新興国等知財情報データバンク 公式サイト

記事本文はこちらをご覧ください。

記事本文はこちらをご覧ください。

1. 出願ルート
　シンガポールでは、特許権、意匠権、商標権を取得するために、以下のルートにより出願することができる。また、特許、意匠、商標について、国際出願ができる。

［シンガポールにおける出願ルート］

	直接出願	国際出願	広域出願
特許	可	可	不可
実用新案	–	–	–
意匠	可	可	不可
商標	可	可	不可

＜諸外国・地域・機関の制度概要および法令条約等＞
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html

2. 法令・制度等
(1) 主な法律

法域	法律・規則（公用語）／（英語） a: 法律・規則等の名称 b: 主な改正内容 URL:	改正年 (YYYY)	施行日 (DD/MM/ YYYY)
特許	（公用語・英語） a: Singapore Patents Act 1994（シンガポール特許法） b：Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019）により、シンガポール特許法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。 1. 登録の有効性証明書の付与が裁判所だけでなく登録官も付与可能となった(特許法第72条)。 2. 裁判における示談の徴収金額について上限が定められた(特許法第103条)。 URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/PA1994 【参考】Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019） https://sso.agc.gov.sg/Acts-Supp/23-2019/Published/20190911?DocDate=20190911	2019	10/06/2022 (最終施行日)
	（日本語） a: シンガポール特許法 URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaik当oku/document/mokuji/singapore-tokkyo.pdf
	（公用語・英語） a: Singapore Patents Act 1994（シンガポール特許法） b： Intellectual Property (Amendment) Act 2022  (Act No. 7 of 2022)により、シンガポール特許法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。 1. 実質的な応答の必要がなく、軽微な補正で対処できる場合には、審査官は、見解書に代えて補正指令書を出願人に提供して、補正を求めることができるようになった（特許法第29条(7B)）。 2. 再審理の請求時に、すべての未解決の拒絶理由を解消する目的で補正書が提出された場合には、審査官は、従前の審査報告書に同意するか否かを明記する必要がなくなった（特許法第29B条(4A)）。 3. シンガポール知的財産庁が調査の最終結果または英語による国際調査報告書を作成し、かつ報告書が事前に出願人に送付されている場合には、出願人は、審査請求時に調査結果の写しを提出する必要がなくなった（特許法第29条(1)(c)）。 4. 英語以外の言語で出願された国際出願の国内段階への移行時に、英訳の公開を求める申請書の提出および英訳の公開手数料が廃止された（特許法第86条(6)）。 5. 登録官は、第三者からの請求がない場合であっても、裁量によって、公開された出願に関する一切の情報および書類を公開することができるようになった（特許法第108条(1A)）。 URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/PA1994 【参考】Intellectual Property (Amendment) Act 2022 (Act No. 7 of 2022) https://www.wipo.int/wipolex/en/text/587162	2022	26/05/2022
	（日本語） a: シンガポール特許法 URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaik当oku/document/mokuji/singapore-tokkyo.pdf
	（公用語・英語） a: Singapore Patent Rules（シンガポール特許規則） b: 2022年改正特許法が施行され、これにより特許規則が改正された。主な改正点は以下のとおりである。 1. 要約に添付する図の数が2つまでに制限された（特許規則22(6)） 2. 所定の書類の提出義務が削除された（特許規則26(4A)）。例えば、特許出願が先の出願を参照する場合、先の出願に関する書類が以前に提出されていれば、先の出願と対応する書類の複写の提出は不要となる。 3. 配列リストを提出する際に、WIPO 標準で要求される配列リストの提出が必要となった（特許規則19A）。 4. 出願が、単一性の要件を満たさない場合、最初の発明のみに審査が制限されることになった（特許規則45(1A)）。 URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/PA1994-R1 【参考】Patents(Amendment NO. 2) Rules 2022 https://sso.agc.gov.sg/SL-Supp/S399-2022/Published/20220523?DocDate=20220523#pr25-	2022	26/05/2022
	（日本語） a: シンガポール特許規則 URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-tokkyo_kisoku.pdf
	関連記事：シンガポールにおける特許制度のまとめ－手続編（2022.12.01） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27217/ 関連記事：シンガポールにおける特許制度のまとめ－実体編（2020.05.19） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18575/ 関連記事：「シンガポールにおける知的財産法改正について」（2023.03.16） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/34012/ 関連記事：「シンガポールの法令へのアクセス方法―AGCウェブサイト」（2023.11.14） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37646/ 関連記事：シンガポールにおける特許公報へのアクセス方法（2022.10.25） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/26817/ 関連記事：「シンガポールにおける特許出願制度概要」（2019.07.25） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17577/ 関連記事：「シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等」（2021.05.11） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19849/ 関連記事：「シンガポールにおける特許、意匠年金制度の概要」（2022.11.15） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/27089/ 関連記事：シンガポールにおける特許審査迅速化の方法（2023.02.14） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/33773/
意 匠	（公用語・英語） a: Singapore Registered Designs Act 2000（シンガポール意匠法） b：Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019）により、シンガポール意匠法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。 1. 登録の有効性証明書の付与が裁判所だけでなく登録官も付与可能となった（意匠法第43条）。 2. 裁判における示談の徴収金額について上限が定められた（意匠法第68条）。 URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/RDA2000 【参考】Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019） https://sso.agc.gov.sg/Acts-Supp/23-2019/Published/20190911?DocDate=20190911	2019	10/06/2022 (最終施行日)
	（日本語） a:シンガポール意匠法 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-ishou.pdf
	（公用語・英語） a: Singapore Registered Designs Act（シンガポール意匠法） b: Intellectual Property (Amendment) Act 2022 (Act No. 7 of 2022) により、シンガポール意匠法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。 1. パリ条約出願の優先権の主張において、組物の意匠も対象とされることが明記された（意匠法第12条(1)(a)）。 2. 意匠権の部分放棄が明記された（意匠法第30A条(1)）。 3. 登録意匠の虚偽表示に関して組物の意匠が明記された（意匠法第66条(1)）。 4. 申請、通知または書類の修正に関して登録官が公開できることが明記された（意匠法74条(2A)）。 URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/RDA2000 【参考】Intellectual Property (Amendment) Act 2022 (Act No. 7 of 2022) https://www.wipo.int/wipolex/en/text/587162	2022	26/05/2022
	（日本語） a:シンガポール意匠法 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-ishou.pdf
	（公用語・英語） a: Singapore Registered Designs Rules（シンガポール意匠規則） b: 2022年改正意匠法が施行され、これにより意匠規則が改正された。主な改正点は以下のとおりである。 1. 権利者は、登録された意匠によって付与された特定の特徴に関する権利を自発的に放棄することができるようになった（意匠規則14A）。 2. 失効した権利の回復期間が、6か月から2か月へ短縮された（意匠規則 25(2)(a)）。 3. 優先権主張を伴った出願の出願人は、登録官が要求した日から 3 月以内に、優先権基礎出願の出願番号を提出しなければならない（意匠規則19(2AA)）。 URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/RDA2000-R1 【参考】 Registered Designs (Amendment NO. 2) Rules 2022 （2022年意匠規則改正条項） https://sso.agc.gov.sg/SL-Supp/S402-2022/Published/20220523?DocDate=20220523	2022	26/05/2022
	（日本語） a: シンガポール意匠規則 URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-ishou_kisoku.pdf
	関連記事：「シンガポールにおける意匠登録出願制度概要」（2019.7.30） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17579/ 関連記事：「シンガポールの意匠関連の法律、規則等」（2019.04.02） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16806/ 関連記事：「シンガポールにおける意匠公報へのアクセス方法」（2024.02.06） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/38195/ 関連記事：「シンガポールにおける意匠登録の機能性および視認性」（2018.10.04） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15931/ 関連記事：「シンガポールにおける意匠の公開延期請求について」（2019.09.05）  https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17676/ 関連記事：「日本とシンガポールの意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較」（2015.09.25） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/9296/ 関連記事：「日本とシンガポールにおける意匠権の権利期間および維持に関する比較」（2015.03.31） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8454/
商標	（公用語・英語） a: Singapore Trade Marks Act 1998（シンガポール商標法） b：Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019）により、シンガポール商標法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。 1. 登録の有効性証明書の付与が裁判所だけでなく登録官も付与可能となった(商標法第102条)。 2. 裁判における示談の徴収金額について上限が定められた(商標法第105A条)。 URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/TMA1998 【参考】Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019） https://sso.agc.gov.sg/Acts-Supp/23-2019/Published/20190911?DocDate=20190911	2019	10/06/2022 (最終施行日)
	（日本語） a: シンガポール商標法 URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-shouhyou.pdf
	（公用語・英語） a: Singapore Trade Marks Act 1998（シンガポール商標法） (Chapter 332, Revised Edition 2005) b: Intellectual Property (Amendment) Act 2022 (Act No. 7 of 2022) により、シンガポール商標法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。 1. 国内の商標出願を対象とした部分登録制度が導入され、拒絶された商品または役務のみが取り下げられるか、拒絶されることになった（第12条(4)(b)）。 2. 取下げとされた出願の手続継続に関して規則で制定することができるとされ、商標出願が取り下げられた日から6か月以内に、出願継続の請求をすることができる期間が短縮された（第108条(ia)）。 URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/TMA1998 【参考】Intellectual Property (Amendment) Act 2022 (Act No. 7 of 2022) https://www.wipo.int/wipolex/en/text/587162	2022	26/05/2022
	（日本語） a: シンガポール商標法 URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-shouhyou.pdf
	（公用語・英語） a: Singapore Trade Marks Rules（シンガポール商標規則） b: 2022年改正商標法が施行され、これにより商標規則が改正された。 1. 出願人は、出願が取り下げられたとみなされた日から 2か月以内に、出願手続を継続するように登録官に請求を行うことができることとされた（商標規則77AA(2),(3)(a)）。 2. 拒絶理由通知に対して応答しない場合、従来は出願全体が取り下げられたものとされていたが、改正により拒絶理由通知を受けた商品・役務のみが取下げられたものとして扱われ、残りの商品・役務に関する出願手続は続行されることとなった（商標規則24(2)）。 URL: https://sso.agc.gov.sg//SL/332-R1?DocDate=20220523 【参考】 Trade Narks (Amendment NO. 2) Rules 2022 （2022年商標規則改正条項） https://sso.agc.gov.sg/SL-Supp/S403-2022/Published/20220523?DocDate=20220523	2022	26/05/2022
	（日本語） a:シンガポール商標規則 URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-shouhyou_kisoku.pdf
	関連記事：シンガポールにおける商標制度のまとめ－手続編（2020.09.03） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19446/ 関連記事：シンガポールにおける商標制度のまとめ－実体編（2020.06.09） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18623/ 関連記事：シンガポールにおける商標公報へのアクセス方法（2022.10.25） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/26789/ 関連記事：シンガポールにおける商標のコンセント制度について（2023.01.05） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27455/ 関連記事：シンガポールにおける英語以外の言語を含む商標の出願（2021.06.29） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20345/ 関連記事：シンガポールにおける顧客に好まれない商標および顧客に好まれる商標（2024.01.25） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/38116/ 関連記事：シンガポールにおける商標の識別性に関する調査（2021.09.02） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20809/
著作権法	（公用語・英語） a: Singapore Copyright Act（シンガポール著作権法） b: 2021年9月に可決され2021年11月21日に施行された改正法 URL: https://sso.agc.gov.sg/Acts-Supp/22-2021/Published/	2021	21/11/2021
	（日本語） なし 【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2021/sg/20211126.pdf
不正競争	（公用語・英語） シンガポールには、日本の不正競争防止法のような営業秘密等の 保護を規定する明確な法律は存在せず、営業秘密は判例法により保護されている。 【参考】https://www.meti.go.jp/policy/economy/chizai/chiteki/pdf/outreach_r3_singapore.pdf	―	―
	（日本語） なし

