インドにおける知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編
1. 出願ルート
インドでは、特許権、意匠権、商標権を取得するために、以下のルートにより出願することができる。また、特許権および商標権については、国際出願（PCT、マドリッドプロトコル）が可能である。インドには無審査で登録可能な権利、例えば、実用新案権はない。
［インドにおける出願ルート］
| 直接出願 | 国際出願 | 広域出願 | |
|---|---|---|---|
| 特許 | 可 | 可 | 不可 |
| 実用新案 | ‐ | ‐ | ‐ |
| 意匠 | 可 | 不可 | 不可 |
| 商標 | 可 | 可 | 不可 |
＜諸外国・地域・機関の制度概要および法令条約等＞
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html
2. 法令・制度等
(1) 主な法律
| 法域 | 法律・規則（公用語）／（英語） a: 法律・規則等の名称 b: 主な改正内容 URL: | 改正年 (YYYY) | 施行日 (DD/MM/ YYYY) |
|---|---|---|---|
| 特許 | （公用語・英語） a: The Patents Act,1970(incorporating all amendments till 23-06-2017) b: 各地の高等裁判所に関する記載が削除された（第2条(1)(i)）。特許出願日が明確にされた（第45条）。特許登録簿への記載事項が明確にされた（第67条）。特許代理人について明確にされた（第128条）。 https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_113_1_The_Patents_Act_1970_-_Updated_till_23_June_2017.pdf | 2017 | 23/06/2017 |
| （日本語） a: インド1970年特許法、2017年6月23日公布 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-tokkyo.pdf | |||
| （公用語・英語） a: Indian Patent Act 1970, The Patents (Amendment) Act 2005 b: 拒絶理由解消期間の設定。審査請求制度の導入、既存の物質の新規な使用を不特許事由から除外。食品・薬品、医薬品分野における物質も特許の対象に。付与前および付与後異議申立制度の導入。管理官の指示や指令に対する知的財産審判委員会へ不服申立制度の導入。 http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_69_1_patent_2005.pdf | 2005 | 04/04/2005 | |
| （日本語） a: インド1970年特許法、インド2005年（改正）特許法 https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/6086233/www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/s_sonota/fips/mokuji.htm | |||
| （公用語・英語） a: Patents (Amendment) Rules, 2021 b:「教育機関」が定義された（規則2）。手数料に教育機関に関する事項が追加された（規則7）。 https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/Patents__Amendment__Rules__2021.pdf | 2021 | 21/09/2021 | |
| （日本語） a: 改正特許規則（2021） （なし） 【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2021/in/20210930.pdf | |||
| （公用語・英語） a: Patents (Amendment) Rules, 2020 b: 優先権書類の提出要件が改正された（規則21）。実施報告書の提出方法が改正された（規則131,Form27） https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/patents_amendment_rules_2020.pdf | 2020 | 19/10/2020 | |
| （日本語） a: 改正特許規則（2020） （なし） 【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2020/in/news_20201021.pdf | |||
| （公用語・英語） a: Patents Amendment Rules, 2019 b: 早期審査の要件が改正された（規則24C）。書類の配達および送達方法が改正された（規則6）。スタートアップに関する手数料の手続きが変更された（規則7）。 https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/patents_amendment_rules_2019.pdf | 2019 | 17/09/2019 | |
| （日本語） a: 改正特許規則（2019） （なし） 【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2019/in/news_20190920.pdf | |||
| （公用語・英語） a: Indian Patent Rules 2003, The Patents (Amendment) Rules 2017 b:「スタートアップ」が定義された。 http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_76_1_1_76_1_2018-01-02__2_.pdf | 2017 | 01/12/2017 | |
| （日本語） a: インド2003年特許規則、インド2017年（改正）特許規則 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-tokkyo_kisoku.pdf | |||
| （公用語・英語） a: Indian Patent Rules 2003, The Patents (Amendment) Rules 2016 b: 拒絶理由解消期間が6か月に短縮され、最大で3か月延長できるようになった。スタートアップという出願人の区分が追加された。出願の取下げが無料となった。審査報告書が発送されていない出願を取り下げた場合に一部の審査請求料金が払い戻しされる制度が設けられた。請求項や要約書に参照番号を挿入することが必須になった。ビデオ会議で聴聞を受けることが可能になった。 http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_14_1_patent-rules-2006.pdf | 2016 | 16/05/2016 | |
| （日本語） a: インド特許規則2003年、インド特許規則2006年改正 https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/998256/www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/s_sonota/fips/mokuji.htm | |||
| 関連記事：「インドにおける特許出願の補正の制限」（2023.01.26） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27695/ 関連記事：「インドにおける特許異議申立制度－付与前異議申立と付与後異議申立」（2023.02.14） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/33767/ 関連記事：「インドにおける特許の実施報告制度（2020年特許規則改正）」（2022.07.12） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/24051/ 関連記事：「インド特許出願における優先権主張の手続（2020年特許規則改正）」（2022.02.17） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/22598/ 関連記事：「インドにおける特許出願制度概要」（2019.06.13） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17416/ 関連記事：「インドの特許関連の法律、規則、審査マニュアル」（2019/02/14） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16518/ 関連記事：「インドにおける特許年金制度の概要」（2018.05.15） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15053/ | |||
