ホーム EG-am-3200

エジプトにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアル

 「中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」(平成29年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部L

 

(目次)

第2部 調査研究結果

 L エジプト P.459

  1 概要及び基礎情報 P.459

  2 特許 P.469

  3 実用新案 P.481

  4 意匠 P.485

  5 商標 P.494

 

 N 総括表 P.509