(2) 審査基準等

	審査基準、ガイドライン、マニュアル等 a: 審査基準等の名称 URL:	最終更新 b:(DD/MM/ YYYY)
特許	（公用語・英語） a: Examination Guidelines（審査ガイドライン） URL: https://www.ipos.gov.sg/docs/default-source/resources-library/patents/guidelines-and-useful-information/examination-guidelines-for-patent-applications.pdf	02/06/2022
	（日本語） なし
	（公用語・英語） a: Patents Formalities Manual（特許方式マニュアル） URL: https://www.ipos.gov.sg/docs/default-source/resources-library/patents/guidelines-and-useful-information/patents-formalities-manual.pdf	02/06/2022
	（日本語） なし
	関連記事：「シンガポールにおけるコンピュータソフトウエア関連発明等の特許保護の現状」（2019.01.15） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16391/ 関連記事：「シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等」（2021.05.11）  https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19849/ 関連記事：「シンガポールにおける特許審査基準関連資料」（2016.02.09） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10279/
意匠	シンガポール意匠は実体審査が行われないため、審査基準等は用意されていない。
商標	（公用語・英語） a: Trade Marks Work Manual（商標作業マニュアル） URL:https://www.ipos.gov.sg/about-ip/trade-marks/managing-trade-marks/guides	08/2018
	（日本語） なし
	関連記事：「シンガポールの商標関連の法律、規則、審査基準等」（2021.05.11） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19846/ 関連記事：「シンガポールにおける商標審査基準関連資料」（2016.02.19） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10281/

(3) 主な条約・協定（加盟状況）

条約名	加盟	加盟予定 (YYYY)	未加盟
(1) パリ条約 　(工業所有権の保護に関するパリ条約)	☒	☐ (     )	☐
(2) PCT 　(特許協力条約)	☒	☐ (     )	☐
(3) TRIPs 　(知的所有権の貿易関連の側面に関する協定)	☒	☐ (     )	☐
(4) PLT 　(特許法条約)	☐	☐ (     )	☒
(5) IPC 　(国際特許分類に関するストラスブール協定)	☒	☐ (     )	☐
(6) ハーグ協定 　(意匠の国際登録に関するハーグ協定)	☒	☐ (     )	☐
(7) ロカルノ協定 　(意匠の国際分類を定めるロカルノ協定)	☐	☐ (     )	☒
(8) マドリッド協定 　(標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書)	☒	☐ (     )	☐
(9) TLT 　(商標法条約)	☐	☐ (     )	☒
(10) STLT 　(商標法に関するシンガポール条約)	☒	☐ (     )	☐
(11) ニース協定 　(標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定)	☒	☐ (     )	☐
(12) ベルヌ条約 　(文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約)	☒	☐ (     )	☐
(13) WCT 　(著作権に関する世界知的所有権機関条約)	☒	☐ (     )	☐
(14) WPPT 　(実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約)	☒	☐ (     )	☐

