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シンガポールにおける知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編

1. 出願ルート
　シンガポールでは、特許権、意匠権、商標権を取得するために、以下のルートにより出願することができる。また、特許、意匠、商標について、国際出願ができる。

［シンガポールにおける出願ルート］

直接出願国際出願広域出願
特許可可不可
実用新案–––
意匠可可不可
商標可可不可

＜諸外国・地域・機関の制度概要および法令条約等＞
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html

2. 法令・制度等
(1) 主な法律

法域法律・規則（公用語）／（英語）
a: 法律・規則等の名称
b: 主な改正内容
URL:		改正年
(YYYY)		施行日
(DD/MM/
YYYY)
特許（公用語・英語）
a: Singapore Patents Act 1994（シンガポール特許法）
b：Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019）により、シンガポール特許法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。

1. 登録の有効性証明書の付与が裁判所だけでなく登録官も付与可能となった(特許法第72条)。
2. 裁判における示談の徴収金額について上限が定められた(特許法第103条)。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/PA1994

【参考】Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019）
https://sso.agc.gov.sg/Acts-Supp/23-2019/Published/20190911?DocDate=20190911		2019
10/06/2022
(最終施行日)
（日本語）
a: シンガポール特許法
URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaik当oku/document/mokuji/singapore-tokkyo.pdf
（公用語・英語）
a: Singapore Patents Act 1994（シンガポール特許法）
b： Intellectual Property (Amendment) Act 2022  (Act No. 7 of 2022)により、シンガポール特許法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。

1. 実質的な応答の必要がなく、軽微な補正で対処できる場合には、審査官は、見解書に代えて補正指令書を出願人に提供して、補正を求めることができるようになった（特許法第29条(7B)）。
2. 再審理の請求時に、すべての未解決の拒絶理由を解消する目的で補正書が提出された場合には、審査官は、従前の審査報告書に同意するか否かを明記する必要がなくなった（特許法第29B条(4A)）。
3. シンガポール知的財産庁が調査の最終結果または英語による国際調査報告書を作成し、かつ報告書が事前に出願人に送付されている場合には、出願人は、審査請求時に調査結果の写しを提出する必要がなくなった（特許法第29条(1)(c)）。
4. 英語以外の言語で出願された国際出願の国内段階への移行時に、英訳の公開を求める申請書の提出および英訳の公開手数料が廃止された（特許法第86条(6)）。
5. 登録官は、第三者からの請求がない場合であっても、裁量によって、公開された出願に関する一切の情報および書類を公開することができるようになった（特許法第108条(1A)）。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/PA1994

【参考】Intellectual Property (Amendment) Act 2022 (Act No. 7 of 2022) https://www.wipo.int/wipolex/en/text/587162		202226/05/2022
（日本語）
a: シンガポール特許法
URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaik当oku/document/mokuji/singapore-tokkyo.pdf
（公用語・英語）
a: Singapore Patent Rules（シンガポール特許規則）
b: 2022年改正特許法が施行され、これにより特許規則が改正された。主な改正点は以下のとおりである。

1. 要約に添付する図の数が2つまでに制限された（特許規則22(6)）
2. 所定の書類の提出義務が削除された（特許規則26(4A)）。例えば、特許出願が先の出願を参照する場合、先の出願に関する書類が以前に提出されていれば、先の出願と対応する書類の複写の提出は不要となる。
3. 配列リストを提出する際に、WIPO 標準で要求される配列リストの提出が必要となった（特許規則19A）。
4. 出願が、単一性の要件を満たさない場合、最初の発明のみに審査が制限されることになった（特許規則45(1A)）。

URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/PA1994-R1

【参考】Patents(Amendment NO. 2) Rules 2022
https://sso.agc.gov.sg/SL-Supp/S399-2022/Published/20220523?DocDate=20220523#pr25-		202226/05/2022
（日本語）
a: シンガポール特許規則
URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-tokkyo_kisoku.pdf
関連記事：シンガポールにおける特許制度のまとめ－手続編（2022.12.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27217/

関連記事：シンガポールにおける特許制度のまとめ－実体編（2020.05.19）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18575/

関連記事：「シンガポールにおける知的財産法改正について」（2023.03.16）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/34012/

関連記事：「シンガポールの法令へのアクセス方法―AGCウェブサイト」（2023.11.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37646/

関連記事：シンガポールにおける特許公報へのアクセス方法（2022.10.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/26817/

関連記事：「シンガポールにおける特許出願制度概要」（2019.07.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17577/

関連記事：「シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等」（2021.05.11）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19849/

関連記事：「シンガポールにおける特許、意匠年金制度の概要」（2022.11.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/27089/

関連記事：シンガポールにおける特許審査迅速化の方法（2023.02.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/33773/












意 匠		（公用語・英語）
a: Singapore Registered Designs Act 2000（シンガポール意匠法）
b：Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019）により、シンガポール意匠法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。

1. 登録の有効性証明書の付与が裁判所だけでなく登録官も付与可能となった（意匠法第43条）。
2. 裁判における示談の徴収金額について上限が定められた（意匠法第68条）。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/RDA2000

【参考】Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019）
https://sso.agc.gov.sg/Acts-Supp/23-2019/Published/20190911?DocDate=20190911		2019
10/06/2022
(最終施行日)
（日本語）
a:シンガポール意匠法
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-ishou.pdf
（公用語・英語）
a: Singapore Registered Designs Act（シンガポール意匠法）
b: Intellectual Property (Amendment) Act 2022 (Act No. 7 of 2022) により、シンガポール意匠法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。

1. パリ条約出願の優先権の主張において、組物の意匠も対象とされることが明記された（意匠法第12条(1)(a)）。
2. 意匠権の部分放棄が明記された（意匠法第30A条(1)）。
3. 登録意匠の虚偽表示に関して組物の意匠が明記された（意匠法第66条(1)）。
4. 申請、通知または書類の修正に関して登録官が公開できることが明記された（意匠法74条(2A)）。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/RDA2000
【参考】Intellectual Property (Amendment) Act 2022 (Act No. 7 of 2022)
https://www.wipo.int/wipolex/en/text/587162		202226/05/2022
（日本語）
a:シンガポール意匠法
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-ishou.pdf
（公用語・英語）
a: Singapore Registered Designs Rules（シンガポール意匠規則）
b: 2022年改正意匠法が施行され、これにより意匠規則が改正された。主な改正点は以下のとおりである。

1. 権利者は、登録された意匠によって付与された特定の特徴に関する権利を自発的に放棄することができるようになった（意匠規則14A）。
2. 失効した権利の回復期間が、6か月から2か月へ短縮された（意匠規則 25(2)(a)）。
3. 優先権主張を伴った出願の出願人は、登録官が要求した日から 3 月以内に、優先権基礎出願の出願番号を提出しなければならない（意匠規則19(2AA)）。

URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/RDA2000-R1

【参考】 Registered Designs (Amendment NO. 2) Rules 2022 （2022年意匠規則改正条項）
https://sso.agc.gov.sg/SL-Supp/S402-2022/Published/20220523?DocDate=20220523		202226/05/2022
（日本語）
a: シンガポール意匠規則
URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-ishou_kisoku.pdf
関連記事：「シンガポールにおける意匠登録出願制度概要」（2019.7.30）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17579/

関連記事：「シンガポールの意匠関連の法律、規則等」（2019.04.02）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16806/

関連記事：「シンガポールにおける意匠公報へのアクセス方法」（2024.02.06）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/38195/

関連記事：「シンガポールにおける意匠登録の機能性および視認性」（2018.10.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15931/

関連記事：「シンガポールにおける意匠の公開延期請求について」（2019.09.05） 
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17676/

関連記事：「日本とシンガポールの意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較」（2015.09.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/9296/

関連記事：「日本とシンガポールにおける意匠権の権利期間および維持に関する比較」（2015.03.31）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8454/

商標（公用語・英語）
a: Singapore Trade Marks Act 1998（シンガポール商標法）
b：Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019）により、シンガポール商標法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。

1. 登録の有効性証明書の付与が裁判所だけでなく登録官も付与可能となった(商標法第102条)。
2. 裁判における示談の徴収金額について上限が定められた(商標法第105A条)。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/TMA1998

【参考】Intellectual Property (Dispute Resolution) Act 2019（Act 23 of 2019）
https://sso.agc.gov.sg/Acts-Supp/23-2019/Published/20190911?DocDate=20190911		2019
10/06/2022
(最終施行日)
（日本語）
a: シンガポール商標法
URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-shouhyou.pdf
（公用語・英語）
a: Singapore Trade Marks Act 1998（シンガポール商標法） (Chapter 332, Revised Edition 2005)
b: Intellectual Property (Amendment) Act 2022 (Act No. 7 of 2022) により、シンガポール商標法が改正された。主な改正点は以下のとおりである。

1. 国内の商標出願を対象とした部分登録制度が導入され、拒絶された商品または役務のみが取り下げられるか、拒絶されることになった（第12条(4)(b)）。
2. 取下げとされた出願の手続継続に関して規則で制定することができるとされ、商標出願が取り下げられた日から6か月以内に、出願継続の請求をすることができる期間が短縮された（第108条(ia)）。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/TMA1998

【参考】Intellectual Property (Amendment) Act 2022 (Act No. 7 of 2022) https://www.wipo.int/wipolex/en/text/587162		202226/05/2022
（日本語）
a: シンガポール商標法
URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-shouhyou.pdf
（公用語・英語）
a: Singapore Trade Marks Rules（シンガポール商標規則）
b: 2022年改正商標法が施行され、これにより商標規則が改正された。

1. 出願人は、出願が取り下げられたとみなされた日から 2か月以内に、出願手続を継続するように登録官に請求を行うことができることとされた（商標規則77AA(2),(3)(a)）。
2. 拒絶理由通知に対して応答しない場合、従来は出願全体が取り下げられたものとされていたが、改正により拒絶理由通知を受けた商品・役務のみが取下げられたものとして扱われ、残りの商品・役務に関する出願手続は続行されることとなった（商標規則24(2)）。

URL: https://sso.agc.gov.sg//SL/332-R1?DocDate=20220523

【参考】 Trade Narks (Amendment NO. 2) Rules 2022 （2022年商標規則改正条項）
https://sso.agc.gov.sg/SL-Supp/S403-2022/Published/20220523?DocDate=20220523		202226/05/2022
（日本語）
a:シンガポール商標規則
URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-shouhyou_kisoku.pdf
関連記事：シンガポールにおける商標制度のまとめ－手続編（2020.09.03）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19446/

関連記事：シンガポールにおける商標制度のまとめ－実体編（2020.06.09）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18623/

関連記事：シンガポールにおける商標公報へのアクセス方法（2022.10.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/26789/

関連記事：シンガポールにおける商標のコンセント制度について（2023.01.05）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27455/

関連記事：シンガポールにおける英語以外の言語を含む商標の出願（2021.06.29）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20345/

関連記事：シンガポールにおける顧客に好まれない商標および顧客に好まれる商標（2024.01.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/38116/

関連記事：シンガポールにおける商標の識別性に関する調査（2021.09.02）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20809/

著作権法（公用語・英語）
a: Singapore Copyright Act（シンガポール著作権法）
b: 2021年9月に可決され2021年11月21日に施行された改正法
URL: https://sso.agc.gov.sg/Acts-Supp/22-2021/Published/		202121/11/2021
（日本語）
なし
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2021/sg/20211126.pdf
不正競争（公用語・英語）
シンガポールには、日本の不正競争防止法のような営業秘密等の 保護を規定する明確な法律は存在せず、営業秘密は判例法により保護されている。
【参考】https://www.meti.go.jp/policy/economy/chizai/chiteki/pdf/outreach_r3_singapore.pdf 
――
（日本語）
なし

(2) 審査基準等

審査基準、ガイドライン、マニュアル等
a: 審査基準等の名称
URL:		最終更新
b:(DD/MM/
YYYY)
特許（公用語・英語）
a: Examination Guidelines（審査ガイドライン）
URL: https://www.ipos.gov.sg/docs/default-source/resources-library/patents/guidelines-and-useful-information/examination-guidelines-for-patent-applications.pdf		02/06/2022
（日本語）
なし
（公用語・英語）
a: Patents Formalities Manual（特許方式マニュアル）
URL: https://www.ipos.gov.sg/docs/default-source/resources-library/patents/guidelines-and-useful-information/patents-formalities-manual.pdf		02/06/2022
（日本語）
なし
関連記事：「シンガポールにおけるコンピュータソフトウエア関連発明等の特許保護の現状」（2019.01.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16391/

