香港における知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編
1. 出願ルート
香港では、標準特許(日本の「特許」に相当)のうちOGP(Original Grant Patent(以下、「標準特許(O)」という。))、短期特許(日本の「実用新案」に相当)、意匠、商標の登録は、香港知識産権局に直接出願する必要がある。標準特許のうちCDP(Corresponding Designated Patent(以下、「標準特許(R)」という。))については、指定国(中国、英国、EPO(英国指定))に出願し公開されたものについて、香港で(i)記録請求の提出を行うと記録請求が公開され、次いで指定国で特許付与がなされた後、香港で(ii)登録および付与請求の提出を行うと標準特許(R)が付与され、この2段階のプロセスにより再登録することができる(詳細は関連記事「香港における特許の独自付与制度導入に向けた動きの近況」を参照)。また、香港の短期特許の保護対象は、日本の実用新案とは異なり、物品に限らず、技術的概念も含む。著作権については、香港には著作権登録はないが、香港がベルヌ条約および知的所有権の貿易関連側面に関する協定(TRIPS)の当事者であるため、著作者が作成した作品の著作権は自動的に保護される。
[香港における出願ルート]
直接出願 | 国際出願 | 広域出願 | |
標準特許(O) | 可 | 不可 | 不可 |
標準特許(R) | 不可 | 可(中国、英国) | 可(英国指定のEPO出願) |
短期特許 (実用新案) |
可 | 不可 | 不可 |
意匠 | 可 | 不可 | 不可 |
商標 | 可 | 不可 | 不可 |
<諸外国の制度概要>
・各国特許制度一覧表
URL https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/1tokkyo.pdf
・諸外国の法令・条約等
URL https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html
(国等のリンクをクリックすると各国等の制度概要や法令情報が日本語で表示される。)
2. 法令・制度等
(1) 主な法律
法域 | 法律・規則(公用語)/(英語) a: 法律・規則等の名称 b: 主な改正内容 URL: |
改正年 (YYYY) |
施行日 (DD/MM/YYYY) |
特許 ・ 実用新案 | (公用語・英語) a. Patents Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514 b. 第66条(2)誤植の修正、第84条注釈の削除、第126条(1)(b)誤植の修正。 |
2020 2020 |
09/07/2020 09/07/2020 |
(日本語) a. 香港特許条例 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-tokkyo_jourei.pdf |
|||
(公用語・英語) a. Patents (Designation of Patent Offices) Notice https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514A a. Patents (Transitional Arrangements) Rules https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514B a. Patents (General) Rules https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514C |
2020 2020 2020 2020 |
19/03/2020 09/07/2020 09/07/2020 09/07/2020 |
|
(日本語) a. 特許(指定特許庁)公告 なし a. 特許(経過措置)規則 なし a. 特許(一般)規則 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-tokkyo_kisoku_gen.pdf |
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関連記事: 「中国、韓国、台湾、香港の特許・実用新案制度比較」(2021.11.02) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/21046/ 「香港における特許の権利取得手続」(2021.09.23) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/statistics/20880/ 「香港における特許を受けることができる発明とできない発明」(2020.08.20) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19429/ 「香港における特許の独自付与制度導入に向けた動きの近況」(2020.04.07) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18428/ 「香港における実用新案(短期特許)出願制度概要」(2019.07.02) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17521/ 「香港における特許出願制度概要」(2019.07.02) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17519/ 「香港の特許・実用新案関連の法律、規則等」(2019.02.14) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16532/ 「香港における特許制度、登録意匠制度、および特許制度の改革、ならびに香港における産業財産権の各種統計」(2018.05.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/14981/ 「香港における特許制度の見直し動向」(2015.09.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/8681/ 「香港における特許制度の概要」(2014.10.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/6701/ |
|||
意匠 | (公用語・英語) a. Registered Designs Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap522 b.第42条(2)誤植の修正、第56条(2)誤植の修正。 |
2022 2017 |
14/04/2022 01/04/2017 |
(日本語) a. 香港意匠条例 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-ishou_jourei.pdf |
|||