3. 料金表
[情報1]

（公用語・英語） Title: First Schedule (After Rule 120) of the “Patents Rules” URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/PA1994-R1

（日本語） Title: シンガポール特許規則、附則1「手数料」 URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-tokkyo_kisoku.pdf

（公用語・英語） Title: Forms & Fees（様式および手数料） URL: https://www.ipos.gov.sg/about-ip/form-fees

（日本語） なし

関連記事：「シンガポールにおける特許、意匠年金制度の概要」（2022.11.15） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/27089/ 関連記事：「シンガポールにおける特許ライセンス」（2018.06.28） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/15376/

1. 背景
　シンガポールにおいて、発明が新規とみなされるのは、シンガポール特許法（以下、「特許法」という。）の第14条(2)項に定義される「技術水準」の一部を構成しない場合である。

シンガポール特許法 第14条　新規性 (1) 発明は、それが技術水準の一部を構成しない場合は、新規とみなされる。 (2) 発明の場合の技術水準とは、その発明の優先日前の何れかの時点で書面若しくは口述による説明、使用又は他の方法により（シンガポールにおいてか他所においてかを問わず）公衆の利用に供されているすべての事項（製品、方法、その何れかに関する情報又は他の何であるかを問わない）を包含するものと解する。 (3) 特許出願又は特許に係わる発明の場合の技術水準とは、次の条件が満たされるときは、その発明の優先日以後に公開された他の特許出願に含まれる事項をもまた包含するものと解する。 (a) 当該事項が当該他の特許出願に、出願時にも、公開時にも、含まれていたこと、及び (b) 当該事項の優先日が当該発明の優先日よりも早いこと （(4)以下省略）

　一方、特許法第14条(4)項は、シンガポールにおいて発明の新規性評価の際に無視される特定の種類の開示に関して、12か月の猶予期間を規定している。この12か月の猶予期間は、優先日（該当する場合）ではなく、シンガポールにおける特許出願日から起算することに注意すべきである。

2. 新規性評価から除外される開示
2-1. 不法な開示または秘密漏洩による開示
　特許法第14条(4)項(a)および(b)は、あらゆる者によるあらゆる不法または不正な開示は新規性評価から除外されると規定している。日本の特許法に基づく要件と同様に、この例外規定に依拠するには、開示が不法または不正なものであった（即ち、不法な方法もしくは秘密漏洩により情報が入手された、または秘密漏洩により情報が開示された）という証拠を示す必要がある。シンガポールの法律は出願の提出後すぐにかかる証拠を提出することを義務づけていないが、IPOS（Intellectual Property Office of Singapore）は、先行開示が実際に不法または不正なものであったと納得できるように（宣誓供述書その他の証拠に基づく）証明を要求する場合がある。したがって、発明者または出願人は、発明に関する情報または文書に「秘密」の表示が確実に付されるように手段を講じることが望ましい。さらに重要な点として、かかる情報または文書（秘密情報）が限定された目的のためだけに提供されるものであって、他の目的への当該秘密情報の使用は不正使用となることを、当該秘密情報の受領者に確実に認識させるための手段を講じるべきである。

2-2. 国際博覧会での開示
　特許法第14条(4)項(c)において、国際博覧会で発明者により行われたあらゆる開示は新規性評価の際に無視されると規定されている。「国際博覧会」の範囲は、特許法第2条(1)項において、下記のように狭義に定義されている。

シンガポール特許法 第2条　定義 (1) 本法では、文脈上他に要求されない限り、 （途中省略）「国際博覧会」とは、国際博覧会に関する条約の規定に該当するか又は同条約に代わるその後の条約の規定に該当する公式又は公認の国際博覧会をいう。 （以下省略）

　実際問題として、この例外規定に依拠するのは難しい。なぜなら、「国際博覧会」の狭義の定義に該当する博覧会は、極めて少ないためである。博覧会国際事務局のウェブサイト（https://www.bie-paris.org/site/en）において、「国際博覧会」として指定された博覧会には「万国博覧会」、「専門博覧会」、「園芸博覧会」、「ミラノ・トリエンナーレ装飾芸術・近代建築展」の4種類があり全博覧会が掲載されている。

　この例外規定を利用するには、2017年10月の法改正以前は、シンガポール出願の提出時にIPOSに対し手続が必要であったが、現在は、事後の届出で足りることとなった（シンガポール特許出願審査ガイドライン（以下、「ガイドライン」という。）第3章3.113）。出願人は、出願にかかる発明が国際博覧会において開示された旨を述べるとともに、国際博覧会の開会日、開会日が最初の開示を行った日と異なる場合には最初の開示を行った日の特定、そして発明が国際博覧会で展示されたことを示す1件以上の証拠を添付する必要がある（シンガポール特許規則（以下、「特許規則」）という。）8(1)(b)）。

2-3. 学会発表における開示
　特許法第14条(4)項(d)において、学会（learned society）において、書面による発明に関する解説が発明者により発表された場合、もしくは発明者の同意の下または発明者の代理として他人が発表した場合は、新規性評価の際に無視されると規定されている。特許法の解釈上、「学会」とは次のものを含む。

シンガポール特許出願審査ガイドライン 第3章 3.126 「学会」には、シンガポールまたは他のあらゆる場所で設立されたあらゆる会員制組織または団体であって、その主な目的がいずれかの学問または科学技術の振興であるものが含まれる。 （以下省略）

　さらに、具体的な規定がガイドライン第3章3.126-3.128項に設けられており、一部を抜粋すると「例として政府の部局、大学の部門、または企業の開催する会議は学会に該当しない。その一方、the Royal Society of Chemistry（英国王立化学会）やIEEE（Institute of Electrical and Electronics Engineers、米国電気電子学会）の開催する会議は一般的に学会と判断される。」と規定されている。

2-4. 発明者により行われた開示、または発明者から直接的または間接的に発明の主題を知った者が行うあらゆる開示

　2017年10月の法改正により、特許法第14条(4)項(e)において、発明者により行われた開示、または発明者から直接的または間接的に発明の主題を知った者が行うあらゆる開示について、特許法第14条(6)項および(7)項に該当する場合、新規性喪失の例外規定の適用とする旨、規定されている。

　特許法第14条(6)項および(7)項においては、例外規定の適用を受けられる知的財産行政庁による公開類型を規定している。

例えば、
①発明者の同意を得ずに、発明者から直接的または間接的に発明の主題を知った者が行った出願が公開になった場合
②出願公開前に取下げ、拒絶、放棄になり、シンガポールまたはそれ以外の法律に基づき公開の必要がないにも拘らず、出願が誤って公開になった場合
③シンガポールまたはそれ以外の法律に基づき誤って所定の公開・公告時期よりも早く開示された場合。その場合、所定の公開・公告時期に開示されたものとして取り扱う。

