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中国における知的財産権に関する司法保護の現状

2017年06月13日

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■概要
「中国における知的財産権民事訴訟の実務」(2016年8月、日本貿易振興機構(JETRO)広州事務所知識産権部)Iでは、中国における知的財産権に関する司法保護の現状について、中国知的財産権に関する民事訴訟案件の分布および各種知的財産権案件の割合、中国知的財産権保護に関する司法政策中の区別対応と寛大さと厳格さを調和させた適用、中国の商標保護司法政策における特別規定としての商標権侵害における立証責任の分配と商標権侵害における反訴が、詳細に説明されている。
■詳細及び留意点

「中国における知的財産権民事訴訟の実務」(2016年8月、日本貿易振興機構(JETRO)広州事務所知識産権部)I

 

(目次)

I 中国知的財産権に関する司法保護の現状(特許と商標について) P.10

 一 中国知的財産権に関する民事訴訟案件の分布及び各種知的財産権案件の割合 P.10

 二 中国知的財産権保護に関する司法政策中の区別対応と寛大さと厳格さを調和させた適用 P.20

  (一) 寛大さと厳格さを調和させた「厳格さ」 P.21

  (二) 寛大さと厳格さを調和した「寛大さ」 P.23

 三 中国の商標保護司法政策における特別規定 P.27

  (一) 商標権侵害における立証責任の分配 P.27

  (二) 商標権侵害における反訴 P.28

■ソース
「中国における知的財産権民事訴訟の実務」(2016年8月、日本貿易振興機構(JETRO)広州事務所知識産権部)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/jpowp/wp-content/uploads/2017/04/b8be3dd732bdffe25407855ff51fdc99.pdf
■本文書の作成者
日本技術貿易株式会社
■本文書の作成時期
2017.01.31
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