(公用語・英語) a. Registered Designs Rules https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap522A |
2022 2004 |
14/04/2022 07/05/2004 |
|
(日本語) a. 意匠規則 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-ishou_kisoku.pdf |
|||
関連記事: 「中国、韓国、台湾、香港の意匠制度比較」(2021.11.09) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/21057/ 「香港における意匠の権利取得手続」(2021.09.28) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20887/ 「香港における画像意匠の保護制度」(2020.07.30) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19368/ 「香港における意匠出願制度概要」(2019.07.04) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17524/ 「香港の意匠関連の法律、規則等」(2019.02.19) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16548/ 「香港の意匠特許における機能性および視認性」(2018.09.27) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15855/ 「香港における特許制度、登録意匠制度、および特許制度の改革、ならびに香港における産業財産権の各種統計」(2018.05.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/14981/ 「香港における意匠の表現に関する制度・運用」(2016.01.26) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10240/ 「香港における意匠出願の補正」(2015.03.31) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/8337/ 「香港における意匠制度の概要」(2014.10.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/6703/ |
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商標 | (公用語・英語) a. Trade Marks Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap559 b. 第2条解釈(3)語句順の修正、第97条経過事項等(4)(5)(6)廃止、第98条廃止、第99条廃止、附則6廃止。 |
2020 2020 |
10/12/2020 10/12/2020 |
(日本語) a. 商標条例 https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/hk/law/pdf/hong_kong-shouhyou_jourei.pdf |
|||
(公用語・英語) a. Trade Marks Rules https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap559A |
2020 2020 |
19/06/2020 19/06/2020 |
|
(日本語) a. 商標規則 https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/hk/law/pdf/hong_kong-shouhyou_kisoku.pdf |
|||
関連記事: 「香港における商標の権利取得手続」(2021.09.23) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/statistics/20877/ 「香港における商号の保護」(2021.07.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20356/ 「香港における商標出願制度概要」(2019.07.04) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17526/ 「香港の商標関連の法律、規則等」(2019.03.26) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16717/ 「香港における小売役務の保護の現状」(2018.07.10) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15392/ 「香港における商標異議申立制度」(2017.06.13) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13794/ 「香港における商標のコンセント制度」(2017.02.22) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13203/ 「香港における『商標の使用』と使用証拠」(2016.05.31) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/11222/ 「香港における商標ライセンス契約の留意点」(2016.05.17) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/11190/ 「香港における指定商品もしくは指定役務に関わる留意事項」(2016.05.06) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/11154/ 「香港における並行輸入と知的財産権の問題」(2015.10.06) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/8675/ 「香港における詐称通用」(2015.08.04) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/8677/ 「香港における英語あるいは中国語(公用語)以外の言語を含む商標出願」(2015.03.31) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8339/ |
|||
著作権 | (公用語・英語) a. Copyright Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap528 b. 技術的中立性を有する独占通信権や当該権利の侵害に対する刑事的制裁、サービスプロバイダーに対するセーフハーバー条項の設置など。 関連情報:「デジタル環境における権利保護を強化する改正版権(著作権)条例が5月1日から施行」 https://www.jetro.go.jp/biznews/2023/05/b53a27d5e867d697.html a. Prevention of Copyright Piracy Ordinance. https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap544 |