| 意匠 | （公用語・英語） a: Indian Design Act 2000 b: 意匠法1911年はインド意匠法2000年により置き換えられた。 http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_58_1_design_act_1_.PDF | 2000 | 25/05/2000 |
| （日本語） a: インド意匠法2000年 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-ishou.pdf | |||
| （公用語・英語） a: Design (Amendment) Rule 2021 b: 「スタートアップ」のカテゴリーを定義した（規則2）。諸手続き費用を改正した（規則5）。ロカルノ分類の採用を規定した（規則10）。 https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/The_Designs__amendment___Rules__2021.pdf | 2021 | 25/01/2021 | |
| （日本語） a: 改正意匠規則（2021） （なし） 【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2021/in/20210201.pdf | |||
| （公用語・英語） a: Indian Design Rule 2001, The Design (Amendment) Rule 2014 b: 出願人の区分として小規模事業体が追加された。 https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/1_23_1_design-amendment-rules-2014.pdf | 2014 | 30/12/2014 | |
| （日本語） a: インド2001年意匠規則、インド2014年（改正）意匠規則 （なし） | |||
| （公用語・英語） a: Indian Design Rule 2001, The Design (Amendment) Rule 2008 b: 書類を電子的に提出が可能になった。書類や図面の書式が定義された。拒絶理由解消期間の延長の規定が設けられた。 https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/1_26_1_design-rules-2008.pdf | 2008 | 17/06/2008 | |
| （日本語） a: インド2001年意匠規則、インド2008年（改正）意匠規則2008年改正 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-ishou_kisoku.pdf | |||
| 関連記事：「日本とインドにおける意匠権の権利期間および維持に関する比較」（2023.11.14） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37673/ 関連記事：「インド法における意匠保護に関する機能性と可視性の概念」（2020.10.22）） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19532/ 関連記事：「インドにおける画像意匠の保護制度」（2020.10.13） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19502/ 関連記事：「日本とインドにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較」（2019.10.01） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17762/ 関連記事：「インドの意匠関連の法律、規則、審査マニュアル」（2019.03.21） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16711/ 関連記事：「インドにおける意匠出願制度概要」（2019.06.13） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17418/ 関連記事：「日本とインドの意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較」（2015.07.17） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/9269/ 関連記事：「インドにおける意匠出願の補正」（2015.03.31） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8156/ | |||
| 商標 | （公用語・英語） a: Indian Trademarks Act 1999, The Trademarks (Amendment) Act 2010 b: 商標は出願日から18か月以内に登録されなければならないこととなった。商標の公告から4か月以内に異議申立が可能となった。テキスタイル商品およびテキスタイル商標の概念が削除された。マドプロ出願が導入された。 https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_46_1_tmr-amendment-act-2010.pdf | 2010 | 21/09/2010 |
| （日本語） a: インド1999年商標法、インド2010年（改正）商標法 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-shouhyou.pdf | |||
| （公用語・英語） a: Indian Trademarks Rules 2002, The Trademarks (Amendment) Rules 2017 b: 庁費用が上がった。出願人の区分にスタートアップが追加された。電子出願が促進された。周知商標の認定手続きが導入された。早期審査請求が可能になった。音商標の登録が可能になった。 https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_69_1_Trade_Marks_Rules_2017.pdf | 2017 | 03/06/2017 | |
| （日本語） a: インド2002年商標規則、インド2017年（改正）商標規則 https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-shouhyou_kisoku.pdf | |||
| （公用語・ヒンズー語／英語） a: Indian Trademarks Rules 2002, The Trademarks (Amendment) Rules 2013 b: 庁費用が上がった。 https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_58_1_tmr-amendment-rules-13september2013.pdf | 2013 | 01/08/2013 | |
| （日本語） a: インド2002年商標規則、インド2013年改正商標規則 （なし） | |||
