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エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態

2016年03月11日

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■概要
「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態について、エジプトの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。
■詳細及び留意点

【詳細】

 アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(2)

 

(目次)

4 各調査対象国の知的財産権関連制度の運用実態

 (2) エジプト P.116

 

(添付資料5) エジプト特許庁の審査基準の概要

■ソース
アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)
http://www.globalipdb.inpit.go.jp/jpowp/wp-content/uploads/2015/11/196859e4aba06607a24fad1d541aeb6a.pdf
■本文書の作成者
日本技術貿易株式会社
■本文書の作成時期
2015.11.17
■関連キーワード
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