2023 2022 |
01/05/2023 03/03/2022 |
(日本語) a. 著作権条例 なし a. 著作権盗用防止条例 なし |
|||
(公用語・英語) a. Registration of Copyright Licensing Bodies Regulation https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap528A a. Copyright (Libraries) Regulations https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap528B a. Copyright Tribunal Rules https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap528D |
2015 2019 2017 |
12/11/2015 20/06/2019 29/06/2017 |
|
(日本語) a. 著作権ライセンス機関登録規則 なし a. 著作権(図書館)規則 なし a. 著作権法廷規則 なし |
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関連記事: 「香港における並行輸入と知的財産権の問題」(2015.10.06) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/8675/ 「香港における著作権保護の概要」(2014.10.17) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/6793/ |
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種苗法 | (公用語・英語) a. Plant Varieties Protection Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap490 |
2022 |
01/07/2022 |
(日本語) a. 植物品種保護条例 なし |
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集積回路配置設計 | (公用語・英語) a. Layout-design (Topography) of Integrated Circuits Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap445 |
2021 |
30/09/2021 |
(日本語) a. 集積回路配置設計条例 なし |
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不正競争防止 | (公用語・英語) a. Trade Descriptions Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap362 |
2022 |
01/10/2022 |
(日本語) a. 商品説明条例 なし |
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関連記事: 「香港における消費者保護制度の強化」(2015.03.31) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/8341/ |
(2) 審査基準等
(3) 主な条約・協定(加盟状況)
条約名 | 加盟 | 加盟予定 (YYYY) |
未加盟 |
(1) パリ条約*) (工業所有権の保護に関するパリ条約) |
☒ | ☐ ( ) |
☐ |
(2) PCT*) (特許協力条約) |
☒ | ☐ ( ) |
☐ |
(3) TRIPs (知的所有権の貿易関連の側面に関する協定) |
☒ | ☐ ( ) |
☐ |
(4) PLT (特許法条約) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(5) IPC (国際特許分類に関するストラスブール協定) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(6) ハーグ協定 (意匠の国際登録に関するハーグ協定) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(7) ロカルノ協定 (意匠の国際分類を定めるロカルノ協定) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(8) マドリッド協定 (標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(9) TLT (商標法条約) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(10) STLT (商標法に関するシンガポール条約) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(11) ニース協定*) (標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定) |
☒ | ☐ ( ) |
☐ |
(12) ベルヌ条約*) (文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約) |
☒ |
☐ ( ) |
☐ |
(13) WCT*) (著作権に関する世界知的所有権機関条約) |
☒ |
☐ ( ) |
☐ |
(14) WPPT*) (実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約) |
☒ |
☐ ( ) |
☐ |
*) 中国を通して加盟または適用
3. 料金表
(公用語・英語) [特許・実用新案] |
Title: Patents > Forms and Fees https://www.ipd.gov.hk/en/patents/forms-and-fees/index.html [意匠] Title: Designs > Forms and Fees https://www.ipd.gov.hk/en/designs/forms-and-fees/index.html [商標] Title: Trademarks > Forms and Fees Trad marks forms and fees (Cap.559) https://www.ipd.gov.hk/en/trade-marks/forms-and-fees/index.html |
(日本語) なし |
香港における知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編