　上記②、③の場合であって海外の知的財産行政庁が関わる場合には、誤って公開になったことの確認、および上記③の場合には所定の公開・公告時期に関する情報を含む、海外の知的財産行政庁による確認書面を提出する必要がある（特許規則8(1)(c)）。

　特許法第14条(4)項(e)は、発明者自身による開示行為、および発明者から直接的または間接的に発明の主題を知った者が行う開示行為を包括的に例外規定の適用対象としつつ、特許法第14条(6)項および(7)項において、知的財産行政庁（各国の特許庁や国際機関を含む）による公開類型に制限をかけ、例えば、出願人が自ら行った出願が出願公開になった場合に新規性喪失の例外規定の適用とならないようにしている（ガイドライン第3章3.110項）。

3. 新規性喪失の例外規定の適用手続
3-1. 適用申請の時期
　以下に示すいずれかの時期に適用申請を行うことができる（ガイドライン第3章3.113）。

①サーチ・審査請求時
②審査請求時
③サーチ・審査報告または審査報告に対する再審理（review）請求時
④審査官の指令に対する応答時

3-2. 適用申請の必要書類
　宣誓書／宣誓供述書の形式で必要な証拠を添付して適用申請を行うものとする（特許規則8(1)(a)）。

4. 新規性喪失の例外規定の適用対象となる開示行為
　2017年10月の法改正点については、新規性喪失に至る開示行為が2017年10月30日以降に行われた場合に適用となる。開示行為が2017年10月30日よりも前に行われた場合には、シンガポールでの特許出願が2017年10月30日以降に行われた場合であっても、改正法に基づく新規性喪失の例外規定は適用されない（ガイドライン第3章3.120）。

【留意点】
　シンガポールでは、2017年10月の改正により、発明者により行われた開示、または発明者から直接的または間接的に発明の主題を知った者が行うあらゆる開示を包括的に対象とすべく、発明の新規性喪失の例外規定の適用範囲が拡大された。IPOSは、発明の新規性喪失の例外規定の拡大は、発明が出願に先立って公知となった場合の限定的なセーフティネットを提供するものに過ぎないとし、公知とする前に出願することを推奨していることに留意されたい。

　「ASEANにおける産業財産権の検索データベースの調査 2022」（2023年3月、日本貿易振興機構　バンコク事務所（知的財産部））

「ASEANにおける産業財産権の検索データベースの調査2022」（2023年3月、日本貿易振興機構　バンコク事務所（知的財産部））第５章 シンガポール

（目次）
第５章 シンガポール　P.163
（シンガポール知的財産庁（IPOS）のデータベースであるIPOS Digital Hubシステム上の特許の案件データに基づき、2022年に公開された出願を対象とし算出した「出願から公開までに要した期間」、および2022年に登録された案件を対象とし算出した「出願から登録までに要した期間」について紹介している。また、2004年から2022年に①公開された案件、および②登録された案件について、それぞれ、①出願から公開まで、および②出願から登録までの経過期間の分布を、全案件、出願人国籍別、出願ルート別、技術分野別にグラフで紹介している。加えて、2019年から2021年までの各年の出願を対象とし算出した、全出願人を対象とした出願件数上位ランキング、日本国籍出願人を対象とした出願件数上位ランキング、技術分野別の出願件数上位ランキング、外国出願人のシンガポール第一国出願の出願件数上位ランキングを紹介している。さらに、2003年から2022年までの各年の出願についての2023年1月時点での登録率を紹介している。）

１． 特許　P.163
１．１ 産業財産権の権利化期間　P.163
１．２ 産業財産権の出願件数上位リスト　P.185
１．３ 登録率　P.191

1. 記載個所
　発明の新規性については、シンガポール特許法第14条に規定されている。

第14条　新規性 (1) 発明は、それが技術水準の一部を構成しない場合は、新規とみなされる。 (2) 発明の場合の技術水準とは、その発明の優先日前の何れかの時点で書面若しくは口述による説明、使用又は他の方法により（シンガポールにおいてか他所においてかを問わず）公衆の利用に供されているすべての事項（製品、方法、その何れかに関する情報又は他の何であるかを問わない）を包含するものと解する。 (3) 特許出願又は特許に係わる発明の場合の技術水準とは、次の条件が満たされるときは、その発明の優先日以後に公開された他の特許出願に含まれる事項をもまた包含するものと解する。 (a) 当該事項が当該他の特許出願に、出願時にも、公開時にも、含まれていたこと、及び (b) 当該事項の優先日が当該発明の優先日よりも早いこと （(4)以下省略）

第3章　新規性 A. 法廷要件（3.1-3.4） B. 先行技術（3.5-3.10） 　　i. 第三者による自明性（3.11-3.17） C. 先行開示（3.18-3.24） D. 実施可能性（3.25-3.29） E. 公開物（3.30-3.38） F. 黙示的開示（3.39-3.41） G. 必然的な開示（3.42-3.48） H. 誤った引用（3.49-3.53） I. 予測される開示（3.54-3.56） J. 範囲の予測性（3.57-3.59） K. パラメータクレームの予測性（3.60-3.61） L. 用途クレームの予測性（3.62-3.72） M. 先行使用（3.73-3.79） N. 第14条 (3)に基づく先行技術（3.80-3.84） O. 優先日（3.85-3.109） P. 新規性の例外（グレースピリオド）（3.110-3.125） 　　i.学会（3.126-3.128）

（前編から続く）

5.　請求項に係る発明と引用発明との対比
5-1. 　対比の一般手法
　特許・実用新案審査基準（日本）の第III部第2章第3節「4.1 対比の一般手法」に対応するシンガポール特許審査基準の記載は、以下のとおりである。

(1) 対応する事項が記載された審査基準の場所
　シンガポール特許審査基準第2章2.12、2.5、第3章3.20、3.26、3.3、3.4

(2) 異なる事項または留意点
　シンガポール特許審査基準には、日本の審査基準にあるような審査官の具体的な審査手順は規定されておらず、裁判例に基づいたクレームや新規性の解釈および考え方が主に述べられている。

　新規性の判断について、シンガポールの裁判所は英国の判例に従ってきた。英国のアプローチに関する最新の解説（SmithKline Beecham Plc’s (Paroxetine Methanesulfonate) Patent [2006] RPC 10）では、英国貴族院の判断として、事前開示と実施可能性の2つが予測性の要件とされている。この2つは別々の概念で、独自の規則があり、それぞれに充足する必要がある（第3章3.4）。

　すなわち、シンガポールでは開示の予測性の要件として、事前開示と実施可能性の2つがあるが、事前開示については、対象となるクレームのすべての特徴が、先行技術で開示されているかを検討する（第3章3.20）。実施可能性については、当業者が当該発明を実施できなければならない（第3章3.26）。

　特許出願が行われたかまたは特許が付与された発明は、文脈上他に要求されない限り、当該出願または特許の明細書のクレームにおいて指定された発明であると解される（第2章2.5）。

　文献によってクレームの新規性が否定されるのは、クレームのすべての特徴が開示されている場合に限られる。クレームに、同等または追加の特徴が含まれる場合、通常は自明性の問題になる（第2章2.12）。