関連記事：「シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等」（2021.05.11） 
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19849/

関連記事：「シンガポールにおける特許審査基準関連資料」（2016.02.09）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10279/
意匠シンガポール意匠は実体審査が行われないため、審査基準等は用意されていない。
商標（公用語・英語）
a: Trade Marks Work Manual（商標作業マニュアル）
URL:https://www.ipos.gov.sg/about-ip/trade-marks/managing-trade-marks/guides		08/2018
（日本語）
なし
関連記事：「シンガポールの商標関連の法律、規則、審査基準等」（2021.05.11）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19846/

関連記事：「シンガポールにおける商標審査基準関連資料」（2016.02.19）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10281/

(3) 主な条約・協定（加盟状況）

条約名加盟加盟予定
(YYYY)		未加盟
(1) パリ条約
　(工業所有権の保護に関するパリ条約)		☒☐
(     )		☐
(2) PCT
　(特許協力条約)		☒☐
(     )		☐
(3) TRIPs
　(知的所有権の貿易関連の側面に関する協定)		☒☐
(     )		☐
(4) PLT
　(特許法条約)		☐☐
(     )		☒
(5) IPC
　(国際特許分類に関するストラスブール協定)		☒☐
(     )		☐
(6) ハーグ協定
　(意匠の国際登録に関するハーグ協定)		☒☐
(     )		☐
(7) ロカルノ協定
　(意匠の国際分類を定めるロカルノ協定)		☐☐
(     )		☒
(8) マドリッド協定
　(標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書)		☒☐
(     )		☐
(9) TLT
　(商標法条約)		☐☐
(     )		☒
(10) STLT
　(商標法に関するシンガポール条約)		☒☐
(     )		☐
(11) ニース協定
　(標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定)		☒☐
(     )		☐
(12) ベルヌ条約
　(文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約)		☒☐
(     )		☐
(13) WCT
　(著作権に関する世界知的所有権機関条約)		☒☐
(     )		☐
(14) WPPT
　(実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約)		☒☐
(     )		☐

3. 料金表
[情報1]

（公用語・英語）
Title: First Schedule (After Rule 120) of the “Patents Rules”
URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/PA1994-R1
（日本語）
Title: シンガポール特許規則、附則1「手数料」
URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-tokkyo_kisoku.pdf
（公用語・英語）
Title: Forms & Fees（様式および手数料）
URL: https://www.ipos.gov.sg/about-ip/form-fees
（日本語）
なし
関連記事：「シンガポールにおける特許、意匠年金制度の概要」（2022.11.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/27089/

関連記事：「シンガポールにおける特許ライセンス」（2018.06.28）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/15376/

インドにおける知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編

1. 出願ルート
　インドでは、特許権、意匠権、商標権を取得するために、以下のルートにより出願することができる。また、特許権および商標権については、国際出願（PCT、マドリッドプロトコル）が可能である。インドには無審査で登録可能な権利、例えば、実用新案権はない。

［インドにおける出願ルート］

直接出願国際出願広域出願
特許可可不可
実用新案‐‐‐
意匠可不可不可
商標可可不可

＜諸外国・地域・機関の制度概要および法令条約等＞
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html

2. 法令・制度等
(1)　主な法律

法域法律・規則（公用語）／（英語）
a: 法律・規則等の名称
b: 主な改正内容
URL:		改正年
(YYYY)		施行日
(DD/MM/
YYYY)
特許
（公用語・英語）
a: The Patents Act,1970(incorporating all amendments till 23-06-2017)
b: 各地の高等裁判所に関する記載が削除された（第2条(1)(i)）。特許出願日が明確にされた（第45条）。特許登録簿への記載事項が明確にされた（第67条）。特許代理人について明確にされた（第128条）。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_113_1_The_Patents_Act_1970_-_Updated_till_23_June_2017.pdf		201723/06/2017
（日本語）
a: インド1970年特許法、2017年6月23日公布
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-tokkyo.pdf
（公用語・英語）
a: Indian Patent Act 1970, The Patents (Amendment) Act 2005
b: 拒絶理由解消期間の設定。審査請求制度の導入、既存の物質の新規な使用を不特許事由から除外。食品・薬品、医薬品分野における物質も特許の対象に。付与前および付与後異議申立制度の導入。管理官の指示や指令に対する知的財産審判委員会へ不服申立制度の導入。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_69_1_patent_2005.pdf		200504/04/2005
（日本語）
a: インド1970年特許法、インド2005年（改正）特許法
https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/6086233/www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/s_sonota/fips/mokuji.htm
（公用語・英語）
a: Patents (Amendment) Rules, 2021
b:「教育機関」が定義された（規則2）。手数料に教育機関に関する事項が追加された（規則7）。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/Patents__Amendment__Rules__2021.pdf		202121/09/2021
（日本語）
a: 改正特許規則（2021）
（なし）
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2021/in/20210930.pdf
（公用語・英語）
a: Patents (Amendment) Rules, 2020
b: 優先権書類の提出要件が改正された（規則21）。実施報告書の提出方法が改正された（規則131,Form27）
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/patents_amendment_rules_2020.pdf		202019/10/2020
（日本語）
a: 改正特許規則（2020）
（なし）
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2020/in/news_20201021.pdf
（公用語・英語）
a: Patents Amendment Rules, 2019
b: 早期審査の要件が改正された（規則24C）。書類の配達および送達方法が改正された（規則6）。スタートアップに関する手数料の手続きが変更された（規則7）。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/patents_amendment_rules_2019.pdf		201917/09/2019
（日本語）
a: 改正特許規則（2019）
（なし）
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2019/in/news_20190920.pdf
（公用語・英語）
a: Indian Patent Rules 2003, The Patents (Amendment) Rules 2017
b:「スタートアップ」が定義された。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_76_1_1_76_1_2018-01-02__2_.pdf		201701/12/2017
（日本語）
a: インド2003年特許規則、インド2017年（改正）特許規則
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-tokkyo_kisoku.pdf
（公用語・英語）
a: Indian Patent Rules 2003, The Patents (Amendment) Rules 2016
b: 拒絶理由解消期間が6か月に短縮され、最大で3か月延長できるようになった。スタートアップという出願人の区分が追加された。出願の取下げが無料となった。審査報告書が発送されていない出願を取り下げた場合に一部の審査請求料金が払い戻しされる制度が設けられた。請求項や要約書に参照番号を挿入することが必須になった。ビデオ会議で聴聞を受けることが可能になった。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_14_1_patent-rules-2006.pdf		201616/05/2016
（日本語）
a: インド特許規則2003年、インド特許規則2006年改正
https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/998256/www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/shiryou/s_sonota/fips/mokuji.htm
関連記事：「インドにおける特許出願の補正の制限」（2023.01.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27695/

関連記事：「インドにおける特許異議申立制度－付与前異議申立と付与後異議申立」（2023.02.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/33767/

関連記事：「インドにおける特許の実施報告制度（2020年特許規則改正）」（2022.07.12）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/24051/

関連記事：「インド特許出願における優先権主張の手続（2020年特許規則改正）」（2022.02.17）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/22598/

関連記事：「インドにおける特許出願制度概要」（2019.06.13）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17416/

関連記事：「インドの特許関連の法律、規則、審査マニュアル」（2019/02/14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16518/

関連記事：「インドにおける特許年金制度の概要」（2018.05.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15053/

意匠（公用語・英語）
a: Indian Design Act 2000
b: 意匠法1911年はインド意匠法2000年により置き換えられた。
http://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_58_1_design_act_1_.PDF		200025/05/2000
（日本語）
a: インド意匠法2000年
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-ishou.pdf
（公用語・英語）
a: Design (Amendment) Rule 2021
b: 「スタートアップ」のカテゴリーを定義した（規則2）。諸手続き費用を改正した（規則5）。ロカルノ分類の採用を規定した（規則10）。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/The_Designs__amendment___Rules__2021.pdf		202125/01/2021
（日本語）
a: 改正意匠規則（2021）
（なし）
【参考】https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2021/in/20210201.pdf
（公用語・英語）
a: Indian Design Rule 2001, The Design (Amendment) Rule 2014
b: 出願人の区分として小規模事業体が追加された。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/1_23_1_design-amendment-rules-2014.pdf		201430/12/2014
（日本語）
a: インド2001年意匠規則、インド2014年（改正）意匠規則
（なし）
（公用語・英語）
a: Indian Design Rule 2001, The Design (Amendment) Rule 2008
b: 書類を電子的に提出が可能になった。書類や図面の書式が定義された。拒絶理由解消期間の延長の規定が設けられた。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/1_26_1_design-rules-2008.pdf		200817/06/2008
（日本語）
a: インド2001年意匠規則、インド2008年（改正）意匠規則2008年改正
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-ishou_kisoku.pdf
関連記事：「日本とインドにおける意匠権の権利期間および維持に関する比較」（2023.11.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37673/

関連記事：「インド法における意匠保護に関する機能性と可視性の概念」（2020.10.22））
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19532/

関連記事：「インドにおける画像意匠の保護制度」（2020.10.13）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19502/

関連記事：「日本とインドにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較」（2019.10.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17762/

関連記事：「インドの意匠関連の法律、規則、審査マニュアル」（2019.03.21）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16711/

関連記事：「インドにおける意匠出願制度概要」（2019.06.13）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17418/

関連記事：「日本とインドの意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較」（2015.07.17）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/9269/

関連記事：「インドにおける意匠出願の補正」（2015.03.31）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8156/


商標（公用語・英語）
a: Indian Trademarks Act 1999, The Trademarks (Amendment) Act 2010
b: 商標は出願日から18か月以内に登録されなければならないこととなった。商標の公告から4か月以内に異議申立が可能となった。テキスタイル商品およびテキスタイル商標の概念が削除された。マドプロ出願が導入された。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOAct/1_46_1_tmr-amendment-act-2010.pdf		201021/09/2010
（日本語）
a: インド1999年商標法、インド2010年（改正）商標法
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-shouhyou.pdf
（公用語・英語）
a: Indian Trademarks Rules 2002, The Trademarks (Amendment) Rules 2017
b: 庁費用が上がった。出願人の区分にスタートアップが追加された。電子出願が促進された。周知商標の認定手続きが導入された。早期審査請求が可能になった。音商標の登録が可能になった。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_69_1_Trade_Marks_Rules_2017.pdf		201703/06/2017
（日本語） a: インド2002年商標規則、インド2017年（改正）商標規則
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/india-shouhyou_kisoku.pdf
（公用語・ヒンズー語／英語）
a: Indian Trademarks Rules 2002, The Trademarks (Amendment) Rules 2013
b: 庁費用が上がった。
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPORule/1_58_1_tmr-amendment-rules-13september2013.pdf		201301/08/2013
（日本語）
a: インド2002年商標規則、インド2013年改正商標規則
（なし）
関連記事：「インドにおける商標異議申立制度」（2023.03.23）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/34075/

関連記事：「インドにおける商標のコンセント制度について」（2023.01.31）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27693/

関連記事：「インドにおけるブランド保護」（2021.06.22）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/20269/

関連記事：「インド商標法に基づく拒絶理由に関する調査報告書」（2021.08.24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20765/

関連記事：「インドにおける商標制度のまとめ－実体編」（2020.06.11）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18629/

関連記事：「インドにおける商標制度のまとめ－手続編」（2020.10.08）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19497/

関連記事：「インドの商標関連の法律、規則、審査マニュアル」（2019.03.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16714/

関連記事：「インドにおける商標出願制度概要」（2019.07.09）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17532/

関連記事：「インドにおける悪意（Bad-faith）の商標出願に関する法制度および運用」（2019.2.7）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16493/

関連記事：「インドにおける連続（シリーズ）商標制度」（2018.09.18）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/15836/

関連記事：「インドにおける証明商標制度」（2015.11.10）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8548/

