韓国における最新の審判・裁判に関する情報の比較分析
日中韓における審判・裁判についての制度及び統計分析に関する調査研究報告書（平成26年2月、日本国際知的財産保護協会）第2部2.3
（目次）
第2部 日中韓における最新の審判・裁判に関する情報の比較分析
2.3 韓国
2.3.1 審判部の体制 P.88
2.3.2 審判官・裁判官の資格、外部登用 P.90
2.3.3 審判制度の概要 P.92
2.3.4 審判制度の運用 P.118
2.3.5 審決取消訴訟の概要 P.122
2.3.6 審判から裁判へのフロー P.124
2.3.7 審判・裁判における実際の処理期間と件数 P.126
2.3.8 法律の立法や廃止の経緯 P.128
韓国における特許権取得後の訂正審判及び訂正請求制度
諸外国における特許権利化後の補正・訂正制度に関する調査研究（2011年3月、日本国際知的財産保護協会）第２章VI
（目次）
第２章 諸外国の制度
VI． 韓国 p.66
資料編
資料３ 各国制度概要図
韓国 p.121
資料４ 参照条文
韓国特許法 p.184
韓国における商標制度
【詳細】
模倣対策マニュアル 韓国編（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第５章
（目次）
第II編 韓国の知的財産制度と関連法
第５章 商標法 p.116
1． 保護対象 p.116
2． 登録要件 p.116
2-1 商標の成立性 p.116
2-2 積極的登録要件 p.116
2-3 消極的登録要件 p.117
2-4 先願主義 p.118
3． 商標登録を受けるまでの手続概要 p.119
3-1 商標登録出願 p.119
3-2 必要書類 p.119
3-3 指定商品の記載 p.120
3-4 優先権主張 p.122
3-5 特殊な出願 p.122
3-6 補正制度 p.123
3-7 実体審査 p.124
3-8 情報提供 p.125
3-9 商標優先審査制度 p.126
3-10 出願費用 p.126
4． 権利の取得と維持 p.127
4-1 登録料の納付 p.127
4-2 存続期間 p.127
4-3 存続期間更新登録 p.127
5． 異議申立 p.128
5-1 異議申立の要件 p.128
5-2 異議申立に対する審査 p.128
5-3 異議決定 p.128
6． 商標審判手続 p.129
6-1 種類 p.129
6-2 商標登録無効審判 p.129
6-3 商標登録取消審判 p.129
6-4 権利範囲確認審判 p.130
6-5 その他の審判制度 p.131
6-6 審決に対する不服 p.131
6-7 訴訟手続きの中止 p.132
6-8 迅速審判制度 p.132
7． マドリッド議定書による出願 p.132
7-1 出願できる者 p.132
7-2 本国官庁手続 p.132
7-3 指定国官庁手続 p.132
7-4 国際登録基礎商標権の存続期間の更新 p.133
7-5 再出願に関する特例規定 p.133
[付録3] 日韓知的財産関連分野の差異点対照表 p.324
1． 一般／四法共通 p.324
5． 商標 p.328
[付録4] 知財四法の特許料・登録料・各年度維持年金(2012年) p.329
韓国におけるデザイン保護制度
【詳細】
模倣対策マニュアル 韓国編（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第４章
（目次）
第II編 韓国の知的財産制度と関連法
第４章 デザイン保護法 p.101
1． 保護対象 p.101
2． 登録要件 p.101
2-1 工業上利用可能性 p.101
2-2 新規性 p.101
2-3 新規性喪失の例外 p.101
2-4 創作性 p.102
2-5 先願主義 p.102
2-6 不登録事由 p.102
3． デザイン登録を受けるまでの手続の概要 p.104
3-1 デザイン審査登録出願手続 p.104
3-2 デザイン無審査登録出願手続 p.104
3-3 必要書類 p.106
3-4 優先権主張 p.107
3-5 特殊な出願 p.107
3-6 出願補正制度 p.109