香港では、標準特許(日本の「特許」に相当)のうちOGP(Original Grant Patent、標準特許(O))、短期特許(日本の「実用新案」に相当)、意匠、商標の登録は、香港知的財産局に直接出願する必要がある。標準特許のうちCDP(Corresponding Designated Patent、標準特許(R))については、指定国(中国、英国、EPO(英国指定))に出願し公開されたものについて、香港で(i)記録請求の提出を行うと記録請求が公開され、次いで指定国で特許付与がなされた後、香港で(ii)登録および付与請求の提出を行うと標準特許(R)が付与され、この2段階のプロセスにより再登録することができる(詳細は関連記事「香港における特許の独自付与制度導入に向けた動きの近況」を参照)。また、香港の短期特許の保護対象は、日本の実用新案とは異なり、物品に限らず、技術的概念も含む。著作権については、香港には著作権登録はないが、香港がベルヌ条約および知的所有権の貿易関連側面に関する協定(TRIPS)の当事者であるため、著作者が作成した作品の著作権は自動的に保護される。
[香港における出願ルート]
直接出願 | 国際出願 | 広域出願 | |
標準特許(O) | 可 | 不可 | 不可 |
標準特許(R) | 不可 | 可(中国、英国) | 可(英国指定のEPO出願) |
短期特許 (実用新案) |
可 | 不可 | 不可 |
意匠 | 可 | 不可 | 不可 |
商標 | 可 | 不可 | 不可 |
<諸外国の制度概要>
・特許一覧表URL https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/1tokkyo.pdf
・諸外国の法令・条約等URL https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html
(国・地域のリンクをクリックすると各国・地域・機関の制度概要が表示される。)
2. 法令・制度等
(1) 主な法律
法域 | 法律・規則(公用語)/(英語) a: 法律・規則等の名称 b: 主な改正内容 URL: |
改正年 (YYYY) | 施行日 (DD/MM/YYYY) |
特許・実用新案 |
(公用語・英語)
a. Patents Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514 b. 標準特許の独自の付与システムの導入(特許出願人は、従来の「指定特許庁での登録の再登録」のように、香港外の指定された特許庁に対応する出願を提出することなく、香港で直接標準特許出願を提出することを選択できるシステム」)、既存の短期特許システムを改善し、香港での特許実務に関連する特定の紛らわしいまたは誤解を招くタイトルや説明の使用を禁止する暫定規制措置の導入等。 |
2019 2017 |
19/12/2019 01/04/2017 |
(日本語)
a. 香港特許条例(改正前) https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-tokkyo_jourei.pdf |
|||
(公用語・英語)
a. Patents (Designation of Patent Offices) Notice https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514A a. Patents (Transitional Arrangements) Rules https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514B a. Patents (General) Rules https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514C |
1997 2004 2019 2004 2004 |
27/06/1997 27/02/2004 19/12/2019 27/02/2004 07/05/2004 |
|
(日本語)
a. 特許(指定特許庁)公告 なし a. 特許(経過措置)規則 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-tokkyo_kisoku_tran.pdf a. 特許(一般)規則 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-tokkyo_kisoku_gen.pdf |
|||
関連記事:
「中国、韓国、台湾、香港の特許・実用新案制度比較」(2021.11.02) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/21046/ 「香港における特許の権利取得手続」(2021.09.23) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/statistics/20880/ 「香港における特許を受けることができる発明とできない発明」(2020.08.20) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19429/ 「香港における特許の独自付与制度導入に向けた動きの近況」(2020.04.07) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18428/ 「香港における実用新案(短期特許)出願制度概要」(2019.07.02) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17521/ 「香港における特許出願制度概要」(2019.07.02) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17519/ 「香港の特許・実用新案関連の法律、規則等」(2019.02.14) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16532/ 「香港における特許制度、登録意匠制度、および特許制度の改革、ならびに香港における産業財産権の各種統計」(2018.05.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/14981/ 「香港における特許制度の見直し動向」(2015.09.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/8681/ 「香港における特許制度の概要」(2014.10.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/6701/ |
|||
意匠 |
(公用語・英語)
a. Registered Designs Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap522 b. 国章、国旗等の意匠登録除外 |
2021 2017 |
08/10/2021 01/04/2017 |
(日本語)
a. 香港意匠条例 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-ishou_jourei.pdf |