著作権法（公用語・英語）
a: Indian Copyright Act 1957, The Indian Copyright (Amendment) Act 2012
b: 「商業的貸与」が定義された。実演家の排他的権利が再定義された。録画物が定義された。著作権委員会の構成などが定義された。強制利用許諾が設定された。WCTおよびWPPTの規定に準拠した。
https://copyright.gov.in/Documents/CRACT_AMNDMNT_2012.pdf		201207/06/2012
（日本語）
a. インド1957年著作権法、インド2012年（改正）著作権法
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/copyright_201809.pdf
不正競争インドにはこの法律に相当する法律はない。––

(2) 審査基準等

審査基準、ガイドライン、マニュアル等
a:審査基準等の名称
URL:		最終更新
b:(DD/MM/YYYY)
特許（公用語・英語）
a: Manual of Patent Office Practice and Procedure
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/Manual_for_Patent_Office_Practice_and_Procedure_.pdf		26/11/2019
（日本語）
a: 特許庁の特許実務及び手続の手引（インド）
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/201103_tokkyo_01.pdf（2011年修正）
https://www.jetro.go.jp/ext_images/_Ipnews/asia/2019/in/news_20191209.pdf（2019年改正概要）
意匠（公用語・英語）
a: Manual of Design Office Practice and Procedure
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOGuidelinesManuals/1_30_1_manual-designs-practice-and-procedure.pdf		–
（日本語）
a: 意匠審査の実務及び手続の手引
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/2011_ishou_01.pdf
商標（公用語・英語）
a: Manual of Trademarks Practice and Procedure (draft)
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/IPOGuidelinesManuals/1_33_1_public-notice-11march2015.pdf		10/03/2015
（日本語）
a: 商標マニュアル(案)実務と手引き
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/in/ip/pdf/manual_of_trade_marks_201503_jp.pdf

(3) 主な条約・協定（加盟状況）

条約名加盟加盟予定
(YYYY)		未加盟
(1) パリ条約
　(工業所有権の保護に関するパリ条約)		☒
1998		☐
(     )		☐
(2) PCT
　(特許協力条約)		☒
1998		☐
(     )		☐
(3) TRIPs
　(知的所有権の貿易関連の側面に関する協定)		☒
1995		☐
(     )		☐
(4) PLT
　(特許法条約)		☐☐
(     )		☒
未加盟
(5) IPC
　(国際特許分類に関するストラスブール協定)		☐☐
(     )		☒
未加盟
(6) ハーグ協定
　(意匠の国際登録に関するハーグ協定)		☐☐
(     )		☒
未加盟
(7) ロカルノ協定
　(意匠の国際分類を定めるロカルノ協定)		☒
2019		☐
(     )		☐
(8) マドリッド協定
　(標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書)		☒
2013		☐
(     )		☐
(9) TLT
　(商標法条約)		☐☐
(     )		☒
未加盟
(10) STLT
　(商標法に関するシンガポール条約)		□☐
(     )		☒
未加盟
(11) ニース協定
　(標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定)		☒
2019		☐
(     )		☐
(12) ベルヌ条約
　(文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約)		☒
1928		☐
(     )		☐
(13) WCT
　(著作権に関する世界知的所有権機関条約)		☒
2018		☐
(     )		☐
(14) WPPT
　(実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約)		☒
2018		☐
(     )		☐

3. 料金表

[特許]（公用語・英語）
Title: The First Schedule Fees
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/ev/schedules/Schedule_1.pdf
[意匠] （公用語・英語）
Title: The Designs(amendment), Rules, 2021 
https://ipindia.gov.in/writereaddata/Portal/Images/pdf/The_Designs__amendment___Rules__2021.pdf
[商標] （公用語・英語）
Title: Forms and Fees
https://ipindia.gov.in/form-and-fees-tm.htm 
関連記事：「インドにおける産業財産権権利化費用」（2019.8.8）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17617/ 

関連記事：「インドにおける特許年金制度の概要」（2018.5.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15053/

韓国における審判制度概要

1.審判の流れ

図1. 審判の流れ

2.審判請求
1-1.査定系の審判請求
　特許庁の審査で拒絶査定を受けた場合、拒絶査定書謄本の送達日から3か月以内に特許審判院に拒絶査定不服審判を請求することができる（特許法第132条の17／実用新案法第33条／商標法第116条／意匠法第120条）（審判便覧第1編第3章第1節参照）。

1-2.当事者系の審判請求
　当事者系の審判請求は無効審判、権利範囲確認審判、取消審判、訂正審判等がある（特許法第7章／実用新案法第7章／商標法第7章／意匠法第7章）（審判便覧第1編第3章第2節参照）。

3.方式審査
　審判請求時に記載要件および指定書類等の形式的な要件を審査し、瑕疵がある場合には、補正命令が発付される。瑕疵を指定期間（一般的に1か月。延長可能）以内に補正しない場合には、決定により審判請求は却下される（決定却下）（特許法第141条／実用新案法第33条／商標法第127条／意匠法第128条）（審判便覧第3編第3章第2節参照）。
　補正不能の審判請求は審決により却下される（審決却下）（特許法第142条／実用新案法第33条／商標法第128条／意匠法第129条）（審判便覧第3編第3章第3節参照）。

4.本案審理
　方式審査で瑕疵がなければ本案審理段階に入り、3人または5人の審判官で構成される合議体により審理される（特許法第143条～146条／実用新案法第33条／商標法第129条～第132条／意匠法第130条～133条）（審判便覧第4編第1章参照）。

4-1.査定系の場合
　審判部は審判請求書の記載事項を把握し、拒絶理由および不服理由を把握し、争点を整理する。査定系では書面審理がなされるが、必要に応じて、技術説明会を開催することもある。審判請求人が技術説明会を要請することも可能である（特許法第154条第1項／実用新案法第33条／商標法第141条第1項／意匠法第142条第1項）（審判便覧第16編第4章、第21編第7章第1節、第24編第7章第1節等参照)。

4-2.当事者系の場合
　審判請求書の副本を被請求人に送達する（特許法第147条／実用新案法第33条／商標法第133条／意匠法第134条）（審判便覧第2編第2章第9節参照）。審判部はまず書面審理をし、審判請求の理由および答弁や証拠資料を調べ、争点を整理する。審判請求の理由に対する答弁の指定期間は１か月となっている（審判事務取扱規定第21条第1項）。当事者系は一般的に書面審理後、口述審理を行う。書面審理のみで決定が可能な場合を除いて、当事者が口述審理を要請する場合は、口述審理を行わなければならない（特許法第154条／実用新案法第33条／商標法第141条／意匠法第142条）（審判便覧第10編参照）。

5.審理終結通知
　本案審理が終わり審決段階に入ると、審理終結予定通知がなされ、最終的に審判請求理由に対する追加意見を提出する機会が与えられるので、この機会を上手く活用することが望ましい。そして、その後に審理終結通知がなされる（審判便覧第11編第3章参照）。

6.審決
　審理終結通知をした日から20日以内に審決をすることが原則とされている。（特許法第162条／実用新案法第33条／商標法第149条／意匠法第150条）ただし、この規定は訓示的規定に過ぎず、20日の期間が経過しても違法ではない（審判便覧第11編第3章第2節参照）。

6-1.査定系の場合
　原決定を取り消して審査部に差し戻す（認容）もしくは原査定を維持する（棄却）か、または補正不能の審判請求は却下する。なお、審判部で特許査定することなく原決定を取り消す場合は、必ず審査部に差し戻される（審判便覧第12編第4章参照）。

6-2.当事者系の場合
　棄却、却下、認容等により審決する（審判便覧第12編第5章参照）。

マレーシアにおける意匠の審判等手続に関する調査

　「マレーシアにおける知的財産の審判等手続に関する調査」（2021年3月、日本貿易振興機構(JETRO)　シンガポール事務所　知的財産部）

目次
A.はじめに　P.1
I.調査範囲　P.1
II.調査方法　P.1
III.調査結果　P.2

B.審理機関と紛争解決手段　P.3
I.審理機関　P.3
（マレーシアの知的財産権について審理する2つの主要機関であるマレーシア知的財産公社（MyIPO）と知的財産裁判所の概要について紹介している。（マレーシア裁判所の審級の構成についてフローチャートあり。））

II.紛争解決手段　P.5
（知的財産に関する紛争は、高等裁判所において開始され、知的財産権の性質、訴訟の種類または請求の額に応じて、高等裁判所、控訴裁判所または連邦裁判所で審理される。各知的財産権訴訟の管轄の概要と裁判外紛争解決について紹介している。）

D.意匠　P.12
I.意匠出願手続の概要　P.12
（出願手続の概要をフローチャートで紹介している。）

II.意匠出願の審査手続　P.13
（審査手続について解説している。）

III.異議申立手続　P.13
（1996年意匠法は異議申立手続に関する規定を定めていない。）

IV.取消手続　P.14
（取消手続（裁判）について解説している。）

V.登録簿の更正　P.15
（登録簿の更正について解説している（登録意匠抹消のための手順およびタイムラインの概要についてフローチャートあり）。）

VI.統計　P.17
（2010年から2020年9月までの意匠出願・登録件数の統計情報について紹介している。）

VII.ケーススタディ　P.18
（1996年意匠法に基づいて提起された取消手続に関して、最近のマレーシアの事例は報告されていないため判例の紹介はない。）

附属書A　P.33
（No.2でMyIPOの意匠の統計情報（出願および登録）のURLを紹介している。）

タイ、ベトナム、インドネシア、シンガポール、マレーシアの意匠制度比較

国または
地域名		 パリ
条約		 WTO
協定 		ハーグ
協定 		ロカルノ
協定		 意匠法
(存続期間) 		公開制度 審査制度
タイ ○ ○ × × ○
（10年）		 出願公開 ○
ベトナム ○ ○ ○ × ○
（最長15年） 		出願公開 ○
インドネシア ○ ○ × × ○出願公開
（10年）		 出願公開 ○
シンガポール ○ ○ ○ ○ ○
（最長15年） 		付与後公告 ×
マレーシア ○ ○ × × ○
（最長25年） 		付与後公告 ×

国または地域名 多意匠一出願 部分意匠 関連意匠 秘密意匠*2
タイ × × ○*1 ○
ベトナム ○ × × ×
インドネシア ○ ○ × ○
シンガポール ○ ○ ○ ○
マレーシア ○ ○*1 ○ ×

*1：制度はないが、実務上認められる。
*2：公開を延期することが出来る場合は、○と表記している。

1.パリ条約
　タイ、ベトナム、インドネシア、シンガポール、マレーシアはすべてパリ条約に加盟している。

関連記事：
「タイにおける産業財産権の取得に関する概要」（2015.01.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/7674/
「タイにおける意匠権の効力範囲および侵害が及ぶ範囲」（2014.10.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/6693/
「ベトナムにおける優先権主張の手続」（2020.04.21）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18515/
「ベトナムにおける意匠権の効力範囲および侵害が及ぶ範囲」（2014.11.17）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/7112/
「インドネシアにおける意匠権の効力範囲及び侵害が及ぶ範囲」（2014.10.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/6681/
「マレーシアにおける意匠登録制度及びその運用実態」（2013.12.20）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/4907/
※64ページに優先権について記載されている。
「シンガポールにおける意匠登録制度及びその運用実態」（2013.12.20）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/4909/
※80ページに優先権について記載されている。

関連情報：
齊藤 良平、優先権主張時における意匠の同一性、パテント、2018，vol.71、p.27
https://system.jpaa.or.jp/patent/viewPdf/3120

2.WTO協定
　タイ、ベトナム、インドネシア、シンガポール、マレーシアはすべてWTO協定に加盟している。

関連記事：
「タイにおける産業財産権制度」（2013.09.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/4466/
「ベトナムにおける知的財産制度の現状と今後の方向」（2015.11.10）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/8618/
「インドネシアにおける意匠権の取得」（2018.11.20）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16142/

関連情報：
「世界貿易機関（WTO）」
https://www.soumu.go.jp/g-ict/international_organization/wto/pdf/wto.pdf

3.ハーグ協定
　ベトナムおよびシンガポールが加盟している。未加盟であるタイ、インドネシア、マレーシアへの意匠登録出願は各国別に行う必要がある。

関連記事：
「タイにおけるハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題」（2014.10.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/6697/
「インドネシアにおけるハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題」（2014.10.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/6685/
「マレーシアにおけるハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題」（2013.12.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/4935/