3-7 出願公開 p.109
3-8 実体審査 p.110
3-9 再審査請求制度 p.111
3-10 優先審査 p.111
3-11 出願費用 p.111
4． 権利の取得と維持 p.112
4-1 登録料の納付 p.112
4-2 登録料の倍額追納及び以降の救済期間 p.112
4-3 存続期間 p.112
5． デザイン無審査登録異議申立 p.112
5-1 デザイン無審査登録異議申立の要件 p.112
5-2 デザイン無審査登録異議申立に対する審査 p.112
5-3 異議決定 p.113
6． デザイン審判手続 p.113
6-1 種類 p.113
6-2 デザイン登録無効審判 p.113
6-3 権利範囲確認審判 p.114
6-4 その他の審判制度 p.115
6-5 審決に対する不服 p.115
6-6 訴訟手続きの中止 p.115
[付録3] 日韓知的財産関連分野の差異点対照表 p.324
1． 一般／四法共通 p.324
4． デザイン登録／意匠 p.327
[付録4] 知財四法の特許料・登録料・各年度維持年金(2012年) p.329
デジタル社会におけるデザイン保護に即した意匠制度の在り方に関する調査研究（2012年2月、知的財産研究所）II．２．（３）
（目次）
II． 画面デザイン保護の現状
２． 諸外国の画面デザイン保護の現状
（３）韓国 p.33
（i） 意匠制度の概要 p.33
（ii） 物品との一体性要件 p.33
（iii） 権利範囲 p.34
（iv） 機能・操作要件 p.34
（v） 一出願に含めることができる意匠・物品の数 p.34
（vi） 海外ヒアリング調査結果 p.35
資料編
資料III 海外ヒアリング調査
資料２ 海外ヒアリング調査メモ
韓国 p.431
韓国における実用新案制度
【詳細】
模倣対策マニュアル 韓国編（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第３章
（目次）
第II編 韓国の知的財産制度と関連法
第３章 実用新案法 p.95
1． 改正動向 p.95
2． 保護の対象 p.95
3． 登録要件 p.95
4． 実用新案登録を受けるまでの手続概要 p.96
4-1 実用新案登録出願手続 p.96
4-2 特殊な出願 p.98
4-3 出願補正制度 p.98
4-4 審査請求 p.99
4-5 審査猶予申請制度 p.99
4-6 実体審査 p.99
4-7 再審査請求制度 p.99
4-8 実用新案登録如何決定の保留 p.99
4-9 優先審査 p.99
5． 権利の取得と維持 p.100
5-1 設定登録及び登録公告 p.100
5-2 登録料の納付 p.100
5-3 権利の存続期間 p.100
5-4 実用新案権の内容 p.100
5-5 出願人(権利者)情報変更手続きの簡素化 p.100
[付録3] 日韓知的財産関連分野の差異点対照表 p.324
1． 一般／四法共通 p.324
3． 実用新案 p.326
[付録4] 知財四法の特許料・登録料・各年度維持年金(2012年) p.329
韓国における特許制度
【詳細】
模倣対策マニュアル 韓国編（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第２章
（目次）
第II編 韓国の知的財産制度と関連法
第２章 特許法 p.56
1． 保護対象 p.56
2． 登録要件 p.56
2-1 産業上利用可能性 p.56
2-2 新規性 p.57
2-3 進歩性 p.57
2-4 先願主義 p.58
2-5 不特許事由 p.58
3． 特許を受けるまでの手続概要 p.58
3-1 特許出願手続 p.58
3-2 電子出願制度 p.61
3-3 在外者の特許管理人 p.61
3-4 必要書類 p.62
3-5 特許請求の範囲の提出猶予制度 p.62
3-6 優先権主張 p.63
3-7 特殊な出願 p.63
3-8 出願補正制度 p.64
3-9 出願公開 p.65
3-10 審査請求 p.65
3-11 審査猶予申請制度 p.66
3-12 実体審査 p.66
3-13 再審査請求制度 p.67
