（出願日）：入力欄をクリックするとカレンダーが表示される。カレンダーの年月を変更するには、オレンジ線で囲んである部分をクリックする（図20）。
・Grant Date（登録日）：Application Dateの範囲指定と同様。
・Reference Number（参照番号）
・Patent Type（特許の種類）
・Patent Status（ステータス）：プルダウンメニューで指定できる。
　〇Abandoned（放棄）
　〇Accepted（許可）
　〇Advertised（公告）
　〇Application never completed（出願不完全）
　〇Definitely lapsed（完全失効）
　〇Deemed Withdrawn（みなし取下げ）
　〇Expired（期限満了）
　〇Granted（登録）
　〇Lapsed-non payment（失効-未払い）
　〇Lapsed-not published（失効-非公開）
　〇Pending（審査中）
　〇Refused（拒絶）
　〇Revoked（取消し）
　〇Stopped by applicant（出願人による中止）
　〇Surrendered（放置）
　〇Unpaid（未払い）
　〇Withdrawn（取下げ）
・IPC Classification（国際特許分類）
・PCT Number（PCT国際出願番号）
・Address for Service Name（代理人住所）
・Applicant/Patentee（出願人／特許権者）
・Inventor Name（発明者名）

図20　Advanced Search（詳細検索）日付選択画面

(2) 例えば出願日を範囲指定して検索する場合、図20のようにカレンダーで選択またはyyyy-mm-ddで入力し、「Search」をクリックすると検索結果が表示される（図22）。

図21　Advanced Search（詳細検索）出願日範囲指定した例

図22　検索結果

(3) 検索結果の確認方法および確認できる項目は簡易検索と同様のため、2-1．Simple Search（簡易検索）(2)を参照されたい。

3.留意点
　検索やアカウント作成時に頻繁に接続エラーやタイムアウトになることがある。エラーが続く場合は時間をおいて接続することをお勧めする。

【詳細】

1.特許公報の調べ方

(1)南アフリカ特許庁(Companies and Intellectual Property Commission)のウェブサイトhttp://patentsearch.cipc.co.za/home/default.aspx　（英語版）にアクセスすると以下の画面が表示されるので「Search Patent」をクリックします（囲い1）。検索画面として簡易検索「Basic Search」と上級検索「Advanced Search」が用意されています。

 

(2)Basic Searchでは、検索ボックスが表示されます。発明の名称もしくは発明者のキーワード検索（英語）のみが検索可能です。Search Optionsのチェックボックスで発明の名称もしくは発明者のいずれを検索するか選択します。

 

(3)Advanced Searchでの検索項目は、Patent Number（特許番号）　*範囲検索可能、Reference no.（リファレンス番号）、Date of Application（出願日）、Date of Grant（特許付与日日）、Type of Patent（種別）、Patent Status（ステータス）、Title of Invention（タイトル）、IPC Classification（国際特許分類）、PCT Number（PCT特許番号）、Agent（代理人）、Applicant/Patentee（出願人/特許権者）、Inventor（発明者）となっています。複数の検索項目を入力して検索を実行すると入力項目のAND検索となります。検索項目間のOR検索はできません。

 

【検索項目】

• Patent Number　（特許番号）
• Reference no.　（リファレンス番号）
• Date of Application　（出願日）
• Date of Grant　（特許付与日）
• Type of Patent　（種別）
• Patent Status　（ステータス）
• Title of Invention　（タイトル）
• IPC Classification　（国際特許分類）
• PCT Number　（PCT特許番号）
• Agent　（代理人）
• Applicant/Patentee　（出願人/特許権者）
• Inventor　（発明者）

 

(4)検索結果

検索結果は、下記に示す一覧の形式で表示されます。表示される項目は、patent no.（特許番号）、patent type（種別）、application date（出願日）、grant date（特許付与日）、title of invention（発明の名称）の5項目です。また、検索結果一覧の右端には、「View」として詳細項目へのリンク、印刷用アイコンと印刷対象のチェックボックスが用意されています。印刷対象とするレコードにチェックをいれて印刷用アイコンを押すと各レコードの詳細項目を印刷することができます（囲い3）。

 

詳細項目の表示画面において、特許が付与された出願に対しては、「Details(詳細項目)」以外にも、「Abstract（要約）」、「Description（詳細な説明）」、「Claims（特許請求の範囲）」、「Drawing（図面）」、「Sequence Listing（配列表）」などの表示用のタブが用意されていますが、2016年3月時点では、詳細項目以外のタブで、書類が表示されるケースは確認できません。表示される詳細項目は、出願および特許付与に関する情報、特許権者、発明者、優先権情報、発明の名称、手続代理人情報の他、特許年金の納付状況（囲い4）および出願審査経過（囲い5）も表示されます。

 

2.意匠公報の調べ方

(1) なお、意匠検索も基本的に機能などは特許と同等であるが、南アフリカ特許庁(Companies and Intellectual Property Commission)のウェブサイトhttp://patentsearch.cipc.co.za/home/default.aspx　（英語版）にアクセスし、以下の画面が表示されるので「Search Design」をクリックします（囲い6）。特許検索と同様、検索画面として簡易検索「Basic Search」と上級検索「Advanced Search」が用意されています。

 

(2)検索方法に関しては、特許検索と同様です。特許検索と意匠検索の違いのひとつとして、検索対象の意匠の種別について、Part A（美的意匠：Aesthetic Designに関するA 部）またはPart F（機能的意匠：Functional Designに関するF 部）の何れかを選択することが可能です。簡易検索「Basic Search」においても、検索キーワードとともに、Part AまたはPart Fのいずれかを選択することができます（囲い7）。

 

(3)Advanced Searchでの検索項目は、Application Number（出願番号）、Reference no.　（リファレンス番号）、Date of Application（出願日）、Date of Grant（権利付与日）、Type of Design（種別）、Design Status　（ステータス）、Title（名称）、Design Classification（意匠分類）、Agent（代理人）、Applicant（出願人）となっています。

 

【検索項目】

• Application Number　（出願番号）
• Reference no.　（リファレンス番号）
• Date of Application　（出願日）
• Date of Grant　（権利付与日）
• Type of Design　（種別）　* Part A（美的意匠に関するA 部）、Part F（機能的意匠に関するF 部）
• Design Status　（ステータス）
• Title　（名称）
• Design Classification　（意匠分類）
• Agent　（代理人）
• Applicant　（出願人）

 

詳細項目の表示画面の構成は、基本的に特許と同様で、意匠年金の納付状況および出願審査経過も表示されます。特許の場合と異なり、意匠権利付与の場合であっても、「Details(詳細項目)」以外のタブは用意されていません。詳細項目の表示画面において、表示される詳細項目は、出願および意匠権の付与に関する情報、意匠権者、優先権情報、名称、手続代理人情報の他、意匠年金の納付状況（囲い8）および出願審査経過（囲い9）も表示されます。

 

【留意事項】

　南アフリカ特許庁のウェブサイトより、南アフリカ特許の検索を行うことができるものの、データベースの収録もれの可能性が皆無とはいえず、たとえ収録されていても、名義の表記ゆれや用語の不統一、通常とは異なる特許分類が付与されているなどの理由から、意図する検索ではヒットしない場合があります。したがって、南アフリカにおいて問題になる特許がないか否かの判断は、特許庁データベースの検索結果のみに頼らず、他国での特許調査の結果を参考にしたり、専門家に相談して調査を実施するなどして、複数の観点から判断することが望ましいと考えられます。