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シンガポールにおいてOIモデル契約書ver2.0ライセンス契約書(新素材編)、利用契約書(AI編)を活用するに際しての留意点

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シンガポールにおける知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編

1. 出願ルート

シンガポールでは、特許権、意匠権、商標権を取得するために、以下のルートにより出願することができる。また、特許、意匠、商標について、国際出願ができる。

[シンガポールにおける出願ルート]

直接出願 国際出願 広域出願
特許 不可
実用新案
意匠 不可
商標 不可

<諸外国・地域・機関の制度概要および法令条約等>

https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html

2. 法令・制度等

(1) 主な法律

法域 法律・規則(公用語)/(英語)

a: 法律・規則等の名称

b: 主な改正内容

URL:

改正年

(YYYY)

施行日

(DD/MM/YYYY)

特許 (公用語・英語)

a. Singapore Patents Act(シンガポール特許法)

b. Act 18 of 2017—Patents (Amendment) Act 2017(2017年法律18号-特許(改正)法2017)

・第14条:「条件と手順の詳細を提供する」ことと、「グレースピリオドの規定を拡大し、グレースピリオドが適用される開示の範囲を拡大する」こと

・第29条:出願人が調査および/または審査の請求を取り消すことができる時期について報告書が提出される前、すなわち未審査の出願が放棄されたとみなされる時期、の前であれば何時でも可とする。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/PA1994

2017

30/10/2017

(日本語)

a.シンガポール特許法

URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-tokkyo.pdf

(公用語・英語)

a. Singapore Patent Rules(シンガポール特許規則)

b. この2017年改訂版特許規則には、2017年10月30日に発効した特許(改正第2)規則2017(S 573/2017)までのすべての修正が組み込まれている。

主な変更点:

・ 規則8:規則8の主題を、国際展示会から法第14条(4)の状況

をサポートする書面による証拠に変更。

・ 規則43:補足審査の対象となる所定の出願日は2020年1月1日

より前。

URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/PA1994-R1

2017

30/10/2017

(日本語)

a.シンガポール特許規則

URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-tokkyo_kisoku.pdf

関連記事:「シンガポールにおける特許出願制度概要」(2019.7.25)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17577/

関連記事:「シンガポールの法令へのアクセス方法―AGCウェブサイト」(2019.6.11)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17408/

関連記事:「シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等」(2019.2.21)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16562/

関連記事:「シンガポールにおける特許年金制度の概要」(2018.10.11)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15963/

意匠 (公用語・英語)

a. Singapore Registered Designs Act(シンガポール意匠法)

b. 主な改正点

1.定義規定を整備し、製法の限定を廃止、「非物理的製品」規定を追加した。

2.所有者の定義を見直し、委託創作の所有者を委託者とする規定を廃止した。

3.新規性喪失の経過規定に創作者の公知行為を追加、猶予期間を12月に変更。

4.著作権者等による意匠出願について、芸術作品の保護の除外規定の明確化した。

5.方式要件を条文に明記し出願日認定要件を規定、多意匠一出願採用した。

6.公告の延期既定を新設した。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/RDA2000

2017

30/10/2017

(日本語)

a. シンガポール意匠法

https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-ishou.pdf

b. 改正概要

https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-ishou_kisoku_kaisei.pdf

(公用語・英語)

a. Singapore Registered Designs Rules(シンガポール意匠規則)

b. 主な改正点

1.意匠公報の定義を改定し、非物理的製品・設計を追加した。

2.産業上の利用規定を、非物理的製品を含む規定へ差替えた。

3.新規性の宣誓(statement)について、織物・壁紙等を除き、出願が新規な意匠であるとの宣誓を求めるよう改定した。

4.新規性喪失の経過規定を、法改正に沿った開示規定に改定した。

5.法改正に沿って、多意匠一出願を認める規則に改定した。

URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/RDA2000-R1

No. S574 Registered Designs (Amendment No.2) Rules 2017

URL: https://www.ipos.gov.sg/docs/default-source/default-document-library/registered-designs-(amendment-no-2)-rules-2017-(002).pdf

2017

30/10/2017

(日本語)

なし

関連記事:「シンガポールにおける意匠登録出願制度概要」(2019.7.30)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17579/

関連記事:「シンガポールの意匠関連の法律、規則等」(2019.4.2)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16806/

関連記事:「シンガポールにおける意匠登録の機能性および視認性」(2018.10.4)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15931/

関連記事:「シンガポールにおける意匠の公開延期請求について」(2017.6.22)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/13827/

関連記事:「日本とシンガポールの意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較」(2015.9.25)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/9296/

関連記事:「日本とシンガポールにおける意匠権の権利期間および維持に関する比較」(2015.3.31)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8454/

商標 (公用語・英語)

a. Trade Marks Act(シンガポール商標法)

(Chapter 332, Revised Edition 2005)

b. 商標法のこの改訂版2005(332章)は、2018年法律第34号(知的財産の国境取締法(INTELLECTUAL PROPERTY (BORDER ENFORCEMENT) ACT 2018)の施行に伴い、関連する国境取締措置に関する条項が改正された。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/TMA1998

2018

21/11/2019

(日本語)

なし

(公用語・英語)

a. Trade Marks Rules(シンガポール商標規則)

(G.N. No. S 149/2017—Trade Marks (Amendment No. 2) Rules 2017)

b. 主な改正点

1.ニース分類表を附則から外し、分類表更新の都度の規則改正を不要とした。

2.異議申立制度について、期間延長請求、誓約書および登録官の決定に関して明確化した。

2017

1/4/2017

(日本語)

a.シンガポール商標規則

URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-shouhyou_kisoku.pdf

関連記事:「シンガポールの商標法における『商標』の定義の観点からの識別性」(2017.12.14)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/14326/