3-14 拒絶決定不服審判 p.69
コラム「拒絶決定後、補正書の提出を間違えたら？」 p.71
3-15 特許如何決定の保留 p.73
3-16 面談 p.73
3-17 情報提供 p.73
3-18 優先審査 p.74
4． 権利の取得と維持 p.77
4-1 設定登録及び登録公告 p.77
4-2 特許料の納付 p.77
4-3 特許権の存続期間 p.77
4-4 特許権の内容 p.78
4-5 特許権存続期間の延長 p.78
4-6 出願人(権利者)情報変更手続きの簡素化 p.79
5． 異議申立(2007.7.1日廃止) p.79
6． 特許審判 p.79
6-1 拒絶決定不服審判 p.79
6-2 特許の登録無効審判 p.80
6-3 権利範囲確認審判 p.80
6-4 訂正審判 p.81
6-5 その他の審判制度 p.82
6-6 審判手続き p.82
6-7 審決に対する不服 p.83
6-8 訴訟手続の中止 p.88
6-9 優先審判 p.88
6-10 迅速審判制度の新設 p.89
7． PCT出願 p.89
7-1 PCT出願の概要 p.89
7-2 韓国を指定国とする場合の手続き p.90
コラム「特許審査ハイウェイの申請手続き」 p.91
[付録3] 日韓知的財産関連分野の差異点対照表 p.324
1． 一般／四法共通 p.324
2． 特許 p.325
[付録4] 知財四法の特許料・登録料・各年度維持年金(2012年) p.329
韓国における知的財産権侵害に対する行政的救済方法
特許侵害対応マニュアル 韓国編（2013年3月、日本貿易振興機構）第II編第４章
（目次）
第II編 特許権を侵害された場合の対応
第４章 行政的救済方法の利用 p.65
1． 序説 p.65
2． 特許審判制度 p.65
3． 特許審判の種類及び内容 p.65
3-1 権利範囲確認審判 p.66
3-2 特許無効審判 p.69
3-3 訂正審判 p.71
3-4 特許審判のフローチャート p.75
3-5 審判手続のタイムスケジュール p.78
3-6 優先審判手続のタイムスケジュール p.78
3-7 再審 p.81
3-8 審決に対する不服（審決取消訴訟と上告） p.81
審決取消訴訟のフローチャート p.83
4． 不公正貿易行為に対する貿易委員会(KTC)による救済制度 p.89
4-1 調査申請の手続 p.90
4-2 侵害の立証 p.90
4-3 調査期間及び延長 p.90
4-4 制裁手段 p.91
4-5 貿易委員会(KTC)の調査手続フローチャート p.93
4-6 異議申立 p.93
4-7 改正施行令 p.94
4-8 実務上の注意 p.94
5． 産業財産権紛争調停委員会 p.95
5-1 委員会の特徴 p.95
5-2 関連法規 p.95
5-3 調停申請の対象 p.95
5-4 委員会の構成及び役割 p.96
5-5 担当調停部の設置(運営細則第8条) p.96
5-6 調停部の役割 p.96
5-7 紛争調停のフローチャート p.97
［付録］韓国民事訴訟法（特許侵害問題と関連のある条文のみ抽出） p.170
模倣対策マニュアル 韓国編（2012年3月、日本貿易振興機構）第III編第２章
（目次）
第III編 模倣に対する救済
第２章 模倣に対する行政的救済 p.227
1. 特許審判制度 p.228
1-1 特許審判の種類及び内容 p.228
1-2 特許審判の手続 p.231
1-3 審判の請求 p.232
1-4 再審 p.234
1-5 特許訴訟 p.235
1-6 問合せ先 p.235
2． 税関による国境(水際)措置[商標権/著作権侵害物品の通関保留措置] p.235
2-1 商標権申告制度 p.235
2-2 商標権侵害のおそれのある物品の通関保留手続 p.236
2-3 商標権侵害が明白な物品の通関保留手続 p.237
2-4 通関保留手続のフローチャート p.237
2-5 商標権申告に必要な書類 p.238
2-6 知的財産権統合情報管理システム(IPIMS) p.238
2-7 著作権申告制度 p.239
2-8 その他の注意点 p.239
2-9 韓国の関税法と日本の関税法との比較 p.240