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(公用語・英語)
a. Registered Designs Rules https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap522A |
2021 2004 |
08/10/2021 07/05/2004 |
|
(日本語)
a. 意匠規則 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-ishou_kisoku.pdf |
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関連記事:
「中国、韓国、台湾、香港の意匠制度比較」(2021.11.09) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/21057/ 「香港における意匠の権利取得手続」(2021.09.28) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20887/ 「香港における画像意匠の保護制度」(2020.07.30) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19368/ 「香港における意匠出願制度概要」(2019.07.04) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17524/ 「香港の意匠関連の法律、規則等」(2019.02.19) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16548/ 「香港の意匠特許における機能性および視認性」(2018.09.27) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15855/ 「香港における特許制度、登録意匠制度、および特許制度の改革、ならびに香港における産業財産権の各種統計」(2018.05.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/14981/ 「香港における意匠の表現に関する制度・運用」(2016.01.26) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10240/ 「香港における意匠出願の補正」(2015.03.31) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/8337/ 「香港における意匠制度の概要」(2014.10.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/6703/ |
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商標 |
(公用語・英語)
a. Trade Marks Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap559 b. 香港でのマドリッド議定書の適用に対応するための規定の修正(国際商標をカバーするための既存の商標の拡大等)、商標の適用および登録システムの技術的修正、刑事規定を執行するための税関へのさらなる権限の付与等。 |
2020 2017 |
19/06/2020 01/04/2017 |
(日本語)
a. 商標条例 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-shouhyou_jourei.pdf |
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(公用語・英語)
a. Trade Marks Rules https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap559A a. Intellectual Property Department’s Circulars (Trade Marks) https://www.ipd.gov.hk/eng/pub_press/ipd_circulars/trademarks.htm |
2020 1991-2008 2006 |
19/06/2020 01/08/1991 – 01/08/2008 26/05/2006 |
|
(日本語)
a. 商標規則 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-shouhyou_kisoku.pdf a. 知的産権局通達(商標) なし |
|||
関連記事:
「香港における商標の権利取得手続」(2021.09.23) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/statistics/20877/ 「香港における商号の保護」(2021.07.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20356/ 「香港における商標出願制度概要」(2019.07.04) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17526/ 「香港の商標関連の法律、規則等「(2019.03.26) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16717/ 「香港における小売役務の保護の現状」(2018.07.10) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15392/ 「香港における商標異議申立制度」(2017.06.13) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13794/ 「香港における商標のコンセント制度」(2017.02.22) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13203/ 「香港における『商標の使用』と使用証拠」(2016.05.31) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/11222/ 「香港における商標ライセンス契約の留意点」(2016.05.17) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/11190/ 「香港における指定商品もしくは指定役務に関わる留意事項」(2016.05.06) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/11154/ 「香港における並行輸入と知的財産権の問題」(2015.10.06) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/8675/ 「香港における詐称通用」(2015.08.04) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/8677/ 「香港における英語あるいは中国語(公用語)以外の言語を含む商標出願」(2015.03.31) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8339/ 「香港における商標制度の概要」(2014.10.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/6699/ |
