アジア / 統計 | 出願実務 | その他参考情報
シンガポールにおける知的財産権取得の流れ
2013年12月10日
このコンテンツを印刷する■概要
「アセアン・インド知財保護ハンドブック」（2013年3月、日本貿易振興機構）第2章5では、シンガポールにおける特許、意匠、商標の出願から権利の取得までの流れがフローチャートを用いて説明され、6年分の出願件数等の統計情報も掲載されている。また、著作権、機密情報、集積回路レイアウトデザインの保護の概要についても説明されている。■詳細及び留意点
【詳細】
アセアン・インド知財保護ハンドブック（2013年3月、日本貿易振興機構）第2章5
（目次）
第2章 まずは権利を取得しよう
各国別 権利所得の流れ
5 シンガポール p.32
(1)特許 p.32
(2)意匠 p.33
(3)商標 p.34
(4)著作権 p.36
(5)機密情報 p.36
(6)集積回路レイアウトデザイン p.36
■ソース
・ アセアン・インド知財保護ハンドブック（2013年3月、日本貿易振興機構）https://www.globalipdb.inpit.go.jp/jpowp/wp-content/uploads/2013/11/c07cb51fd03e1c53f1ca0265ea9a0275.pdf
■本文書の作成者
一般財団法人比較法研究センター 清水利明■本文書の作成時期
2013.10.03