関連情報：
「ハーグ制度を利用した意匠の国際的保護」（2020.11.12）
https://www.wipo.int/export/sites/www/about-wipo/ja/offices/japan/pdf/webinar_2020_11_12.pdf
「2019年12月30日発効　1999年改正協定への加盟：ベトナム（参考訳）」（2019.10.16）https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/11740744/www.jpo.go.jp/system/design/hague/hague_ichiran/wipo_vietnam1999.html
「ハーグ協定の1999年ジュネーブ改正協定第11条(1)及び第13条(1)に基づく宣言：シンガポール（参考訳）」（2016.02.23）
https://www.jpo.go.jp/system/design/hague/members_info/wipo_singapore1999.html

4.ロカルノ協定
　タイ、ベトナム、インドネシア、マレーシアのいずれの国もロカルノ協定に未加盟であるがロカルノ分類を採用している。
　シンガポールはロカルノ協定に加盟している。
　ロカルノ協定は意匠の国際分類を定めるものであり、締約国の管轄官庁は、意匠の寄託または登録を反映する公式文書に、意匠を組み込んだ物品が属する分類のクラスおよびサブクラスの番号を示さなければならない。

関連情報：
「Kingdom of Thailand（TH）（タイ王国）」
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/th.pdf
「Socialist Republic of Viet Nam（VN）（ベトナム社会主義共和国）」
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/vn.pdf
「Republic of Indonesia（ID）（インドネシア共和国）」
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/id.pdf
「技術・工業および知的財産権供与に関わる制度（シンガポール）」
https://www.jetro.go.jp/world/asia/sg/invest_08.html
「Malaysia（MY）（マレーシア）」
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/my.pdf

5.意匠法
　タイでは、意匠は意匠特許として特許法に規定されている。タイの存続期間は出願日から10年である。
　特有の意匠制度（タイ）
タイでは部分意匠制度はないが、該当部分が分離できる「部品」である場合には、その部分のみを記載して出願することができる。
　ベトナムでは、意匠は知的財産法により規定されている。ベトナムの存続期間は出願日より5年であるが、各5年の延長を2回行うことができる。
　特有の意匠制度（ベトナム）
ベトナムでは組物やバリエーションを多意匠一出願として出願できる。
　インドネシアでは、意匠は意匠法により規定されている。インドネシアの存続期間は出願日から10年である。
　特有の意匠制度（インドネシア）
インドネシアでは単一性があり同一分類に属する複数の意匠を１つの出願とすることができる。また、部分意匠、組物意匠も登録可能である。
シンガポールでは、意匠は意匠法により規定されている。シンガポールの存続期間は登録から5年であるが、各5年の延長を2回行うことができる。
　特有の意匠制度（シンガポール）
シンガポールでは同一分類であれば複数の意匠を１つの出願とすることが出来る。また、部分意匠、関連意匠制度もある。
マレーシアでは、意匠は意匠法により規定されている。マレーシアの存続期間は出願日から5年であるが、各5年の延長を4回行うことができる。
　特有の意匠制度（マレーシア）
マレーシアでは同一分類か組物、同一部品構成に係わる場合、複数の意匠を一出願に含めることができる。また、関連意匠制度もある。

関連記事：
「タイにおける知的財産に関する基礎情報（全体マップ）－実体編」（2020.05.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18584/
「タイにおける意匠出願制度概要」（2019.08.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17585/
「タイの特許・実用新案、意匠関連の法律、規則、審査基準等」（2019.02.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16571/
「ベトナムにおける知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編」（2020.02.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18239/
「ベトナムにおける意匠出願制度概要」（2019.06.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17471/
「ベトナムの意匠関連の法律、規則、審査基準等」（2019.02.21）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16559/
「インドネシアにおける意匠出願制度概要」（2019.07.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17528/
「インドネシアの意匠関連の法律、規則等」（2019.03.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16720/
「シンガポールにおける知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編」（2021.05.28）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18589/
「シンガポールにおける意匠登録出願制度概要」（2019.07.30）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17579/
「マレーシアにおける意匠出願制度概要」（2019.07.18）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17561/

6.公開制度
　タイでは、意匠は意匠特許として扱われ、特許と同様に出願公開制度がある。出願時に公開延期を申請することができる。
　ベトナムでは、意匠は方式審査から2月で公開される。秘密意匠制度や公開を遅らせる制度はない。
　インドネシアでは、意匠は出願から3月以内に公開されるが、請求により出願日または優先日から12月まで遅らせることができる。
　シンガポールでは、意匠は登録後に公告となるが、出願時の請求により出願日から18月まで公開を延期することができる。
　マレーシアでは、意匠は方式要件（新規性を含む）を満たすと登録され、公告となる。

関連記事；
「タイにおける意匠出願制度概要」（2019.08.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17585/
「タイにおける意匠権の取得」（2014.12.18）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/7424/
「ベトナムにおける意匠出願制度概要」（2019.06.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17471/
「ベトナムにおける意匠出願の公開」（2014.05.30）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/5964/
「インドネシアにおける意匠出願制度概要」（2019.07.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17528/
「シンガポールにおける意匠の公開延期請求について」（2019.09.05）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17676/
「マレーシアにおける意匠出願制度概要」（2019.07.18）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17561/

7.審査制度
　タイでは、意匠が公開され、異議申立がなかった場合、実体審査が行われる。
　ベトナムおよびインドネシアでは、方式審査を通過したすべての意匠について、実体審査が行われる。
　シンガポールでは、方式審査を通過した場合、実体審査なしで登録され、公告となる。
　マレーシアでは、新規性審査を含む方式審査が行われ、通過した場合は登録され、公告となる。

関連記事：
「タイにおける意匠出願制度概要」（2019.08.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17585/
「ベトナムにおける意匠出願制度概要」（2019.06.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17471/
「インドネシアにおける意匠出願制度概要」（2019.07.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17528/
「インドネシアにおける意匠制度の概要」（2014.10.28）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/6836/
「シンガポールにおける意匠登録出願制度概要」（2019.07.30）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17579/
「シンガポールにおける意匠登録の機能性および視認性」（2018.10.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15931/
「マレーシアにおける意匠出願制度概要」（2019.07.18）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17561/

インドネシアにおける知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編

1.　出願ルート

　インドネシアでは、特許権、簡易特許（実用新案）権、意匠権、商標権を取得するために、以下のルートにより出願することができる。また、国際出願（PCT、マドリッドプロトコル）ができる。

［インドネシアにおける出願ルート］

直接出願 国際出願 広域出願
特許 可 可 不可
実用新案 可 可 不可
意匠 可 不可 不可
商標 可 可 不可

＜諸外国の制度概要＞
　・特許一覧表URL
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/1tokkyo.pdf
　・諸外国の法令・条約等URL
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html
　　（国・地域のリンクをクリックすると各国・地域・機関の制度概要が表示される。）

2.　法令・制度等

(1)　主な法律

法域 法律・規則（公用語）／（英語）
a: 法律・規則等の名称
URL:		 改正年
(YYYY)		 施行日
(DD/MM/YYYY)
特許 （公用語）
a: Undang-undang (UU) tentang Paten
https://peraturan.bpk.go.id/Home/Details/37536/uu-no-13-tahun-2016
2016
26/08/2016
（英語）
a: Laws of The Republic of Indonesia on Patent
https://wipolex.wipo.int/en/text/421121
（日本語）
a: インドネシア特許法2016年法律第13号改正
https://www.jetro.go.jp/ext_images/world/asia/idn/ip/pdf/tokkyo_2016.pdf
（公用語）
a: Peraturan Menteri Hukum dan HAM No. 38/2018 tentang Permohonan Paten
https://peraturan.bpk.go.id/Home/Details/133178/permenkumham-no-38-tahun-2018
2018









1991
28/12/2018









11/06/1991
（英語）
a: Regulation of the Minister of Law and Human Rights No. 38/2018 on Patent Applications
（なし）

（日本語）
a: 特許出願に関する法務人権大臣規則第38/2018号
（なし）

a: 特許規則
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/indonesia-tokkyo_kisoku.pdf
関連記事：
「インドネシアにおける特許出願制度概要」（2019.06.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17465/
「タイ、ベトナム、インドネシア、シンガポール、マレーシアの特許・実用新案制度比較」（2021.11.02）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/21048/
「インドネシアにおける特許権の取得」（2018.11.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16141/
「インドネシアにおける共同特許出願および共有特許権に関する留意事項」（2018.06.28）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15372/
「インドネシアにおける医薬用途発明の保護制度」（2018.03.29）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/14761/
「インドネシアにおける遺伝資源の利用と特許制度」（2016.04.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/11861/
意匠 （公用語）
a: Undang-undang (UU) tentang Desain Industri
https://peraturan.bpk.go.id/Home/Details/45076/uu-no-31-tahun-2000
2000
20/12/2000
（英語）
a: Laws of The Republic of Indonesia on Industrial Design
https://wipolex.wipo.int/en/text/226826

（日本語）
a: インドネシア意匠法
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/indonesia-ishou.pdf
（公用語）
a: Peraturan Pemerintah (PP) tentagn Pelaksanaan Undang-Undang No. 31/2005 2000 tentang Desain Industri
https://peraturan.bpk.go.id/Home/Details/49253/pp-no-1-tahun-2005
2005
04/01/2005
（英語）
a: Government Regulation of The Republic of Indonesia No. 1/2005 on The Implementation of Law No.31/2000 on
Industrial Design
https://wipolex.wipo.int/en/text/226903

（日本語）
a: 意匠に関する政府規則第31/2005号
（上記WIPOのサイトで機械翻訳（日本語）を選択）
関連記事：
「インドネシアにおける意匠出願制度概要」（2019.07.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17528/
「インドネシアにおける意匠権の取得」（2018.11.20）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16142/
「インドネシアにおける営業秘密ならびに職務発明、職務著作および職務意匠の保護」（2017.03.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13242/
商標・地理的表示 （公用語）
a: Undang-undang (UU) tentang Merek dan Indikasi Geografis
https://peraturan.bpk.go.id/Home/Details/37595/uu-no-20-tahun-2016
2016
25/11/2016
（英語）
a: Laws of The Republic of Indonesia on Trademark and Geographic Indication
https://wipolex.wipo.int/en/text/578922

（日本語）
a: 商標及び地理的表示に関するインドネシア共和国法律
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/indonesia-shouhyou_2016.pdf
（公用語）
a: Peraturan Menteri Hukum dan HAM No. 67/2016 tentang Pendaftaran Merek
https://peraturan.bpk.go.id/Home/Details/133289/permenkumham-no-67-tahun-2016
2016









1993
30/01/2017









01/04/1993
（英語）
a: Minister of Law and Human Rights Regulation No. 67/2016 concerning Trademark Registration
（なし）

（日本語）
a: 商標登録に関する法務人権大臣規則第67/2016号
（なし）

a. 商標規則
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/indonesia-shouhyou_kisoku.pdf
関連記事：
「インドネシアにおける指定商品または役務に関わる留意事項」（2021.06.24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20279/
「インドネシアにおける商標出願制度概要」（2019.07.09）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17530/
「インドネシアにおける悪意（Bad-faith）の商標出願に関する法制度、運用および判例」（2019.02.07）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16495/
「インドネシアにおける商標権の取得」（2018.11.22）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16164/
「インドネシアにおける指定商品または役務に関わる留意事項」（2021.06.24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20279/
「インドネシアにおける商標法および特許法の改正動向」（2016.03.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10389/
著作権 （公用語）
a: Undang-undang (UU) tentang Hak Cipta
https://peraturan.bpk.go.id/Home/Details/38690
2014
16/10/2014
（英語）
a: Laws of The Republic of Indonesia on Copyrights
https://wipolex.wipo.int/en/text/578067