　具体的な特徴の組み合わせが、先行技術ですでに開示されている場合、クレームで定義された発明は新規性がない（第3章3.3）。

　したがって、新規性の規定では、対象となるクレームのすべての特徴が、先行技術で開示されているかを検討する。一般に事前開示については、クレームで特定されるすべての特徴が開示されている場合に限って、新規性が否定される。技術的に同等または追加的な特徴がクレームに含まれている場合は、自明の拒絶理由のほうが適切である（第3章3.20）。

5-2. 　上位概念または下位概念の引用発明
　特許・実用新案審査基準（日本）の第III部第2章第3節「3.2 先行技術を示す証拠が上位概念または下位概念で発明を表現している場合の取扱い」に対応するシンガポール特許審査基準の記載は、以下のとおりである。

(1) 対応する事項が記載された審査基準の場所
　シンガポール特許審査基準第3章3.54-3.56

(2) 異なる事項または留意点
　シンガポールでは、先行技術で下位概念の特徴が開示されると、上位概念のクレームは新規性が否定される。先行技術で上位概念の特徴が開示されても、下位概念のクレームは新規性が否定されない。

　クレームは、その範囲に含まれるものの事前開示がある場合に、新規性を欠く。よって、代替物を参照して発明を定義している場合、代替物のうちの一つが既知であれば、クレームは新規性がない。例えば、銅製コイルばねが開示されることで、後の金属製コイルばねのクレームが予測される。このような場合は、権利範囲からの除外によって、新規性喪失の拒絶理由を克服することが可能である。一方、上位概念の先行技術の開示は、一般に、後の下方概念のクレームを予測しない。したがって、金属製コイルばねによって、銅製コイルばねが後にクレームされるとは予測されない（第3章3.54-3.56）。

5-3. 　請求項に係る発明の下位概念と引用発明とを対比する手法
　特許・実用新案審査基準（日本）の第III部第2章第3節「4.2 請求項に係る発明の下位概念と引用発明とを対比する手法」に対応するシンガポール特許審査基準の記載は、以下のとおりである。

(1) 対応する事項が記載された審査基準の場所
　対応する記載はない。

(2) 異なる事項または留意点
　シンガポールの特許審査基準には、数値範囲に関しては、類似する基準がある。
　パラメータによって発明を数値範囲内に限定するクレームの新規性について考える場合、その範囲内または限界点にある一つの例が既知である場合、クレームに係る範囲は新規性がない。上位概念の範囲内にある下位概念が、先行技術で明確に言及されていない場合に、下位概念の数値範囲を選択することで、クレームに係る発明を特徴づけることもできる。下位概念の範囲の新規性を証明するには、選択された範囲が狭く、例示によって、既知の上位概念の中から十分に特定されるものでなければならない。下位概念の範囲内における特定の技術的効果の有無は、進歩性を判断する際に考慮すべき事項に該当すると思われ、新規性判断の際に考慮されるべきではない（第3章3.57-3.59）。

5-4. 　対比の際に本願の出願時の技術常識を参酌する手法
　特許・実用新案審査基準（日本）の第III部第2章第3節「4.3 対比の際に本願の出願時の技術常識を参酌する手法」に対応するシンガポール特許審査基準の記載は、以下のとおりである。

(1) 対応する事項が記載された審査基準の場所
　シンガポール特許審査基準第2章2.24

(2) 異なる事項または留意点
　出願時の技術常識を参酌する手法は、日本と同じ考え方がシンガポールの審査においても適用されていると考えられる。

　技術常識を有していることが当業者の最も重要な側面の一つであり、当業者を特徴づけるものであると言っても過言ではない。目的論的な解釈では、当業者が明細書を解釈する際に使用するのがこの技術常識であり、そうした背景や状況を踏まえて、当業者の立場から先行技術を解釈する（第2章2.24）。

6.　特定の表現を有する請求項についての取扱い
6-1. 　作用、機能、性質または特性を用いて物を特定しようとする記載がある場合
　特許・実用新案審査基準（日本）の第III部第2章第4節「2. 作用、機能、性質または特性を用いて物を特定しようとする記載がある場合」に対応するシンガポール特許審査基準の記載は、以下のとおりである。

(1) 対応する事項が記載された審査基準の場所
　シンガポール特許審査基準第3章3.39、3.42-3.43

(2) 異なる事項または留意点
　シンガポールには、「機能、特性等の記載により、クレームに係る発明と先行技術との対比が困難であり、厳密な対比をすることができない場合、クレームに係る発明の新規性が否定されるとの一応の合理的な疑いを抱いたときに限り、審査官は、新規性が否定される旨の拒絶理由通知をする」のような具体的な基準はない。

　先行技術は、当業者の目を通して解釈され、その結果、文献の黙示的な特徴が新規性判断の目的で考慮されることもある。よって、当業者であれば、具体的に言及されていない特徴が、開示に含まれると解釈するであろうと考えられる場合は、開示に含まれる黙示的な特徴と見なされる（第3章3.39）。

　General Tire v Firestone事件の判決にあるように、先の公開に含まれる指示を実行すると、必然的にクレームの侵害になる物が作られたり、侵害になる事が行われたりする場合、クレームに係る発明は新規性がない。これは、特にパラメータを参照して発明を定義するクレームと関連する。黙示的な特徴とは区別されるかもしれないが、この場合、当業者は、特徴が先行技術で開示されているとは解釈せず、先行技術の教示を繰り返せば、必然的にその結果が得られることになる。例えば、開示において特定のパラメータが示されていない場合でも、実行すると、必然的にクレームの範囲内に入る場合、その開示によって、方法または生産物が予測される。ただし、先行技術の教示が、クレームに係る発明を必然的にもたらすという判断は、妥当な推論に基づかなければならない（第3章3.42-3.43）。

6-2. 　物の用途を用いてその物を特定しようとする記載（用途限定）がある場合
　特許・実用新案審査基準（日本）の第III部第2章第4節「3. 物の用途を用いてその物を特定しようとする記載（用途限定）がある場合」に対応するシンガポール特許審査基準の記載は、以下のとおりである。

(1) 対応する事項が記載された審査基準の場所
　シンガポール特許審査基準第2章2.63-2.65、第3章3.62-3.64

(2) 異なる事項または留意点
　用途限定がある場合のクレーム解釈は、日本と同じ考え方がシンガポールの審査においても適用されていると考えられる。

　特定の用途がある装置または材料のクレームは、通常、その用途に適した装置または材料のクレームと解釈される（Adhesive Dry Mounting Co Ltd v Trapp and Co [1910] 27 RPC 341; G.E.C’s Application [1943] RPC 60）。したがって、「～用の生産物」というクレームでは、特定の装置または材料が、定義された用途に適していることが要求されると解釈される（第2章2.63）。

　しかし、特定の用途に適しており、その態様で使用されても、その装置のクレームの範囲は限定されない（L’Air Liquide Societe’s Application 49 RPC 428）。したがって、先行技術文献において、当該発明が有する特徴のすべてが開示され、その用途にも適していると思われる場合は、新規性を否定する開示となる。一方、既知の生産物が、クレームで定義された材料や組成と同じであるが、記載された用途には明らかに適さない形式の場合、クレームの新規性は失われない。同様に、物理的な変更をしなければ、記載された用途では使用できない装置は、特定の用途には適さない（第2章2.64）。

