エジプトにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアル
「中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」（平成29年3月、日本国際知的財産保護協会）第2部L
（目次）
第2部 調査研究結果
L エジプト P.459
1 概要及び基礎情報 P.459
2 特許 P.469
3 実用新案 P.481
4 意匠 P.485
5 商標 P.494
N 総括表 P.509
エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態
【詳細】
アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書（平成26年2月、日本国際知的財産保護協会）4-(2)
（目次）
4 各調査対象国の知的財産権関連制度の運用実態
(2) エジプト P.116
（添付資料5） エジプト特許庁の審査基準の概要