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　表1は過去10年における特許出願件数の統計データ（国内出願およびPCT経由国内段階出願を含む）を示す。

表1　2006年から2016年までの年別の特許出願件数（出典：シンガポール知的財産局ウェブサイト）

　表2は過去10年における特許付与件数の統計データ（国内出願およびPCT経由国内段階出願を含む）を示す。

表2　2006年から2016年までの年別の特許付与件数（出典：シンガポール知的財産局ウェブサイト）

　シンガポール知的財産局は、特許出願の処理期間に関する統計データを公表していない。ただし、以下の必達目標を定めている。

・出願から12ヶ月以内に登録証を発行する。

・調査および審査または審査請求から12か月以内に最初のオフィスアクションを発行する。

　表3は、日本の出願人により提出された特許出願の件数を示す。

表3　2006年から2016年までの年別の日本の出願人による特許出願件数（出典：シンガポール知的財産局ウェブサイト）

　表4は、国際特許分類毎の特許付与率（％）を示す。

備考：1つの特許出願に複数の分類が割り振られている場合もある。

表4　2006年から2016年までの年別の国際特許分類毎の特許付与率（出典：シンガポール知的財産局ウェブサイト）