（日本語）
a: インドネシア共和国著作権法
（上記WIPOのサイトで機械翻訳（日本語）を選択）
関連記事：
「インドネシアにおける模倣対策および概論」（2017.06.20）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/statistics/13812/
「インドネシアにおける営業秘密ならびに職務発明、職務著作および職務意匠の保護」（2017.03.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13242/
「インドネシアにおける共同開発契約」（2017.03.10）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13236/
営業秘密 （公用語）
a: Undang-undang (UU) tentang Rahasia Dagang
https://peraturan.bpk.go.id/Home/Details/45002/uu-no-30-tahun-2000
2000
20/12/2000
（英語）
a: Laws of The Republic of Indonesia on Trade Secret
https://wipolex.wipo.int/en/text/226914

（日本語）
a: インドネシア共和国営業秘密法
（上記WIPOのサイトで機械翻訳（日本語）を選択）
関連記事：
「インドネシアにおける営業秘密保護に関する法制度および運用状況について」（2018.12.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16370/
「インドネシアにおける著作権、営業秘密、集積回路配置、植物新品種、不正競争防止、ドメイン名の保護」（2018.11.22）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16166/
「インドネシアにおける営業秘密ならびに職務発明、職務著作および職務意匠の保護」（2017.03.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13242/
「インドネシアにおける共同開発契約」（2017.03.10）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13236/
「インドネシアにおける技術ライセンス契約」（2017.03.07）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13230/
「インドネシアにおける知的財産権登録に拠らない発明、意匠、商標の保護」（2014.12.05）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/7274/
「インドネシアにおけるライセンス及び秘密管理に関する法制度と実務運用」（2014.10.17）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/6795/
「インドネシアにおける産業財産権侵害対策」（2013.09.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/4454/
「インドネシアにおけるライセンスに関する法制度と実務運用の概要」（2012.11.22）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/1977/
半導体集積回路配置 （公用語）
a: Undang-undang (UU) tentang Desain Tata Letak Sirkuit Terpadu
https://peraturan.bpk.go.id/Home/Details/45236/uu-no-32-tahun-2000
2000
20/12/2000
（英語）
a: Laws of The Republic of Indonesia on Layout Designs of Integrated Circuits
https://wipolex.wipo.int/en/text/226864

（日本語）
a: インドネシア共和国集積回路配置設計に関する法律
（上記WIPOのサイトで機械翻訳（日本語）を選択）
関連記事：
「インドネシアにおける著作権、営業秘密、集積回路配置、植物新品種、不正競争防止、ドメイン名の保護」（2018.11.22）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16166/
植物品種保護 （公用語）
a: Undang-undang (UU) tentang Perlindungan Varietas Tanaman
https://peraturan.bpk.go.id/Home/Details/45000/uu-no-29-tahun-2000
2000
20/12/2000
（英語）
a: Laws of The Republic of Indonesia on Plant Variety Protection
https://wipolex.wipo.int/en/text/226832

（日本語）
a: インドネシア共和国植物品種保護に関する法律
（上記WIPOのサイトで機械翻訳（日本語）を選択）
関連記事：
「インドネシアにおける著作権、営業秘密、集積回路配置、植物新品種、不正競争防止、ドメイン名の保護」（2018.11.22）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16166/
「インドネシアにおける産業財産権侵害対策」（2013.09.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/4454/

(2)　審査基準等

法域 審査基準、ガイドライン、マニュアル等
a:審査基準等の名称
URL:		 最終更新
b:(YYYY)
特許 （公用語）
a: Modul Kekayaan Intelektual Tingkat Dasar Bidang Paten
https://www.dgip.go.id/unduhan/modul-ki?kategori=paten
2020
（英語）
a: Patent Basic Level Intellectual Property Module
（なし）

（日本語）
a: 特許の基本レベル知的財産モジュール
（なし）
意匠 （公用語）
a: Modul Kekayaan Intelektual Tingkat Lanjut Desain Industri
https://www.dgip.go.id/unduhan/modul-ki?kategori=desain-industri
2020
（英語）
a: Industrial Design Advanced Intellectual Property Module
（なし）

（日本語）
a: 意匠の高度な知的財産モジュール
（なし）
商標 ・地理的表示 （公用語）
a: Modul Kekayaan Intelektual Tingkat Lanjut Merek dan Indikasi Geografis
https://www.dgip.go.id/unduhan/modul-ki?kategori=merek
2020
（英語）
a: Brands and Geographical Indications Advanced Intellectual Property Module
（なし）

（日本語）
a: 商標と地理的表示の高度な知的財産モジュール
（なし）
著作権 （公用語）
a: Modul Kekayaan Intelektual Tingkat Dasar Bidang Hak Cipta
https://www.dgip.go.id/unduhan/modul-ki?kategori=hak-cipta
2020
（英語）
a: Copyright Sector Basic Level Intellectual Property Module
（なし）

（日本語）
a: 著作権分野の基本レベル知的財産モジュール
（なし）

(3)　主な条約・協定（加盟状況）

条約名 加盟 加盟予定
(YYYY)		 未加盟
(1) パリ条約
　(工業所有権の保護に関するパリ条約)		 ☒ ☐
(　　　)		 ☐
(2) PCT
　(特許協力条約)		 ☒ ☐
(　　　)		 ☐
(3) TRIPs
　(知的所有権の貿易関連の側面に関する協定)		 ☒ ☐
(　　　)		 ☐
(4) PLT
　(特許法条約)		 ☐ ☐
(　　　)		 ☒
(5) IPC
　(国際特許分類に関するストラスブール協定)		 ☐ ☐
(　　　)		 ☒
(6) ハーグ協定
　(意匠の国際登録に関するハーグ協定)		 ☐ ☐
(　　　)		 ☒
(7) ロカルノ協定
　(意匠の国際分類を定めるロカルノ協定)		 ☐ ☐
(　　　)		 ☒
(8) マドリッド協定
　(標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書)		 ☒ ☐
(　　　)		 ☐
(9) TLT
　(商標法条約)		 ☒ ☐
(　　　)		 ☐
(10) STLT
　(商標法に関するシンガポール条約)		 ☐ ☐
(　　　)		 ☒
(11) ニース協定
　(標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定)		 ☐ ☐
(　　　)		 ☒
(12) ベルヌ条約
　(文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約)		 ☒ ☐
(　　　)		 ☐
(13) WCT
　(著作権に関する世界知的所有権機関条約)		 ☒ ☐
(　　　)		 ☐
(14) WPPT
　(実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約)		 ☒ ☐
(　　　)		 ☐

関連記事：
「インドネシアにおけるパリ条約ルート出願とPCTルート出願の手続きの相違点」（2015.03.31）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8372/

3.　料金表

（公用語）
Title: Peraturan Pemerintah Republik Indonesia No. 28/2019 tentang Jenis dan Tarif atas Jenis Pemerimaan Negara Bukan Pajak yang Berlaku pda Kementerian Hukum dan Hak Asasi Manusia

https://peraturan.bpk.go.id/Home/Details/106025/pp-no-28-tahun-2019

（英語・日本語）
なし

フィリピン、ミャンマー、カンボジア、ラオス、ブルネイの意匠制度比較

国または地域名 パリ
条約		 WTO
協定		 ハーグ
協定		 ロカル
ノ協定		 意匠法
(存続期間)		 公開制度 審査制度
(実体審査)
フィリピン ○ ○ × × ○ (15年) 方式審査後公告 ×
ミャンマー × ○ × × ○(未施行)
(15年)		 出願公開 ×
カンボジア ○ ○ ○ × ○ (15年) 付与後公告 ○
ラオス ○ ○ × × ○ (15年) 出願公開 ○
ブルネイ ○ ○ ○ × ○ (15年) 付与後公告 ×

国または地域名 多意匠一出願 部分意匠 関連意匠 秘密意匠*1
フィリピン 〇(同一区分、
組物は可)		 〇 × ○
ミャンマー ○(同一区分
は可)		 ○ × ○
カンボジア ○(同一区分、
組物は可)		 × × ○
ラオス ○(同一区分、
組物は可)		 × × ○
ブルネイ ○(同一区分、
組物は可)		 × ○ ○

*1：公開を延期することができる場合は、○と表記している。

1.パリ条約
　フィリピン、ミャンマー、カンボジア、ラオス、ブルネイの中ではミャンマーのみが未加盟である。しかし、2019年に制定された特許法（未施行）によればパリ条約またはWTO協定の加盟国への出願による優先権が認められるとされている。

関連記事：
「フィリピンにおける優先権主張の手続」（2020.11.05）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19547/
「ミャンマー知的財産権制度の概要【その2】～新知的財産法案について～」（2016.06.13）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/11737/
「カンボジアにおける優先権主張の手続」（2020.10.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19536/
「カンボジアにおける意匠出願制度の概要」（2019.11.21）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17933/
「ラオスにおける意匠出願制度概要」（2019.07.16）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17556/
「ブルネイにおける優先権主張の手続（外国優先権）」（2020.09.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19466/

2.WTO協定
　フィリピン、ミャンマー、カンボジア、ラオス、ブルネイの各国はすべてWTO協定に加盟しており、WTOの規定によるTRIPS協定の義務付けにより、WTO加盟国はパリ条約に加盟していなくても同加盟国にした出願に基づき優先権を主張して出願することができるる。

関連記事：
「カンボジアにおける特許および実用新案登録を受けることができる発明とできない発明」（2020.08.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19437/
「ラオスにおける知的財産保護を巡る動き」（2020.11.03）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19543/
「ミャンマーの模倣被害に対する措置および対策」（2017.11.21）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/14265/

関連情報：
「世界貿易機関（WTO）」
https://www.soumu.go.jp/g-ict/international_organization/wto/pdf/wto.pdf

3.ハーグ協定
　カンボジアおよびブルネイが加盟している。未加盟であるフィリピン、ミャンマー、ラオスへの意匠登録出願は各国別に行う必要がある。

関連記事：
「フィリピンにおけるハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題」（2014.10.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/6689/
「カンボジアにおける模倣品対策」（2020.03.05）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/18338/
「ブルネイにおける意匠登録出願制度概要」（2019.10.24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17832/

関連情報：
「ハーグ制度を利用した意匠の国際的保護」（2020.11.12）
https://www.wipo.int/export/sites/www/about-wipo/ja/offices/japan/pdf/webinar_2020_11_12.pdf

4.ロカルノ協定
　フィリピン、ミャンマー、カンボジア、ラオス、ブルネイのいずれの国もロカルノ協定に未加盟である。
　フィリピン、ミャンマー、カンボジア、ラオス、ブルネイのいずれの国もロカルノ分類を採用している。
　ロカルノ協定は意匠の国際分類を定めるものであり、締約国の管轄官庁は、意匠の寄託または登録を反映する公式文書に、意匠を組み込んだ物品が属する分類のクラスおよびサブクラスの番号を示さなければならない。

関連記事：
「カンボジアにおける意匠登録の要件および手続」（2020.11.05）https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19550/
「ラオスにおける意匠出願制度概要」（2019.07.16）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17556/

関連情報：
「Republic of Philippines（PH）（フィリピン共和国）」
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/ph.pdf
「Union of Myanmar（MM）（ミャンマー連邦）」
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/mm.pdf
「Kingdom of Cambodia（KH）（カンボジア王国）」
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/kh.pdf
「Lao People’s Democratic Republic（LA）（ラオス人民民主共和国）」
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/la.pdf
「Brunei Darussalam (BN)(ブルネイ・ダルサラーム国)」
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/bn.pdf

5.意匠法
　フィリピンでは、意匠は知的財産法により規定されている。存続期間は出願日から5年だが、5年ごとに2回更新でき、最長15年である。
　特有の意匠制度（フィリピン）
　フィリピンでは国際分類の同一のサブクラスに属するか、または同一の組物もしくは構成物品に係るものであれば、2以上の意匠を1の出願の対象とすることができる。部分意匠制度もある。
　ミャンマーでは、意匠は工業意匠法（未施行）により規定される予定である。登録期間は出願日から5年だが、最大2回更新でき、最長15年である。
　特有の意匠制度（ミャンマー）
　ミャンマーでは国際分類の同一分類の場合、複数の意匠について単一の申請書を提出することができる。部分意匠制度もある。
　カンボジアでは、意匠は特許法により規定されている。存続期間は出願日から5年だが、5年ごとに2回更新でき、最長15年である。
　特有の意匠制度（カンボジア）
　カンボジアでは国際分類が同一、または組物である場合、2以上の意匠を同一の出願の対象にすることができる。
　ラオスでは、意匠は知的財産法により規定されている。存続期間は出願日から15年である。
　特有の意匠制度（ラオス）
　ラオスでは国際分類が同一、または同一の組または構成に関わる場合、2以上の意匠を同一出願の対象とすることができる。
　ブルネイでは、意匠は意匠令により規定されている。存続期間は出願日から5年だが、5年ごとに2回更新でき、最長15年である。
　特有の意匠制度（ブルネイ）
　ブルネイでは同一の意匠分類または同一の組物に関わる場合、2またはそれ以上の意匠を同一の登録出願の主題とすることができる。