　「X、Y、Zの特徴からなる魚釣り用のフック」というクレームに関しては、魚釣りに使用できるX、Y、Zの特徴からなるフックであれば、先行技術において魚釣りに使用すると記載されているか否かにかかわらず、クレームが予測されることになる。「hook for fishing」（魚釣り用のフック）を補正で「fishing hook」（魚釣りのフック）にしても、本質的には同じ意味であり、クレームは救われない。しかし、X、Y、Zの特徴からなるクレーンのフックは、魚釣りのフック（釣り針）としての使用に適さない物理的な制限（寸法や重量）を有しており、クレームの範囲から除外される（第2章2.65）。

　既知の装置の新たな使用方法は、新規性があると見なされる場合がある。これはParker J in Flour Oxidizing Co Ltd v Carr and Co Ltd（25 RPC 428）の判決で確立されている。ただし、新たな使用に対する独占を制限するようなクレーム形式にしなければならない。

　特定の用途（例：他のクレームの方法を実行するため）の装置に関するクレームは、通常、その用途に適した装置に対するクレームと解釈される。すなわち用途は、その態様で使用されても、装置に対するクレームを制限しない（L’Air Liquide Societe’s Application 49 RPC 428）。よって、クレームで特定される機能をすべて有し、その用途に使用される装置は、異なる用途で使用されても、クレームは予測される。「魚釣りフック」と「魚釣り用のフック」は本質的には同等であり、この用途に適したフックを開示する引用文献では、いずれかの形式を用いたクレームが予測される（第3章3.62-3.64）。

6-3. 　サブコンビネーションの発明
　特許・実用新案審査基準（日本）の第III部第2章第4節「4. サブコンビネーションの発明を「他のサブコンビネーション」に関する事項を用いて特定しようとする記載がある場合」に対応するシンガポール特許審査基準の記載は、以下のとおりである。

(1) 対応する事項が記載された審査基準の場所
　対応する記載はない。

(2) 異なる事項または留意点
　シンガポールでは、「他のサブコンビネーション」に関する具体的な基準はないが、他のサブコンビネーションに関する新規性判断の目的で、黙示的な特徴が考慮される。

　先行技術は当業者の目を通して解釈され、その結果、文献の黙示的な特徴が新規性判断の目的で考慮されることもある。よって、当業者であれば、具体的に言及されていない特徴が、開示に含まれると解釈するであろうと考えられる場合は、開示に含まれる黙示的な特徴と見なされる。

　例えば、内燃機関の冷却システムの制御装置を開示する場合、システムにあるラジエーターやその他の熱交換器には言及しないかもしれないが、それが必要であることは常識である。したがって、引用文献でこの特徴が特定されない場合でも、新規性違反の拒絶理由は通知され得る。一方、ラジエーターは内燃機関の前方に取り付けるのが一般的な方法であるが、必ずしもそうであるとは限らない。こうした状況では、この特徴を具体的に開示していない引用文献に基づいて、新規性違反の拒絶理由を通知することはできない（第3章3.39-3.41）。

6-4. 　製造方法によって生産物を特定しようとする記載がある場合
　特許・実用新案審査基準（日本）の第III部第2章第4節「5. 製造方法によって生産物を特定しようとする記載がある場合」に対応するシンガポール特許審査基準の記載は、以下のとおりである。

(1) 対応する事項が記載された審査基準の場所
　シンガポール特許審査基準第2章2.73-2.74

(2) 異なる事項または留意点
　方法による生産物の特定に関しては、シンガポールの基準は全般的に日本の基準と似ていると言える。

　限定的な状況では、方法によって生産物を定義することができる。構造、組成、特性、その他の手段（生産物の構造や組成が不明の場合）を参照して、その生産物を十分に特徴づけることができない場合、プロダクト・バイ・プロセス・クレームを使って生産物をクレームすることが認められるものと思われる。審査において、このようなクレームは、クレームに記載された製造方法に起因する特徴を有する、生産物それ自体に関するクレームと解釈されるべきである。例えば、「鉄のサブパネルとニッケルのサブパネルを溶接することで作られる2層構造のパネル」というクレームでは、先行技術に照らして特許適格性を判断する際に、審査官は「溶接」という方法を考慮に入れるであろう。なぜなら、溶接は、最終的な生産物において、溶接以外の方法で生産された生産物とは異なる物理的特性をもたらすからである。すなわち、生産物は、方法のステップのみで定義され得る（第2章2.74）。

　方法によって得られる生産物に関するクレームに関して、「方法Yによって得られるまたは作成される生産物X」は、「得られる」、「得ることができる」、「直接得られる」など、どのような言い回しであるかにかかわらず、生産物それ自体に関するクレームと解釈されるのが普通である（Kirin-Amgen Inc v Hoechst Marion Roussel Ltd [2005] RPC affirming EPO law, i.e., Decision T 150/82 International Flavors and Fragrances Inc. [1984] 7 OJEPO 309）。このようなクレームは、先行技術の生産物が、仮に未開示の方法で作られたとしても、クレームに係る生産物と同じまたは区別がつかないように見える場合は、新規性がない。プロダクト・バイ・プロセス・クレームで定義される生産物の特許適格性は、生産の方法によって左右されない。したがって、生産物は、新たな方法によって生産されたという事実のみによって新規性があるとされるわけではない（第2章2.73）。

6-5. 　数値限定を用いて発明を特定しようとする記載がある場合
　特許・実用新案審査基準（日本）の第III部第2章第4節「6. 数値限定を用いて発明を特定しようとする記載がある場合」に対応するシンガポール特許審査基準の記載は、以下のとおりである。

(1) 対応する事項が記載された審査基準の場所
　シンガポール特許審査基準第3章3.57

(2) 異なる事項または留意点
　シンガポールでは、範囲が狭いまたは具体的な特徴が先行技術で開示されている場合、より一般的な（上位概念の）クレームの新規性が否定される。一般的な特徴が先行技術で開示されている場合、より範囲が狭いまたは具体的なクレームの新規性は否定されない。

　パラメータによって発明を数値範囲内に限定するクレームの新規性について考える場合、その範囲内または限界点にある一つの例が既知である場合、クレームに係る範囲は新規性がない。上位概念の範囲内にある下位概念が、先行技術で明確に言及されていない場合に、下位概念の数値範囲を選択することで、クレームに係る発明を特徴づけることはできる。下位概念の範囲の新規性を証明するには、選択された範囲が狭く、例示によって、既知の上位概念の中から十分に特定されるものでなければならない。下位概念の範囲内における特定の技術的効果の有無は、進歩性を判断する際に考慮すべき事項に該当すると思われ、新規性判断の際に考慮されるべきではない（第3章3.57）。

7.　その他
　これまでに記載した事項以外で、日本の実務者が理解することが好ましい事項、またはシンガポールの審査基準に特有の事項ついては、以下のとおりである。

7－1. 　グレースピリオド中の開示
　シンガポール特許法第14条(4)～(6)では、ある一定の事項について、一定の条件下で、かつ12か月の「グレースピリオド」中の開示は無視されると規定している（第3章3.110-3.125）。すなわち、特許または特許出願において発明を構成する事項の開示は、当該特許出願の出願日直前の12か月の期間が始まった後に生起し、かつ第14条(4)～(6)の条件を満たす場合は、無視される。