|||
著作権 |
(公用語・英語)
a. Copyright Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap528 b. 「読書障害」の定義を拡大し、読書障害のある人に関連する既存の例外を修正し、関連するアクセス可能なコピーについて、国境を越えた交換を可能にする等。 a. Prevention of Copyright Piracy Ordinance. https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap544 |
2020 2007 |
26/06/2020 06/07/2007 |
(日本語)
a. 著作権条例 なし a. 著作権盗用防止条例 なし |
|||
(公用語・英語)
a. Registration of Copyright Licensing Bodies Regulation https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap528A a. Copyright (Libraries) Regulations https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap528B a. Copyright Tribunal Rules https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap528D |
2015 2019 2017 |
12/11/2015 20/06/2019 29/06/2017 |
|
(日本語)
a. 著作権ライセンス機関登録規則 なし a. 著作権(図書館)規則 なし a. 著作権法廷規則 なし |
|||
関連記事:
「香港における並行輸入と知的財産権の問題」(2015.10.06) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/8675/ 「香港における著作権保護の概要」(2014.10.17) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/6793/ |
|||
種苗法 |
(公用語・英語)
a. Plant Varieties Protection Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap490 |
2009 |
08/05/2009 |
(日本語)
a. 植物品種保護条例 なし |
|||
集積回路配置設計 |
(公用語・英語)
a. Layout-design (Topography) of Integrated Circuits Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap445 |
2021 |
30/09/2021 |
(日本語)
a. 集積回路配置設計条例 なし |
|||
不正競争防止 |
(公用語・英語)
a. Trade Descriptions Ordinance https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap362 |
2020 |
29/11/2020 |
(日本語)
a. 商品説明条例 なし |
|||
関連記事:
「香港における消費者保護制度の強化」(2015.03.31) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/8341/ |
(2) 審査基準等
法域 | 審査基準、ガイドライン、マニュアル等 a:審査基準等の名称 URL: |
最終更新 b:(DD/MM/YYYY) |
特許 ・実用新案 |
(公用語・英語)
a. Patents Examination Guidelines https://www.ipd.gov.hk/eng/intellectual_property/patents/Patents_Examination_Guidelines.htm a. How to apply for grant of patents in the Hong Kong Special Administrative Region https://www.ipd.gov.hk/eng/intellectual_property/patents/how_to_apply.htm |
26/11/2021 (日付無し) |
(日本語)
a. 特許審査基準 なし a. 香港特別行政区での特許出願方法 なし |
||
関連記事:
「香港における特許を受けることができる発明とできない発明」(2020.08.20) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19429/ 「香港知的財産局の特許審査体制」(2018.08.09) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15648/ 「香港における特許制度の見直し動向」(2015.09.01) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/8681/ |
||
意匠 |
(公用語・英語)
a. How to apply to register a design in the Hong Kong Special Administrative Region https://www.ipd.gov.hk/eng/faq/designs/ds_how2apply_e.pdf |
(日付無し) |
(日本語)
a. 香港特別行政区での意匠登録出願方法 なし |
||
関連記事:
「香港の意匠特許における機能性および視認性」(2018.09.27) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15855/ 「日本と香港の意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較」(2015.11.20) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/9256/ |
||
商標 |
(公用語・英語)