関連記事：
「フィリピンにおける意匠登録出願制度概要」（2019.07.23）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17569/
「ミャンマー知的財産制度の最新状況」（2019.06.18）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17449/
「カンボジアにおける意匠出願制度の概要」（2019.11.21）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17933/
「ラオスにおける意匠出願制度概要」（2019.07.16）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17556/
「ブルネイにおける意匠登録出願制度概要」（2019.10.24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17832/

関連情報：
「ミャンマーにおける知的財産に関する法律の成立」（2019.06.03）
https://www.jica.go.jp/project/myanmar/028/news/20190603.html
「ミャンマー工業意匠法（仮訳）」（2019.01.30）（未施行）
https://www.jica.go.jp/project/myanmar/028/materials/ku57pq00003sxpf7-att/industrial_design_jp.pdf
※15ページに優先権の規定がある。

6.公開制度
　フィリピンでは、意匠は方式審査を通過すると公報により公告される。なお、公開の延期は最長30月できる。
　ミャンマーでは、意匠は方式審査を通過すると出願公開され、また、公開の延期（繰延べ）は最大18月を求めることができる予定である。
　カンボジアでは、意匠は方式審査後に実体審査がなされ、審査通過後に登録、公告となる。また、出願時に公告の時期を最長12月繰延べる請求ができる。
　ラオスでは、意匠は方式審査後に出願公開（公告）され、その後実体審査を経て登録となる。また、公開の延期が最長12月できる。
　ブルネイでは、意匠は方式審査を通過すると登録、公告となる。公告される前に請求することにより公開の延期が最長12月できる。

関連記事：
「フィリピンにおける意匠登録出願制度概要」（2019.07.23）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17569/
「カンボジアにおける意匠出願制度の概要」（2019.11.21）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17933/
「ラオスにおける意匠出願制度概要」（2019.07.16）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17556/
「ブルネイにおける意匠登録出願制度概要」（2019.10.24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17832/

関連情報：
「ASEAN各国の知財政策及びIP5等からの知財協力の現状に関する調査研究」（2019年3月）
https://www.aippi.or.jp/data_files/view/945/download:1
「ミャンマー工業意匠法」（2019.01.30）（未施行）
https://www.jica.go.jp/project/myanmar/028/materials/ku57pq00003sxpf7-att/industrial_design_jp.pdf

7.審査制度
　フィリピンでは、意匠は方式審査を通過すると公告され、公告から30日以内に不利な情報が提供されなかった場合、登録となる。不利な情報があった場合、局長による査定が行われる。
　ミャンマーでは、意匠は方式審査を通過すると公開され、公開から60日以内に異議申し立てがなければ出願が認容され、登録証が発行される、という流れになる予定。
　カンボジアでは、意匠は方式審査を通過すると実体審査が行われ、問題がなければ登録査定となり、公告される。異議のある場合は無効訴訟で対応する必要がある。
　ラオスでは、意匠は方式審査後に出願公開（公告）され、その後実体審査を経て登録となる。
　ブルネイでは、意匠は方式審査を通過すると登録、公告となる。登録官の決定に対しては、裁判所へ上訴することができる。

関連記事：
「フィリピンにおける意匠登録出願制度概要」（2019.07.23）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17569/
「カンボジアにおける意匠出願制度の概要」（2019.11.21）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17933/
「ラオスにおける意匠出願制度概要」（2019.07.16）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17556/
「ブルネイにおける意匠登録出願制度概要」（2019.10.24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17832/

関連情報：
「ミャンマー工業意匠法」（2019.01.30）（未施行）
https://www.jica.go.jp/project/myanmar/028/materials/ku57pq00003sxpf7-att/industrial_design_jp.pdf

ロシア、ブラジル、インド、トルコ、メキシコの意匠制度比較

国または地域名 パリ
条約		 WTO
協定		 ハーグ
協定		 ロカル
ノ協定		 意匠法
(存続期間)		 公開制度 審査制度
(実体審査)
ロシア ○ ○ ○ ○ ○
(25年)		 付与後公開 〇
ブラジル ○ ○ × × ○
(25年)		 付与後公開 ×
インド ○ ○ × ○ ○
(15年)		 付与後公開 〇
トルコ ○ ○ ○ ○ ○
(25年)		 付与後公開 〇
メキシコ ○ ○ ○ 〇 ○
(25年)		 出願公開 〇

国または地域名 多意匠一出願 部分意匠 関連意匠 秘密意匠*1
ロシア ○(密接に関係
付けられた
一群)		 ○*2 × ×
ブラジル ○(同一区分) × × ○
インド ○(同一区分) △（実質的に運
用されている）		 ○ ×
トルコ ○(同一区分) ○ × ○
メキシコ × △（規定はない
が登録可能）		 × ×

*1：公開を延期することができる場合は、○と表記している。
*2：「ТРЕБОВАНИЯК ДОКУМЕНТАМ ЗАЯВКИ НА ВЫДАЧУ ПАТЕНТА НА ПРОМЫШЛЕННЫЙ ОБРАЗЕЦ (с изменениями на 23 ноября 2020 года)」
（意匠の特許付与の申請書類の要件（2020年11月23日修正））32条15項を参照
https://new.fips.ru/documents/npa-rf/prikazy-minekonomrazvitiya-rf/prikaz-ministerstva-ekonomicheskogo-razvitiya-rf-ot-30-sentyabrya-2015-g-695.php#T32

1.パリ条約
　ロシア、ブラジル、インド、トルコ、メキシコのすべてが加盟している。

関連記事：
「ロシアにおける優先権主張の手続」（2020.12.24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19645/
「ロシアにおける意匠制度の運用実態」（2016.02.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10277/
「ブラジルにおける意匠制度の運用実態」（2016.02.23）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10226/
「インドにおける意匠制度の運用実態」（2016.02.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10259/
「トルコにおける意匠の優先権主張について」（2020.10.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19509/
「トルコにおける意匠出願制度概要」（2019.09.10）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17681/
「メキシコにおける条約に基づく優先権主張の手続」（2021.01.07）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19671/

関連情報：
齊藤 良平、優先権主張時における意匠の同一性、パテント、2018，vol.71、p.27
https://system.jpaa.or.jp/patent/viewPdf/3120

2.WTO協定
　ロシア、ブラジル、インド、トルコ、メキシコのすべての国が加盟している。

関連記事：
「ロシアにおける優先権主張の手続」（2020.12.24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19645/
「インドにおけるグラフィカル・ユーザー・インターフェース（GUI）の意匠権による保護」（2015.08.11）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8540/
「トルコにおける意匠出願制度概要」（2019.09.10）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17681/

関連情報：
「世界貿易機関（WTO）」
https://www.soumu.go.jp/g-ict/international_organization/wto/pdf/wto.pdf

3.ハーグ協定
　ロシア、メキシコ、トルコが加盟している。未加盟であるブラジル、インドへの意匠登録出願は各国別に行う必要がある。

関連記事：
「ロシアにおける意匠制度の運用実態」（2016.02.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10277/
「ブラジルにおける意匠法と意匠国際登録制度の相違点」（2015.03.31）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/8312/
「インドにおける意匠制度の運用実態」（2016.02.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10259/
「トルコの知的財産法（新規）、規則および条約の概要」（2019.12.17）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18030/
「メキシコにおける意匠制度の運用実態」（2015.12.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10064/

関連情報：
「ハーグ協定の1999年ジュネーブ改正協定の批准及び宣言事項：ロシア（参考訳）」（2018.01.16）
https://www.jpo.go.jp/system/design/hague/members_info/wipo_russia_180130.html

4.ロカルノ協定
　ロシア、インド、トルコ、メキシコが加盟している。ブラジルは未加盟であるが意匠の分類には国際意匠分類（ロカルノ分類）を使用している。ロカルノ協定は意匠の国際分類を定めるものであり、締約国の管轄官庁は、意匠の寄託または登録を反映する公式文書に、意匠を組み込んだ物品が属する分類のクラスおよびサブクラスの番号を示さなければならない。

関連記事：
「ロシアにおける意匠制度の運用実態」（2016.02.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10277/
「ブラジルにおける意匠制度の運用実態」（2016.02.23）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10226/
「ブラジルにおける意匠の表現に関する制度・運用」（2014.08.19）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/3658/
「インドにおける画像意匠の保護制度」（2020.10.13）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19502/
「トルコにおける模倣品の概要」（2019.12.17）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18028/
「トルコの知的財産法（新規）、規則および条約の概要」（2019.12.17）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18030/
「メキシコにおける意匠制度の運用実態」（2015.12.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10064/

関連情報：
「United Mexican States(MX)（メキシコ合衆国）」
https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/mx.pdf

5.意匠法
　ロシアでは意匠は連邦民法第4法典により規定されている。存続期間は出願日から5年だが、5年ごとに4回延長でき、最長25年である。
特有の意匠制度（ロシア）
　ロシアでは、単一の創作的概念を形成するように密接に関連付けられた一群の意匠に関連する場合、2以上の意匠を同一出願の対象とすることができる。また、部分意匠制度については、点線を使用して法的保護を主張していない部分を表示することが許可されている。
　ブラジルでは意匠は産業財産法で規定されている。存続期間は出願日から10年だが、5年ごとに3回更新でき、最長25年である。
特有の意匠制度（ブラジル）
　ブラジルでは、同一用途に係るものであり、かつ、同一の顕著な識別性を有している場合、20を上限として同一出願の対象とすることができる。
　インドでは意匠は意匠法で規定されている。存続期間は出願日または優先日から10年だが、5年の更新が1回でき、最長15年である。
特有の意匠制度（インド）
　インドでは、同一区分に限り同一出願の対象とすることができる。また、権利に含まれない部分を点線で示すことができる。
　トルコでは意匠は知的財産法で規定されている。存続期間は出願日から5年だが、5年ごとに4回更新でき、最長25年である。
特有の意匠制度（トルコ）
　トルコでは、同一区分に限り、最大100件まで同一出願の対象とすることができる。また、部分意匠制度もある。
　メキシコでは意匠は産業財産法で規定されている。存続期間は出願日から5年だが、5年ごとに4回更新でき、最長25年である。
特有の意匠制度（メキシコ）
　メキシコでは、部分意匠制度について規定はないが登録は可能である。

関連記事：
「ロシアにおける画像意匠の保護」（2020.09.08）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19452/
「ロシアにおける意匠出願制度概要」（2019.07.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17573/
「ロシアにおける優先権主張の手続」（2020.12.24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19645/
「ブラジルにおける画像意匠の保護制度」（2020.10.22）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19530/
「ブラジルにおける意匠出願制度概要」（2019.11.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17913/
「日本とブラジルにおける意匠権の権利期間および維持に関する比較」（2015.03.31）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/8436/
「インド法における意匠保護に関する機能性と可視性の概念」（2020.10.22）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19532/
「インドにおける画像意匠の保護制度」（2020.10.13）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19502/
「インドにおける意匠出願制度概要」（2019.06.13）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17418/
「トルコにおける画像意匠の保護制度」（2020.10.29）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19538/
「トルコにおける意匠の優先権主張について」（2020.10.15）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19509/
「トルコにおける意匠の機能性および視認性」（2020.09.03）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19448/
「トルコにおける意匠出願制度概要」（2019.09.10）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17681/
「メキシコにおける意匠の機能性および視認性」（2020.12.24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19647/
「メキシコにおける条約に基づく優先権主張の手続」（2021.01.07）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19671/
「メキシコにおける意匠出願制度概要」（2019.11.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17917/