1.公報（Journal）の検索
1-1.直近の公報検索
(1) IPOSのウェブサイト（https://www.ipos.gov.sg/）へアクセスし、「eService」プルダウンメニューの「IPOS Digital Hub」をクリックしてデータベースのトップページに移動する（図1）。

図１　IPOSのウェブサイト（トップページ）

(2) 「IPOS Digital Hub」のトップページ（https://digitalhub.ipos.gov.sg/FAMN/process/IP4SG/MN_Index）の上部プルダウンメニューの「Journals」から、「Registered Design」を選択する（図2）。

図2　「IPOS Digital Hub」（トップページ）Journals選択画面

(3) ページ下部「List of Journals」に直近の公報（Journal）が最大25件表示される（図3）。

図3　Journals画面

(4) 確認したい「Journal No.」をクリックするとDESIGNS JOURNAL（意匠公報誌）がダウンロードされる（図4a：表紙）。同JOURNALの「CONTENTS」ページ（図4b）の確認したい項目をクリックすると、該当するページが表示される。なお、詳細検索を行いたい場合は、図3の緑の矢印で示している「Journal Search」をクリックすると詳細検索画面が表示される。検索方法の詳細は、後述の「1-2. 公報検索」を参照されたい。

図4a　Designs Journal表紙

図4b　CONTENTSページ

図4c　出願情報

1-2.公報検索
(1) 図3の「Journal Search」（緑の矢印）をクリックすると詳細検索画面が表示される。「Journal Type」で「Registered Design」を選択すると「Class No.」の項目が表示され、「Journal Section」に「Singapore Registered Design」が表示される（図5a）。
「Class No.」を選択すると図5bのプルダウンメニューが、「Journal Section」を選択すると図5cのプルダウンメニューが表示される。

図5a　Journal Search画面1（Journal Type選択）

図5b　Journal Search画面2（Class No.選択）

図5c　Journal Search画面2（Journal Section選択）

　検索条件として指定可能な項目は、次のとおりである。
・Journal Type（公報種別）
・Journal Date（公報発行日）：DD/MM/YYYYで数字を直接入力するかまたはカレンダーから日付を選択できる。
・Application No.（出願番号）
・International Registration No.（国際登録番号）
・Applicant Name（出願人名）
・Agent/Representative Name（代理人／代表者名）
・Class No.（分類番号）：以下のプルダウンメニューの中から選択する（図5b参照）。
　〇ALL（全て）
　〇01 Foodstuffs（食品）
　〇02 Articles of Clothing and Haberdashery（衣類品および紳士用装飾品）
　〇03 Travel Goods, Cases, Parasols and Personal Belongings, Not Elsewhere Specified（旅行用品、ケース、日傘、身の回り品、他に分類されないもの）
　〇04 Brushware（ブラシ類）
　〇05 Textile Piece Goods, Not Elsewhere Specified（繊維製品、他に分類されないもの）
　〇06 Furnishing（家具）
　〇07 Household Goods, Not Elsewhere Specified（家庭用品、他に分類されないもの）
　〇08 Tools and Hardware（工具および金物類）
　〇09 Packaging and Containers for the Transport or Handling of Goods（物品の輸送または取扱いのための包装および容器）
　〇10 Clocks and Watches and Other Measuring Instruments, Checking and Singnalling Instruments（時計およびその他の測定機器、検査機器および信号機器）
　〇11 Articles of Adornment（装飾品）
　〇12 Means of Transport Or Hoisting（輸送または持ち上げの手段）
　〇13 Equipment for Production, Distribution or Transformation of Electricity（電気の生産、分配または変換のための装置）
　〇14 Recording, Telecommunication or Data Processing Equipment（録音、電気通信またはデータ処理装置）
　〇15 Machines, Not Elsewhere Specified（機械類、他に分類されないもの）
　〇16 Photographic, Cinematographic and Optical Apparatus（写真、映画、光学機器）
　〇17 Musical Instruments（楽器）
　〇18 Printing and Office Machinery（印刷・事務用機械）
　〇19 Stationery and Office Equipment, Artists’ And Teaching Materials（文房具・事務用品・美術品・指導用品）
　〇20 Sales and Advertising Equipment, Signs（販売・広告用機器、看板）
　〇21 Games, Toys, Tents and Sports Goods（ゲーム・玩具・テント・スポーツ用品）
　〇22 Arms, Pyrotechnic Articles, Articles for Hunting, Fishing and Pest Killing（武器、火工品、狩猟・釣り・害虫駆除用具）
　〇23 Fluid Distribution Equipment, Sanitary, Heating, Ventilation and Air-Conditioning Equipment, Solid Fuel（流体供給機器、衛生機器、暖房・換気・空調機器、固形燃料）
　〇24 Medical and Laboratory Equipment（医療機器および実験機器）
　〇25 Building Units and Constructions Elements（建築ユニットおよび建築部材）
　〇26 Lighting Apparatus（照明器具）
　〇27 Tobacco and Smokers’ Supplies（たばこおよび喫煙具）
　〇28 Pharmaceutical and Cosmetic Products, Toilet Articles and Apparatus（医薬品、化粧品、衛生製品および器具）
　〇29 Devices and Equipment Against Fire Hazards, for Accident Prevention and for Rescue（火災対策用、事故防止用および救助用の装置・器具）
　〇30 Articles for the Care and Handling of Animals（動物の世話および取扱いに関する用品）
　〇31 Machines And Appliances For Preparing Food Or Drink, Not Elsewhere Specified（他に分類されない食品または飲料の調理用機械器具）

・Sub-Class No.（サブクラス番号）：・Class No.（分類番号）を選択すると、プルダウンメニューが表示される。選択肢はClass No.ごとに異なる。
・Journal Section（公報の種類）：以下のプルダウンメニューの中から選択する（図5c）。
　〇Singapore Registered Design（シンガポール登録意匠）
　〇Corrigenda（正誤表）
　〇International Registrations Designating Singapore（シンガポールを指定する国際登録）
　〇Order of Court（裁判所命令）
　〇Correction Published for Opposition Purposes（異議申立による公開された訂正）
　〇Others（その他）

・Journal No.（公報番号）：少なくとも3桁（例：001）の数字を入力する。

(2) 例えば図6のように選択条件を設定し、画面右下にある「Search」ボタンをクリックすると、「Search Result」に検索結果が表示される（図7）。

図6　検索例

図7　検索結果画面

(3) 確認したいApplication No.をクリックすると、詳細情報が表示される（図8aから図8d）。

図8a　出願詳細情報1

図8b　出願詳細情報2

図8c　出願詳細情報3

図8d　出願詳細情報4

詳細情報の項目は以下のとおりである。
「Application Details（出願の詳細）」
・Image（画像）
・Application No.（出願番号）
・International Registration No.（国際登録番号）
・UK Design No.（英国の意匠番号）
・Filing Date（出願日）
・Class and Sub-Class No.（分類およびサブクラス番号）
・Next Renewal Due Date（次回の更新期限）
・Expiry Date（権利満了日）
・Application Status（出願のステータス）