a. Trade Marks Registry Work Manual https://www.ipd.gov.hk/eng/intellectual_property/trademarks/registry.htm a. How to apply to register a trade mark in the Hong Kong SAR https://www.ipd.gov.hk/eng/intellectual_property/trademarks/registry/how2apply.pdf a. Common Deficiencies and Irregularities of Trade Mark Applications https://www.ipd.gov.hk/eng/intellectual_property/trademarks/registry/deficiencies_irregularities_table.pdf |
31/07/2020 (日付無し) 02/2019 |
(日本語)
a. 商標登録作業マニュアル なし a. 香港特別行政区での商標登録出願方法 なし a. 商標出願の一般的な欠陥と不規則性 なし |
||
関連記事:
「香港における商標出願制度概要」(2019.07.04) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17526/ |
(3) 主な条約・協定(加盟状況)
条約名 | 加盟 | 加盟予定 (YYYY) |
未加盟 |
(1) パリ条約*1 (工業所有権の保護に関するパリ条約) |
☒ | ☐ ( ) |
☐ |
(2) PCT*1 (特許協力条約) |
☒ | ☐ ( ) |
☐ |
(3) TRIPs (知的所有権の貿易関連の側面に関する協定) |
☒ | ☐ ( ) |
☐ |
(4) PLT (特許法条約) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(5) IPC (国際特許分類に関するストラスブール協定) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(6) ハーグ協定 (意匠の国際登録に関するハーグ協定) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(7) ロカルノ協定 (意匠の国際分類を定めるロカルノ協定) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(8) マドリッド協定 (標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(9) TLT (商標法条約) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(10) STLT (商標法に関するシンガポール条約) |
☐ | ☐ ( ) |
☒ |
(11) ニース協定*1 (標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定) |
☒ | ☐ ( ) |
☐ |
(12) ベルヌ条約*1 (文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約) |
☒ | ☐ ( ) |
☐ |
(13) WCT*1 (著作権に関する世界知的所有権機関条約) |
☒ | ☐ ( ) |
☐ |
(14) WPPT*1 (実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約) |
☒ | ☐ ( ) |
☐ |
3. 料金表
(公用語・英語)
[特許・実用新案] Title: Patents Forms and Fees https://www.ipd.gov.hk/eng/forms_fees/patents.htm [意匠] Title: Designs Forms and Fees https://www.ipd.gov.hk/eng/forms_fees/design.htm [商標] Title: Trademarks Forms and Fees (Cap.559) https://www.ipd.gov.hk/eng/forms_fees/trademarks_559.htm |
(日本語) なし |
関連記事:
「香港における産業財産権権利化費用」(2019.08.08) https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17613/ |
香港の特許・実用新案関連の法律、規則等
香港の特許・実用新案(短期特許)関連の法律、規則等(現地語・英語・日本語)は、以下のとおりである。
No. | 法令名 | 施行日等 | 法律番号等 | 情報元 | URL | 言語 |
1 | 特許条例 | 2020.7.9施行 | 專利條例(第514章) | 電子版香港法例
e-Legislation |
https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514!zh-Hant-HK?INDEX_CS=N | 中国語(繁体) |
https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514!en | 英 | |||||
日本国特許庁 | https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-tokkyo_jourei.pdf | 日 | ||||
2 | 特許(経過措置)規則 | 2020.7.9施行 | 專利(過渡性安排)規則(第514B章) | 電子版香港法例
e-Legislation |
https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514B!zh-Hant-HK?INDEX_CS=N | 中国語(繁体) |
https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514B!en | 英 | |||||
日本国特許庁 | https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/hk/law/pdf/hong_kong-tokkyo_kisoku_tran.pdf | 日 | ||||
3 | 特許(一般)規則 | 2020.7.9施行 | 專利(一般)規則(第514C章) | 電子版香港法例
e-Legislation |
https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514C!zh-Hant-HK?INDEX_CS=N | 中国語(繁体) |
https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap514C!en | 英 | |||||
日本国特許庁 | https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/hong_kong-tokkyo_kisoku_gen.pdf | 日 |
香港における特許制度、登録意匠制度、および特許制度の改革、ならびに香港における産業財産権の各種統計
1.特許制度
特許条例によれば、新規な発明または製品に特許保護を与える2種類の特許が存在する。