6.公開制度
　ロシアでは、意匠は方式審査を通過すると自動的に実体審査が行われ、実体審査を通過すると登録となり、公告される。公開を繰延べる制度はない。
　ブラジルでは、意匠は方式審査を通過すると登録査定となり公告される。申請により公開の延期が最大180日できる。
　インドでは、意匠は方式審査を通過すると自動的に実体審査が行われ、実体審査を通過すると登録となり、公告される。公開を繰延べる制度はない。
　トルコでは、意匠は方式審査を通過すると自動的に実体審査が行われ、実体審査を通過すると登録となり、公告される。公開の延期が最大30月できる。
　メキシコでは、意匠は方式審査を通過すると出願公開され、その後実体審査が行われる。早期公開を求めることはできるが、公開を繰延べる制度はない。

関連記事：
「ロシアにおける意匠制度」（2017.07.11）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/statistics/13891/
「ロシアにおける意匠制度の運用実態」（2016.02.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10277/
「ブラジルにおける意匠出願制度概要」（2019.11.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17913/
「ブラジルにおける意匠法と意匠国際登録制度の相違点」（2015.03.31）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/8312/
「インドにおける意匠出願制度概要」（2019.06.13）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17418/
「インドにおける意匠制度の運用実態」（2016.02.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10259/
「トルコにおける意匠出願制度概要」（2019.09.10）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17681/
「メキシコにおける意匠出願制度概要」（2019.11.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17917/

7.審査制度
　ロシアでは、意匠は方式審査により意匠の単一性が審査され、実体審査では新規性および独創性が審査される。新規性の猶予期間は公知となった日から12月である。
　ブラジルでは、意匠は方式審査を通過すれば登録される。方式審査では「公序良俗違反」と「装飾性」も審査される。実体審査は登録された意匠の存続期間中に意匠権者の請求があれば実施される。
　インドでは、意匠は方式審査（図面要件等）の後、実体審査が行われ、新規性、創作性、公序良俗違反等が審査される。
　トルコでは、意匠は方式審査の後、実体審査が行われ、公序良俗違反、主権記章の不適切使用、新規性、独自性等が審査される。
　メキシコでは、意匠は方式審査および審査請求の後、実体審査が行われ、新規性、産業上利用可能性、独創性等が審査される。

関連記事：
「ロシアにおける意匠出願制度概要」（2019.07.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17573/
「ブラジルにおける意匠の方式審査」（2020.07.28）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19364/
「ブラジルにおける意匠出願制度概要」（2019.11.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17913/
「インドにおける意匠出願制度概要」（2019.06.13）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17418/
「トルコにおける意匠の機能性および視認性」（2020.09.03）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19448/
「トルコにおける意匠出願制度概要」（2019.09.10）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17681/
「メキシコにおける意匠出願制度概要」（2019.11.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17917/

中国、韓国、台湾、香港の意匠制度比較

国または
地域名		 パリ
条約		 WTO
協定		 ハーグ
協定		 ロカルノ
協定		 意匠法
(存続期間)		 公開制度 審査制度
(実体審査)
中国 ○ ○ × ○ ○
(15年)		 付与後公告 ×*1
韓国 ○ ○ ○ ○ ○
(20年)		 付与後公告 ○ △*3
出願公開*2
台湾 × ○ × × ○
(15年)		 付与後公告 ○
香港 ○*4 ○ × × ○
(25年)		 付与後公告 ×

*1：明らかに不当録事由に該当するか否かは審査する。
*2：査定前の申請により出願公開を選択できる。
*3：特定物品を対象とする意匠は、登録を迅速にするため、新規性が審査されない。
*4：香港はパリ条約に国として加盟してはいないが、中国として適用される

国または地域名 多意匠一出願 部分意匠 関連意匠 秘密意匠
中国 〇(類似意匠は
10個まで可)		 〇 〇(本意匠と同
日出願が必要)		 ×
韓国 〇(同一区分は
100個まで可)		 〇 〇(本意匠出願
から1年以内)		 〇
台湾 ×(組物は可) 〇 〇 ○
香港 〇（同一区分、
組物は可）		 〇 × ×

1.パリ条約
　中国、韓国加盟しているが、台湾は未加盟であり、台湾への出願は注意が必要である。ただし、台湾はパリ条約には未加盟であるが、WTO加盟国にした出願に基づき優先権を主張して出願することができる。また、香港は国として未加盟であるが、中国として適用される（関連情報参照）。

関連記事：
「中国における知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編」（2021.05.18）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19874/
「中国における意匠出願制度概要」（2020.04.28）（注：2021年6月より部分意匠可）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18532/
「韓国における知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編」（2020.05.21）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18579/
「韓国意匠出願手続における期日管理」（2020.03.19）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18376/
「台湾における専利法に基づく優先権主張の手続（国際優先権および国内優先権）」（2020.07.28）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19366/
「台湾における知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編」（2019.03.14）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16671/
「香港における特許出願および意匠出願の優先権主張の手続（外国優先権）」（2020.04.07）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18432/
「香港における意匠出願制度概要」（2019.07.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17524/

関連情報：
「Paris Notification No. 178」（1997.06.10）
https://www.wipo.int/treaties/en/notifications/paris/treaty_paris_178.html

2.WTO協定
　中国、韓国、台湾、香港が加盟しており、WTOの規定によるTRIPS協定の義務付けにより、WTO加盟国はパリ条約に加盟していなくても同加盟国にした出願に基づき優先権を主張して出願することができる。

関連記事：
「中国における専利（特許・実用新案・意匠）の存続期間」（2015.05.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/8717/
「韓国における条約加入の現況」（2020.02.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18313/
「台湾における知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編」（2021.05.06）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19830/
「台湾における専利法に基づく優先権主張の手続（国際優先権および国内優先権）」（2020.07.28）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19366/
「香港における特許出願および意匠出願の優先権主張の手続（外国優先権）」（2020.04.07）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18432/

関連情報：
「世界貿易機関（WTO）」
https://www.soumu.go.jp/g-ict/international_organization/wto/pdf/wto.pdf

3.ハーグ協定
　韓国のみが加盟している。このため未加盟である中国（加盟の準備中）、台湾、香港への意匠登録出願は各国別に行う必要がある。

関連記事：
「中国における専利（特許・実用新案・意匠）の存続期間」（2015.05.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/trend/8717/
「中国における知的財産の基礎的情報（全体マップ）-実体編」（2021.05.18）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19874/
「韓国におけるデザイン保護法」（2020.02.13）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18280/
「韓国における意匠の新規性要件と新規性喪失の例外」（2015.03.31）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/8212/

関連情報：
「ハーグ制度を利用した意匠の国際的保護」（2020.11.12）
https://www.wipo.int/export/sites/www/about-wipo/ja/offices/japan/pdf/webinar_2020_11_12.pdf

4.ロカルノ協定
　中国、韓国が加盟している。台湾、香港は未加盟であるがロカルノ分類を採用している。
　ロカルノ協定は意匠の国際分類を定めるものであり、締約国の管轄官庁は、意匠の寄託または登録を反映する公式文書に、意匠を組み込んだ商品が属する分類のクラスおよびサブクラスの番号を示さなければならない。

関連記事：
「中国における知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編」（2021.05.18）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19874/
「韓国における条約加入の現状」（2020.02.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18313/
「韓国における複数意匠登録出願制度について」（2020.04.30）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18534/
「台湾における意匠の表現に関する制度・運用」（2014.09.19）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/6537/
「香港における意匠の表現に関する制度・運用」（2016.01.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10240/

関連情報：
「LOC第十三版」(於110年9月1日（2021.09.01）正式施行)（台湾）
https://topic.tipo.gov.tw/patents-tw/cp-719-888269-10b10-101.html
「REGISTERED DESIGNS RULES (Cap. 522 sub. leg. A)」(2015.11.12)（香港）
https://www.elegislation.gov.hk/hk/cap522A!en.assist.pdf?FROMCAPINDEX=Y

5.意匠法
　中国、台湾では意匠は専利法により規定されている。中国の存続期間は出願日から15年、台湾の存続期間も15年である。
　特有の意匠制度（中国）
　中国は原則として一出願一意匠である。ただし、類似意匠は一つの出願とできる。また、部分意匠（2021年6月より）、組物意匠制度もある。
　特有の意匠制度（台湾）
　台湾では原則として一出願一意匠である。ただし、組物意匠制度があり、例外的に複数意匠を1件の出願でできる。また、意匠公告を最大6か月遅らせることができる。
　韓国では意匠はデザイン保護法により規定されている。存続期間は出願日から20年である。
　特有の意匠制度（韓国）
　韓国は一般の意匠と一部審査の意匠とがあり、意匠の対象となる物品により異なる。一部限定された物品を対象とした意匠は新規性について審査せず、迅速に登録され、登録後に異議申立制度の対象となる。
　香港では意匠は意匠条例により規定されている。存続期間は出願日から5年だが、5年ごとに4回更新でき、最大25年である。
　特有の意匠制度（香港）
　部分意匠制度、組物意匠制度などがある。

関連記事：
「中国の意匠特許における機能性および視認性」（2021.05.20）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19889/
「中国における知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編」（2021.05.18）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19874/
「中国における意匠出願制度概要」（2020.04.28）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18532/
「中国における画像意匠の保護制度」（2020.08.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19433/
「韓国における知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編」（2020.05.21）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18579/
「韓国における複数意匠登録出願制度について」（2020.04.30）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18534/
「韓国における意匠の一部審査登録制度」（2020.04.30）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18536/
「韓国における意匠（韓国語「デザイン」）出願制度概要」（2020.03.19）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18372/
「日本と韓国における意匠の新規性喪失の例外に関する比較」（2019.10.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17764/
「韓国における秘密意匠制度」（2018.10.30）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/16039/
｢台湾における意匠保護の戦略｣（2021.09.21）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20870/
「台湾における画像意匠の保護制度」（2020.08.11）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19394/
「台湾における専利法の一部改正」（2020.08.11）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19392/
「台湾における専利法に基づく優先権主張の手続（国際優先権および国内優先権）」（2020.07.28）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19366/
「日本と台湾における意匠権の権利期間および維持に関する比較」（2020.03.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18388/
「香港における意匠出願制度概要」（2019.07.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17524/
「香港の意匠特許における機能性および視認性」（2018.09.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15855/
｢香港における意匠の表現に関する制度・運用｣（2016.01.26）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10240/
「日本と香港における意匠の新規性喪失の例外に関する比較」（2015.11.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/9468/

6.公開制度
　中国、香港では、意匠は方式審査の後、実体審査なしで登録・公告となる。
　韓国では、意匠は付与後の公告が一般であるが、出願人の申請があれば付与前に出願公開される。
　台湾では、意匠は付与後に公告される。

関連記事：
「中国における意匠出願制度概要」（2020.04.28）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18532/
「韓国における意匠登録出願の公開制度」（2018.10.25）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/16035/
「台湾における意匠出願制度概要」（2012.08.09）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/518/
「香港における意匠出願制度概要」（2019.07.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17524/

7.審査制度
　中国での意匠は、実体審査が行われず、登録後の無効請求により対応する。ただし、明らかに不登録事由に該当するか否かの審査は行われる。
　韓国での意匠は、実体審査の行われない「デザイン一部審査登録出願（方式審査のみ）」と実体審査の行われる「デザイン審査登録出願」とがある。デザイン一部審査登録出願の場合は登録後に異議申立制度がある。
　台湾での意匠は、すべての出願が実体審査される。
　香港での意匠出願は、実体審査が行われず、登録後の登録官または裁判所への付託（Reference）請求により対応する。

関連記事　　
「中国における意匠出願制度概要」（2020.04.28）（注：2021年6月より部分意匠可）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18532/
「日本と中国の意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較」（2015.06.19）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/9245/
「中国における意匠出願の拒絶理由通知書に対する対応」（2015.05.08）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8886/
「韓国における意匠の一部審査登録制度」（2020.04.30）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18536/
「韓国意匠出願手続における期日管理」（2020.03.19）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18376/
「日本と韓国の意匠出願制度における実体審査制度の有無に関する比較」（2015.07.31）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/9277/
「台湾における専利に必要な書類一覧」（2021.06.17）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20182/
「台湾における画像意匠の保護制度」（2020.08.11）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/19394/
「日本と台湾の意匠出願制度における実体審査制度の有無に関する比較」（2015.10.23）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/9300/
「香港における意匠出願制度概要」（2019.07.04）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17524/
「香港の意匠特許における機能性および視認性」（2018.09.27）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15855/
「日本と香港の意匠出願制度における実体審査制度の有無に関する比較」（2015.11.20）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/9256/
「香港における意匠制度の概要」（2014.10.01）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/6703/