「Article(s)/Non Physical Product(s)to which design applies（意匠が適用される物品／非物理的製品）」
・No. of articles in a set（物品の数）
・No. of Non-physical products in a set（非物理的製品の数）
　〇Applicant’s Right with respect to Design（意匠に関する出願人の権利）
　〇Statement of Novelty（新規性の声明）
　〇Disclaimer（権利不要求）
「Priority Claims（優先権主張）」
「Current Applicant/Proprietor Details（現在の出願人／権利者の詳細）」
「Agent/Representative Details（代理人／代表者の詳細）」
「Publication Details（公開の詳細）」
「Events（経過情報、権利譲渡、名義変更等の履歴などの）イベント）」

(4) 図8aの画面右上にある「Print」をクリックすると、出願の詳細情報を印刷することができる。

2-1.Basic Search
　設定した1つの検索条件に基づき検索することができる。検索手順は以下のとおり。

(1) IPOS Digital Hubのトップページ（https://digitalhub.ipos.gov.sg/FAMN/eservice/IP4SG/MN_Index?OWASP_CSRFTOKEN=REFP-6I20-CSBM-YNM3-4WEE-V9A4-KBWW-ZL41）「Search」のプルダウンメニューから「Basic Search」（図9）をクリックすると検索画面（https://digitalhub.ipos.gov.sg/FAMN/eservice/IP4SG/MN_BasicSearch?OWASP_CSRFTOKEN=REFP-6I20-CSBM-YNM3-4WEE-V9A4-KBWW-ZL41）に接続される（図10aから図10b）。

図9　「IPOS Digital Hub」（トップページ）　Searchの選択画面

図10a　Basic Search画面上部

図10b　Basic Search画面下部

(2) 例えば、図10ｂの「Basic Search」の(a)のBoxに出願番号を入力し、(b)のBoxのプルダウンメニューから「Design Application No.」を選択し、「Search」をクリックすると「Search Results」に検索結果が表示される（図11）。詳細情報の確認手順は、前述の「1-2.公報検索」の(2)以降と同様である（前掲の図7、図8参照）。

図11　検索結果画面

2-2.Advanced Search
　複数の検索条件を設定する、あるいはBasic Searchで意図する検索結果を得ることができなかった場合は、「Advanced Search」で検索することができる。

2-2-1.Design（意匠）検索
(1) IPOS Digital Hubのトップページ（https://digitalhub.ipos.gov.sg/FAMN/eservice/IP4SG/MN_Index?OWASP_CSRFTOKEN=REFP-6I20-CSBM-YNM3-4WEE-V9A4-KBWW-ZL41）の「Search」のプルダウンメニューから「Advanced Search」（図9）をクリックすると検索画面（https://digitalhub.ipos.gov.sg/FAMN/eservice/IP4SG/MN_AdvancedSearch?OWASP_CSRFTOKEN=REFP-6I20-CSBM-YNM3-4WEE-V9A4-KBWW-ZL41)に接続される（図12）。また、図10aの緑色の線で囲んである「Advanced Search」をクリックしても図12の画面にアクセスできる。

図12　Advanced Search 「Design」タブ画面

(2) 図12の赤い線で囲んである「Design」タブを選択する。緑の線で囲んである検索条件をクリックすると右側に表示される。検索条件の詳細は以下のとおり。なお、検索するためには画面右上の「私はロボットではありません」の欄をクリックし、画像認証の操作が必要である。

Number（番号）
・Application/Case No.（出願／（取消手続や訂正手続などの）事件番号）
・Priority Application No.（優先権出願番号）
・Journal No.（公報番号）
・License/Security Reference No.（実施許諾／担保番号）

Name（名称）
・Applicant/Proprietor Name（出願人名／権利者名）
・Country/Region of Applicant/Proprietor（出願人／権利者の国／地域）
・Agent/Representative Name（代理人／代表者名）
・UEN/Entity Code（Unique Entity Number（個別企業登録番号）／企業コード）
・Grantor/Grantee Name（助成金付与者／助成金受領者）
・Licensor/Licensee Name（実施許諾者／実施権者名）
・Assignor/Assignee Name（譲渡人／譲受人名）

Date（日付）
・Filing Date（出願日）
・Expiry Date（存続期間満了日）
・Priority Claim Date（優先権主張日）
・Journal Date（公報発行日）

IP Details（知的財産の詳細）
・Article Name（物品の名称）
・Non-Physical Product Name（非物理的製品名）
・Application Status（出願経過状況）

Classification（分類）
・Class No./Subclass No.（分類番号／サブクラス番号）

Others（その他）
・Security Interest Status（担保権の状況）
・License Status（実施権の状況）
・Status Update Date（状況の更新日）

　図12の青い線で囲んである「Boolean Operators (AND, OR, NOT)」の横のボタンをスライドさせると、AND、OR、NOTの演算子を使用した複合的な条件を設定して、検索を行うことが可能である。

(3) 例えば、「Article Name（物品名）」に「Apple」と入力し、「Search」をクリック（図13）すると、検索結果が表示される（図14）。検索結果の確認手順は前述の「1-2.公報検索」と同様である（図7、図8参照）。

図13　Advanced Search　「Article Name」の検索例

図14　Advanced Search　検索結果

2-2-2.Design International Registration（意匠国際登録）検索
(1) IPOS Digital Hubのトップページ（https://digitalhub.ipos.gov.sg/FAMN/eservice/IP4SG/MN_Index?OWASP_CSRFTOKEN=REFP-6I20-CSBM-YNM3-4WEE-V9A4-KBWW-ZL41）の「Search」のプルダウンメニューから「Advanced Search」（図9）をクリックすると検索画面（https://digitalhub.ipos.gov.sg/FAMN/eservice/IP4SG/MN_AdvancedSearch?OWASP_CSRFTOKEN=REFP-6I20-CSBM-YNM3-4WEE-V9A4-KBWW-ZL41)に接続される（図12）。また、図10aの緑色の線で囲んである「Advanced Search」をクリックしても図12に接続される。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

図13　Advanced Search　「Design International Registration」タブ

(2) 図13の赤い線で囲んである「Design International Registration」タブを選択する。緑の線で囲んである検索条件クリックすると右側に表示される。検索条件の詳細（図12と相違がある項目を紹介）は、以下のとおり。「私はロボットではありません」の欄と青線で囲んである「Boolean Operators (AND, OR, NOT)」の操作手順は前述の「2-2-1. Design（意匠）検索」の(2)と同様である。

Date（日付）
・WIPO Publication Date(Design International Registrations)（WIPO公開日（意匠国際登録））

IP Details（知的財産の詳細）
・Bulletin No.(Design International Registrations)（公報番号（意匠国際登録））

Classification（分類）
・Locarno Class No. / Subclass No.（ロカルノ分類番号／サブクラス番号）

(3) 「Design」タブと同様に検索条件を設定し「Search」をクリックすると検索結果が表示される。検索結果の確認手順は、前述の「1-2.公報検索」と同様である（図7、図8参照）。

記事本文はこちらをご覧ください。

記事本文はこちらをご覧ください。