2-10 問合せ先 p.243
3． 不公正貿易行為に対する貿易委員会による救済制度 p.243
3-1 調査申請の手続 p.243
3-2 制裁手段 p.244
3-3 不公正貿易行為に対する調査手続フローチャート p.245
3-4 異議申立 p.245
3-5 改正施行令 p.245
3-6 改正「不公正貿易行為調査及び産業被害救済に関する法律」 p.246
3-7 問合せ先 p.247
4． 産業財産権紛争調停委員会(特許、実用新案、商標、デザイン) p.247
4-1 委員会の特徴 p.247
4-2 関連法規 p.247
4-3 調停申請の対象 p.247
4-4 委員会の構成及び役割 p.248
4-5 紛争調停のフローチャート p.249
4-6 問合せ先 p.249
5． ドメインネーム紛争調停制度 p.250
5-1 IDRC紛争解決手続(｢.kr｣ドメインネーム紛争調停) p.250
5-2 問合せ先 p.252
5-3 ADNDRC紛争解決手続(｢.com｣,｢.net｣ドメインネーム紛争調停) p.253
5-4 問合せ先 p.255
6． 著作権紛争調停制度 p.256
6-1 調停の対象 p.256
6-2 調停手続 p.257
6-3 調停の成立と効力 p.257
6-4 委員会の構成 p.258
6-5 著作権紛争調停手続のフローチャート p.258
6-6 問合せ先 p.258
7． 産業技術紛争調停制度 p.259
7-1 調停の対象 p.259
7-2 調停手続 p.259
7-3 調停の成立と効力 p.260
7-4 委員会の構成 p.260
7-5 調停の拒否及び中止 p.260
7-6 問合せ先 p.261
8． 知的財産保護オンラインモニタリングシステム(IPOMS) p.261
8-1 構築の背景 p.261
8-2 模倣品の発見と通報の流れ p.261
8-3 今後の展開と問合せ先 p.262
9． 商標権特別司法警察隊 p.262
9-1 設立経緯/目的と根拠法律 p.262
9-2 組織構造及び職務範囲 p.263
10． サイバー捜査隊 p.263
10-1 設立経緯と目的 p.263
10-2 組織構造 p.263
10-3 手続方法 p.264
10-4 問合せ先 p.264
11． 偽造商品申告褒賞金制度 p.264
11-1 偽造商品申告センター p.264
11-2 偽造商品申告褒賞金制度 p.264
11-3 申告資格と支給対象 p.265
11-4 問合せ先 p.265
[付録5] 税関への商標権申告書様式* p.330
シンガポールにおける意匠権の管理（譲渡・ライセンス、権利行使、侵害への対応等）
【詳細】
模倣対策マニュアル シンガポール編（簡易版）（2012年3月、日本貿易振興機構）第2章2.3
（目次）
第2章 知的財産の管理
2.3 工業意匠 p.70
2.3.1 工業意匠の所有権 p.70
2.3.2 登録意匠の取引 p.70
登録意匠に関する取引を署名入りの書面を介して行う際の必要条件 p.70
譲受人および排他的ライセンス被許諾者が侵害訴訟を起こす権利 p.70
登録可能な取引と登録がもたらす利点 p.70
2.3.3 登録工業意匠の所有者が持つ排他的な権利、保護期間、および更新 p.70
2.3.4 侵害性の検証試験 p.71
2.3.5 意匠侵害の救済方法と回復に対する制約事項 p.71
2.3.6 登録意匠侵害の申立てへの対応策 p.71
根拠のない登録意匠の侵害訴訟をうかがわせる脅迫行為に対する法的措置／対応策 p.71
登録の取消を求める申請、その手続き、取消の根拠など p.72
非侵害性の宣誓を求める申請 p.72
2.3.7 工業意匠侵害に関する重要な判例 p.72
Risis 対 Polar Gems社事件 p.72
Sebel Furniture 対 Tiong Hin Engineering社事件 p.72
Hunter Manufacturing 対 Soundtex Switchgear & Engineering社事件 p.72
Nagashima Electronic Engineering 対 APH Trading社事件 p.73