1-1.標準特許(存続期間:20年)
香港で標準特許を取得するには、最初に、3つの指定特許庁のいずれか1つに特許出願(「指定特許出願」という。)を行わなければならない。3つの指定特許庁は、中国特許庁、英国特許庁、および欧州特許庁(英国指定)である。その後、香港特許登録局(Hong Kong Patents Registry)に2段階の手続きを行わなければならない。
第1段階:記録請求の提出 - 指定特許出願の公開日から6か月以内。期間の延長は認められない。
第2段階:登録および付与請求の提出 - 指定特許の付与日から6か月以内。期間の延長は認められない。
1-2.短期特許(存続期間:8年)
香港特許登録局(Hong Kong Patents Registry)に直接、出願することができる。公式の調査および実体審査は行われない。方式審査のみを通過した後、短期特許が付与される。
明細書には1つまたはそれ以上の請求項を含めなければならないが、独立形式請求項は1つのみである。規定調査機関が作成した独自の調査報告を、短期特許が付与される前の所定期間内に提出しなければならない。規定調査機関は、特許協力条約第16条による国際調査機関、中国国家知識産権局、欧州特許庁、およびイギリス特許庁のいずれかである。
2.特許制度の改革
香港政府は、新たな独自の特許付与制度を創設し、既存の短期特許制度を改善することにより、香港の特許制度を改革する政策決定を行った。この改革により、独自に付与する特許出願および短期特許に基づく発明の実体審査が初めて導入されることになる。新特許制度の基盤となる法的枠組みを定めるため、2016年特許条例(改正)が、2016年6月に香港特別行政区立法会(Legislative Council)により制定された。
2-1.新たな独自の特許付与制度
新たな独自の特許付与制度は、香港における標準特許を取得するための代替のルートを提供する。独自の特許付与制度では、最初の出願として、または優先権主張を伴う出願として、香港独自の標準特許出願(以下「独自標準特許出願」という。)を香港特許登録官(Hong Kong Registrar of Patents)に直接、提出できる予定である。このため、上記指定特許庁における指定特許出願を行う必要がなくなる。独自標準特許出願は、付与手続へ進む前に実体審査を受けなければならない予定である。
新たな独自の特許付与制度は、再登録制度による既存の標準特許と並行して運用される予定である。
また、2016年特許条例(改正)に取り入れられた規定によれば、独自標準特許出願に関する第三者意見を登録官(Registrar)に提出でき、独自標準特許の付与後の補正を登録官(Registrar)に提出することもできる。
ただし、PCT出願からは独自標準特許出願を直接提出することはできない予定である。このため、PCT出願は依然として、再登録制度による既存の標準特許または短期特許に係る出願を行って香港に移行するしかない。
2-2.短期特許制度の改正
新たに導入される実体審査手続では、短期特許の所有者が、また、ある状況では第三者が、短期特許に関する付与後の実体審査を登録官(Registrar)に請求できる予定である。この手続の結果、(請求されたあらゆる補正を含む)短期特許の有効性を確認する「実体審査証明書」が発行される、または短期特許が最終的に無効と判断された場合には取り消される予定である。実体審査請求は、一度提出すると、取り下げることはできない予定である。
裁判所に短期特許の権利行使に係る手続を行うには、実体審査請求または実体審査証明書が必要となる予定である。
また、2016年特許条例(改正)に取り入れられた規定によれば、短期特許出願に関する第三者意見を登録官(Registrar)に提出でき、短期特許の付与後の補正を登録官(Registrar)に提出することもできる。
さらに、短期特許制度の改正により、2つ目の独立形式請求項が許される予定である。
2-3.特許条例の他の改正
2016年特許条例(改正)は、既知の物質または組成物の新規な特定用途に保護を与える、第二の医療用途の新規性に関する明示規定を盛り込んでいる。
独自標準特許および短期特許に関し、2016年特許条例(改正)は、出願人が全ての合理的注意を払っていたことを条件として、通常の12か月の優先期間満了から2か月後まで優先権を回復できると規定している。
2016年特許条例(改正)は、独自標準特許出願または短期特許出願において提出されなかった発明の記載または図面の一部を提出する機会を出願人に与える。ただし、記載または図面の欠落部分の提出は、出願日の変更を生じる可能性がある。
既存の特許条例は、中国を指定した実用新案の保護を求める国際出願が中国への国内段階に移行した場合、この国際出願の出願人は、当該出願に開示された発明についての短期特許出願を行っても良いと規定している。2016年特許条例(改正)は、発明への特許を求める国際出願であって中国へ移行するPCT出願に基づいて、香港での短期特許出願が可能であると規定している。
2016年特許条例(改正)は、香港で特許代理業務を提供する法的資格を有するまたは政府の承認を受けている人物であると他者に信じさせる合理的可能性のある呼称または肩書として「公認特許代理人もしくは公認特許弁理士」、「登録特許代理人もしくは登録特許弁理士」またはその他の呼称を香港で使用することを禁じている。ただし、この新しい規定は、香港以外の法域において特許代理業務を合法的に提供する個人的資格を指す場合に限り、該当する法域を明確に示すことを条件として、かかる呼称または肩書の使用を禁じるものではない。
3.登録意匠制度(存続期間:25年)
ロカルノ分類に従う物品の同じ分類に対応するまたは同じ組物に対応する複数の意匠は、1つの出願にまとめることができる。マルチプル意匠出願により費用を削減できる。
出願書類の受領時に、出願番号を出願人に通知する受領証が発行される。さらに、当該出願に出願日を与える通知が出願人に送付される。
出願日が与えられた後、出願の方式要件が審査される。方式要件とは、出願書類に要求される情報である。出願に不備がある場合、3か月以内に不備の訂正を求める通知が出願人に送付される。不備が訂正されない出願は取り下げられたとみなされ得る。
出願に不備がなければ意匠は登録され、この登録が香港知的財産公報(Hong Kong Intellectual Property Journal)に掲載され、登録証が発行される。登録証は通常、出願後3か月以内に発行される。
4.産業財産権の各種統計
4-1.商標、特許、意匠および著作権ライセンス機関の統計データ
4-2.登録/付与の件数
4-3.2017年の知的財産局の必達目標
出願もしくはその添付書類に不備がある場合、または出願を裏づける説明もしくは追加の証拠を求める必要がある場合、知的財産局はこれらの基準を達成できない可能性がある。
4-3-1.商標(商標条例第559章に基づく)
商標出願への最初の回答のうち97%における審査期間:2か月
商標出願への2回目の回答のうち80%における審査期間:3か月
商標に関する審決のうち97%における所要期間:6か月
4-3-2.特許
標準特許出願のうち86%における処理期間:10日
短期特許出願のうち86%における処理期間:10日
4-3-3.意匠
意匠出願のうち99%における処理期間:10日
4-4.知的財産局の実績