| 関連記事：「インドにおける商標異議申立制度」（2023.03.23） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/34075/ 関連記事：「インドにおける商標のコンセント制度について」（2023.01.31） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27693/ 関連記事：「インドにおけるブランド保護」（2021.06.22） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/20269/ 関連記事：「インド商標法に基づく拒絶理由に関する調査報告書」（2021.08.24） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20765/ 関連記事：「インドにおける商標制度のまとめ－実体編」（2020.06.11） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18629/ 関連記事：「インドにおける商標制度のまとめ－手続編」（2020.10.08） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19497/ 関連記事：「インドの商標関連の法律、規則、審査マニュアル」（2019.03.26） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16714/ 関連記事：「インドにおける商標出願制度概要」（2019.07.09） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17532/ 関連記事：「インドにおける悪意（Bad-faith）の商標出願に関する法制度および運用」（2019.2.7） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16493/ 関連記事：「インドにおける連続（シリーズ）商標制度」（2018.09.18） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/15836/ 関連記事：「インドにおける証明商標制度」（2015.11.10） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8548/ | |||
| 著作権法 | （公用語・英語） a: Indian Copyright Act 1957, The Indian Copyright (Amendment) Act 2012 b: 「商業的貸与」が定義された。実演家の排他的権利が再定義された。録画物が定義された。著作権委員会の構成などが定義された。強制利用許諾が設定された。WCTおよびWPPTの規定に準拠した。 https://copyright.gov.in/Documents/CRACT_AMNDMNT_2012.pdf | 2012 | 07/06/2012 |
| （日本語） a. インド1957年著作権法、インド2012年（改正）著作権法 https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/copyright_201809.pdf | |||
| 不正競争 | インドにはこの法律に相当する法律はない。 | – | – |
(2) 審査基準等
| 審査基準、ガイドライン、マニュアル等 a:審査基準等の名称 URL: | 最終更新 b:(DD/MM/YYYY) | |
|---|---|---|
| 特許 | （公用語・英語） a: Manual of Patent Office Practice and Procedure https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/Manual_for_Patent_Office_Practice_and_Procedure_.pdf | 26/11/2019 |
| （日本語） a: 特許庁の特許実務及び手続の手引（インド） https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/201103_tokkyo_01.pdf（2011年修正） https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2019/in/news_20191209.pdf（2019年改正概要） | ||
| 意匠 | （公用語・英語） a: Manual of Design Office Practice and Procedure https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOGuidelinesManuals/1_30_1_manual-designs-practice-and-procedure.pdf | – |
| （日本語） a: 意匠審査の実務及び手続の手引 https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/2011_ishou_01.pdf | ||
| 商標 | （公用語・英語） a: Manual of Trademarks Practice and Procedure (draft) https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOGuidelinesManuals/1_33_1_public-notice-11march2015.pdf | 10/03/2015 |
| （日本語） a: 商標マニュアル(案)実務と手引き https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/manual_of_trade_marks_201503_jp.pdf |
(3) 主な条約・協定（加盟状況）
| 条約名 | 加盟 | 加盟予定 (YYYY) | 未加盟 |
|---|---|---|---|
| (1) パリ条約 (工業所有権の保護に関するパリ条約) | ☒ 1998 | ☐ ( ) | ☐ |
| (2) PCT (特許協力条約) | ☒ 1998 | ☐ ( ) | ☐ |
| (3) TRIPs (知的所有権の貿易関連の側面に関する協定) | ☒ 1995 | ☐ ( ) | ☐ |
| (4) PLT (特許法条約) | ☐ | ☐ ( ) | ☒ 未加盟 |
| (5) IPC (国際特許分類に関するストラスブール協定) | ☐ | ☐ ( ) | ☒ 未加盟 |
| (6) ハーグ協定 (意匠の国際登録に関するハーグ協定) | ☐ | ☐ ( ) | ☒ 未加盟 |
| (7) ロカルノ協定 (意匠の国際分類を定めるロカルノ協定) | ☒ 2019 | ☐ ( ) | ☐ |
| (8) マドリッド協定 (標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書) | ☒ 2013 | ☐ ( ) | ☐ |
| (9) TLT (商標法条約) | ☐ | ☐ ( ) | ☒ 未加盟 |
| (10) STLT (商標法に関するシンガポール条約) | □ | ☐ ( ) | ☒ 未加盟 |
| (11) ニース協定 (標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定) | ☒ 2019 | ☐ ( ) | ☐ |
| (12) ベルヌ条約 (文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約) | ☒ 1928 | ☐ ( ) | ☐ |
| (13) WCT (著作権に関する世界知的所有権機関条約) | ☒ 2018 | ☐ ( ) | ☐ |
| (14) WPPT (実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約) | ☒ 2018 | ☐ ( ) | ☐ |
3. 料金表
| [特許]（公用語・英語） Title: The First Schedule Fees https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/ev/schedules/Schedule_1.pdf |
| [意匠] （公用語・英語） Title: The Designs(amendment), Rules, 2021 https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/The_Designs__amendment___Rules__2021.pdf |
| [商標] （公用語・英語） Title: Forms and Fees https://ipindia.gov.in/form-and-fees-tm.htm |
| 関連記事：「インドにおける産業財産権権利化費用」（2019.8.8） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17617/ 関連記事：「インドにおける特許年金制度の概要」（2018.5.15） https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15053/ |