関連記事:「シンガポールの商標法における『認証・証明マーク』についての識別性の要件・考え方および地理的表示(GI)の保護制度との関係」(2017.12.7)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/14313/

関連記事:「シンガポールの模倣被害に対する措置および対策」(2017.11.21)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/14261/

関連記事:「シンガポールにおけるマドリッド協定議定書の基礎商標の同一性の認証と商品・役務に関する審査の在り方」(2017.5.30)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/13693/

関連記事:「シンガポールにおける商標のコンセント制度」(2017.2.23)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/13205/

関連記事:「シンガポールにおける証明標章制度」(2016.4.11)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10362/

関連記事:「シンガポールにおける商標出願に際しての商品および役務の記述に関する留意事項」(2016.3.29)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10417/

関連記事:「シンガポールにおける商標権に基づく権利行使【その1】」(2015.6.2)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/8562/

関連記事:「シンガポールにおける商標権に基づく権利行使【その2】」(2015.6.9)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8564/

関連記事:「シンガポールにおける『商標の使用』の定義と証拠【その1】」(2015.5.19)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8570/

関連記事:「シンガポールにおける『商標の使用』の定義と証拠【その2】」(2015.5.26)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8560/

関連記事:「シンガポールにおける周知商標の保護」(2015.3.31)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/8484/

関連記事:「シンガポールにおける商号保護」(2015.3.31)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/8486/

関連記事:「シンガポールにおける商標の識別力を損失した登録商標の取消制度」(2014.11.11)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/7059/

著作権 (公用語・英語)

a. Singapore Copyright Act(シンガポール著作権法)

b.国立図書館委員会法改正(NATIONAL LIBRARY BOARD (AMENDMENT) ACT 2018、2018年法第30号)に伴う改正

URL: https://sso.agc.gov.sg/Acts-Supp/22-2021/Published/

*2022年6月10日に2021年改正法にリンク修正

2019

31/01/2019

(日本語)

なし

関連記事:「シンガポールにおける昨今の法執行事例」(2013.12.17)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/precedent/4898/

不正競争 (公用語・英語)

a. Singapore Competition Act(シンガポール競争法)

b. ENTERPRISE SINGAPORE BOARD ACT 2018制定に伴う改正

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/ESBA2018

2018

01/04/2018

(日本語)

なし

(2) 審査基準等

法域 審査基準、ガイドライン、マニュアル等

a:審査基準等の名称

URL:

最終更新

b:(DD/MM/YYYY)

特許 (公用語・英語)

a. Examination Guidelines(審査ガイドライン)

URL: https://www.ipos.gov.sg/docs/default-source/resources-library/patents/guidelines-and-useful-information/examination-guidelines-for-patent-applications.pdf

02/06/2022

(日本語)

なし

(公用語・英語)

a. Patents Formalities Manual(特許方式マニュアル)

URL: https://www.ipos.gov.sg/docs/default-source/resources-library/patents/guidelines-and-useful-information/patents-formalities-manual.pdf

02/06/2022

(日本語)

なし

関連記事:「シンガポールにおけるコンピュータソフトウエア関連発明等の特許保護の現状」(2019.1.15)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16391/

関連記事:「シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等」(2019.2.21)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16562/

関連記事:「シンガポールにおける特許審査基準関連資料」(2016.2.9)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10279/

意匠 シンガポール意匠は実体審査が行われないため、審査基準等は用意されていない。
商標 (公用語・英語)

a. Trade Marks Work Manual(商標作業マニュアル)

URL:https://www.ipos.gov.sg/about-ip/trade-marks/managing-trade-marks/guides

08/2018

(日本語)

なし

関連記事:「シンガポールの商標関連の法律、規則、審査基準等」(2019.4.2)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16809/

関連記事:「シンガポールにおける商標審査基準関連資料」(2016.2.19)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10281/

(3) 主な条約・協定(加盟状況)

条約名 加盟 加盟予定

(YYYY)

未加盟
(1) パリ条約

(工業所有権の保護に関するパリ条約)

(      )

(2) PCT

(特許協力条約)

(      )

(3) TRIPs

(知的所有権の貿易関連の側面に関する協定)

(      )

(4) PLT

(特許法条約)

(      )

(5) IPC

(国際特許分類に関するストラスブール協定)

(      )

(6) ハーグ協定

(意匠の国際登録に関するハーグ協定)

(      )

(7) ロカルノ協定

(意匠の国際分類を定めるロカルノ協定)

(      )

(8) マドリッド協定

(標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書)

(      )

(9) TLT

(商標法条約)

(      )

(10) STLT

(商標法に関するシンガポール条約)

(      )

(11) ニース協定

(標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定)

(      )

(12) ベルヌ条約

(文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約)

(      )

(13) WCT

(著作権に関する世界知的所有権機関条約)

(      )

(14) WPPT

(実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約)

(      )

3. 料金表

[情報1]

(公用語・英語)

Title: First Schedule (After Rule 120) of the “Patents Rules”

URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/PA1994-R1

(日本語)

Title: シンガポール特許規則、附則1「手数料」

URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-tokkyo_kisoku.pdf

(公用語・英語)

Title: Forms & Fees(様式および手数料)

URL: https://www.ipos.gov.sg/about-ip/trade-marks

(日本語)

なし

関連記事:「シンガポールにおける特許年金制度の概要」(2018.10.11)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15963/

関連記事:「シンガポールにおける特許ライセンス」(2018.6.28)

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/15376/

メキシコにおける特許ライセンスおよび技術移転への競争法上の規制

【詳細及び留意点】

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