シンガポールにおける知的財産の基礎的情報（全体マップ）－実体編

1.　出願ルート

シンガポールでは、特許権、意匠権、商標権を取得するために、以下のルートにより出願することができる。また、特許、意匠、商標について、国際出願ができる。

［シンガポールにおける出願ルート］

直接出願 国際出願 広域出願
特許 可 可 不可
実用新案 – – –
意匠 可 可 不可
商標 可 可 不可

＜諸外国・地域・機関の制度概要および法令条約等＞

https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/mokuji.html

2.　法令・制度等

(1)　主な法律

法域 法律・規則（公用語）／（英語）

a: 法律・規則等の名称

b: 主な改正内容

URL:

 改正年

(YYYY)

 施行日

(DD/MM/YYYY)
特許 （公用語・英語）

a. Singapore Patents Act（シンガポール特許法）

b. Act 18 of 2017—Patents (Amendment) Act 2017（2017年法律18号-特許（改正）法2017）

・第14条：「条件と手順の詳細を提供する」ことと、「グレースピリオドの規定を拡大し、グレースピリオドが適用される開示の範囲を拡大する」こと

・第29条：出願人が調査および／または審査の請求を取り消すことができる時期について報告書が提出される前、すなわち未審査の出願が放棄されたとみなされる時期、の前であれば何時でも可とする。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/PA1994

2017

30/10/2017
（日本語）

a.シンガポール特許法

URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-tokkyo.pdf
（公用語・英語）

a. Singapore Patent Rules（シンガポール特許規則）

b. この2017年改訂版特許規則には、2017年10月30日に発効した特許（改正第2）規則2017（S 573/2017）までのすべての修正が組み込まれている。

主な変更点：

・ 規則8：規則8の主題を、国際展示会から法第14条（4）の状況

をサポートする書面による証拠に変更。

・ 規則43：補足審査の対象となる所定の出願日は2020年1月1日

より前。

URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/PA1994-R1

2017

30/10/2017
（日本語）

a.シンガポール特許規則

URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-tokkyo_kisoku.pdf
関連記事：「シンガポールにおける特許出願制度概要」（2019.7.25）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17577/

関連記事：「シンガポールの法令へのアクセス方法―AGCウェブサイト」（2019.6.11）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17408/

関連記事：「シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等」（2019.2.21）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16562/

関連記事：「シンガポールにおける特許年金制度の概要」（2018.10.11）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15963/
意匠 （公用語・英語）

a. Singapore Registered Designs Act（シンガポール意匠法）

b. 主な改正点

1.定義規定を整備し、製法の限定を廃止、「非物理的製品」規定を追加した。

2.所有者の定義を見直し、委託創作の所有者を委託者とする規定を廃止した。

3.新規性喪失の経過規定に創作者の公知行為を追加、猶予期間を12月に変更。

4.著作権者等による意匠出願について、芸術作品の保護の除外規定の明確化した。

5.方式要件を条文に明記し出願日認定要件を規定、多意匠一出願採用した。

6.公告の延期既定を新設した。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/RDA2000

2017

30/10/2017
（日本語）

a. シンガポール意匠法

https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-ishou.pdf

b. 改正概要

https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-ishou_kisoku_kaisei.pdf
（公用語・英語）

a. Singapore Registered Designs Rules（シンガポール意匠規則）

b. 主な改正点

1.意匠公報の定義を改定し、非物理的製品・設計を追加した。

2.産業上の利用規定を、非物理的製品を含む規定へ差替えた。

3.新規性の宣誓(statement)について、織物・壁紙等を除き、出願が新規な意匠であるとの宣誓を求めるよう改定した。

4.新規性喪失の経過規定を、法改正に沿った開示規定に改定した。

5.法改正に沿って、多意匠一出願を認める規則に改定した。

URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/RDA2000-R1

No. S574 Registered Designs (Amendment No.2) Rules 2017

URL: https://www.ipos.gov.sg/docs/default-source/default-document-library/registered-designs-(amendment-no-2)-rules-2017-(002).pdf

2017

30/10/2017
（日本語）

なし
関連記事：「シンガポールにおける意匠登録出願制度概要」（2019.7.30）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17579/

関連記事：「シンガポールの意匠関連の法律、規則等」（2019.4.2）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16806/

関連記事：「シンガポールにおける意匠登録の機能性および視認性」（2018.10.4）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15931/

関連記事：「シンガポールにおける意匠の公開延期請求について」（2017.6.22）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/13827/

関連記事：「日本とシンガポールの意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較」（2015.9.25）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/9296/

関連記事：「日本とシンガポールにおける意匠権の権利期間および維持に関する比較」（2015.3.31）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8454/
商標 （公用語・英語）

a. Trade Marks Act（シンガポール商標法）

(Chapter 332, Revised Edition 2005)

b. 商標法のこの改訂版2005（332章）は、2018年法律第34号（知的財産の国境取締法（INTELLECTUAL PROPERTY (BORDER ENFORCEMENT) ACT 2018）の施行に伴い、関連する国境取締措置に関する条項が改正された。

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/TMA1998

2018

21/11/2019
（日本語）

なし
（公用語・英語）

a. Trade Marks Rules（シンガポール商標規則）

（G.N. No. S 149/2017—Trade Marks (Amendment No. 2) Rules 2017)

b. 主な改正点

1.ニース分類表を附則から外し、分類表更新の都度の規則改正を不要とした。

2.異議申立制度について、期間延長請求、誓約書および登録官の決定に関して明確化した。

2017

1/4/2017
（日本語）

a.シンガポール商標規則

URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-shouhyou_kisoku.pdf
関連記事：「シンガポールの商標法における『商標』の定義の観点からの識別性」（2017.12.14）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/14326/

関連記事：「シンガポールの商標法における『認証・証明マーク』についての識別性の要件・考え方および地理的表示（GI）の保護制度との関係」（2017.12.7）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/14313/

関連記事：「シンガポールの模倣被害に対する措置および対策」（2017.11.21）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/14261/

関連記事：「シンガポールにおけるマドリッド協定議定書の基礎商標の同一性の認証と商品・役務に関する審査の在り方」（2017.5.30）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/13693/

関連記事：「シンガポールにおける商標のコンセント制度」（2017.2.23）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/13205/

関連記事：「シンガポールにおける証明標章制度」（2016.4.11）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10362/

関連記事：「シンガポールにおける商標出願に際しての商品および役務の記述に関する留意事項」（2016.3.29）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10417/

関連記事：「シンガポールにおける商標権に基づく権利行使【その１】」（2015.6.2）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/8562/

関連記事：「シンガポールにおける商標権に基づく権利行使【その２】」（2015.6.9）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8564/

関連記事：「シンガポールにおける『商標の使用』の定義と証拠【その1】」（2015.5.19）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8570/

関連記事：「シンガポールにおける『商標の使用』の定義と証拠【その2】」（2015.5.26）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/8560/

関連記事：「シンガポールにおける周知商標の保護」（2015.3.31）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/8484/

関連記事：「シンガポールにおける商号保護」（2015.3.31）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/8486/

関連記事：「シンガポールにおける商標の識別力を損失した登録商標の取消制度」（2014.11.11）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/7059/
著作権 （公用語・英語）

a. Singapore Copyright Act（シンガポール著作権法）

b.国立図書館委員会法改正（NATIONAL LIBRARY BOARD (AMENDMENT) ACT 2018、2018年法第30号）に伴う改正

URL: https://sso.agc.gov.sg/Acts-Supp/22-2021/Published/

＊2022年6月10日に2021年改正法にリンク修正

2019

31/01/2019
（日本語）

なし
関連記事：「シンガポールにおける昨今の法執行事例」（2013.12.17）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/precedent/4898/
不正競争 （公用語・英語）

a. Singapore Competition Act（シンガポール競争法）

b. ENTERPRISE SINGAPORE BOARD ACT 2018制定に伴う改正

URL: https://sso.agc.gov.sg/Act/ESBA2018

2018

01/04/2018
（日本語）

なし

(2)　審査基準等

法域 審査基準、ガイドライン、マニュアル等

a:審査基準等の名称

URL:

 最終更新

b:(DD/MM/YYYY)
特許 （公用語・英語）

a. Examination Guidelines（審査ガイドライン）

URL: https://www.ipos.gov.sg/docs/default-source/resources-library/patents/guidelines-and-useful-information/examination-guidelines-for-patent-applications.pdf

02/06/2022
（日本語）

なし
（公用語・英語）

a. Patents Formalities Manual（特許方式マニュアル）

URL: https://www.ipos.gov.sg/docs/default-source/resources-library/patents/guidelines-and-useful-information/patents-formalities-manual.pdf

02/06/2022
（日本語）

なし
関連記事：「シンガポールにおけるコンピュータソフトウエア関連発明等の特許保護の現状」（2019.1.15）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16391/

関連記事：「シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等」（2019.2.21）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16562/

関連記事：「シンガポールにおける特許審査基準関連資料」（2016.2.9）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/10279/
意匠 シンガポール意匠は実体審査が行われないため、審査基準等は用意されていない。
商標 （公用語・英語）

a. Trade Marks Work Manual（商標作業マニュアル）

URL:https://www.ipos.gov.sg/about-ip/trade-marks/managing-trade-marks/guides

08/2018
（日本語）

なし
関連記事：「シンガポールの商標関連の法律、規則、審査基準等」（2019.4.2）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16809/

関連記事：「シンガポールにおける商標審査基準関連資料」（2016.2.19）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/10281/

(3)　主な条約・協定（加盟状況）

条約名 加盟 加盟予定

(YYYY)

 未加盟
(1) パリ条約

(工業所有権の保護に関するパリ条約)

 ☒ ☐

(      )

 ☐
(2) PCT

(特許協力条約)

 ☒ ☐

(      )

 ☐
(3) TRIPs

(知的所有権の貿易関連の側面に関する協定)

 ☒ ☐

(      )

 ☐
(4) PLT

(特許法条約)

 ☐ ☐

(      )

 ☒
(5) IPC

(国際特許分類に関するストラスブール協定)

 ☒ ☐

(      )

 ☐
(6) ハーグ協定

(意匠の国際登録に関するハーグ協定)

 ☒ ☐

(      )

 ☐
(7) ロカルノ協定

(意匠の国際分類を定めるロカルノ協定)

 ☐ ☐

(      )

 ☒
(8) マドリッド協定

(標章の国際登録に関するマドリッド協定議定書)

 ☒ ☐

(      )

 ☐
(9) TLT

(商標法条約)

 ☐ ☐

(      )

 ☒
(10) STLT

(商標法に関するシンガポール条約)

 ☒ ☐

(      )

 ☐
(11) ニース協定

(標章の登録のため商品及びサービスの国際分類に関するニース協定)

 ☒ ☐

(      )

 ☐
(12) ベルヌ条約

(文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約)

 ☒ ☐

(      )

 ☐
(13) WCT

(著作権に関する世界知的所有権機関条約)

 ☒ ☐

(      )

 ☐
(14) WPPT

(実演及びレコードに関する世界知的所有権機関条約)

 ☒ ☐

(      )

 ☐

3.　料金表

[情報1]

（公用語・英語）

Title: First Schedule (After Rule 120) of the “Patents Rules”

URL: https://sso.agc.gov.sg/SL/PA1994-R1
（日本語）

Title: シンガポール特許規則、附則1「手数料」

URL: https://www.jpo.go.jp/system/laws/gaikoku/document/mokuji/singapore-tokkyo_kisoku.pdf
（公用語・英語）

Title: Forms & Fees（様式および手数料）

URL: https://www.ipos.gov.sg/about-ip/trade-marks
（日本語）

なし
関連記事：「シンガポールにおける特許年金制度の概要」（2018.10.11）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/15963/

関連記事：「シンガポールにおける特許ライセンス」（2018.6.28）

https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/15376/