■ 全110件中、81~90件目を表示しています。
-
2014.07.25
ベトナムにおける登録商標の不使用取消請求(2024年4月9日訂正:
本記事の【詳細】欄の第(1)項の2文目において、当初「(同条第1項d)」と記載しておりました箇所を、「知的財産法第95条第1項d」に修正いたしました。)ベトナムでは、正当な理由なく連続して5年間使用されていない登録商標は、第三者の請求による不使用取消の対象となる。
-
2014.06.06
韓国における商標の不使用取消審判制度(2013年10月6日施行法の改正概要を含む)(本記事は、2017/9/19、2020/4/2に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/14035/(2017/9/19)
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/18408/(2020/4/2)商標の不使用取消審判は、登録商標が一定期間継続して韓国国内で正当な理由なく使用されていない場合に、これを理由としてその登録を取消すことを請求できる審判制度である。2013年10月6日に施行された改正商標法において不使用取消審判に係る規定の改正が行われ、制度の見直しが行われた。
-
2014.06.06
台湾における先行登録権利の調査と権利侵害の回避「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)一、(二)では、台湾における先行登録権利の調査と権利侵害の回避について説明されている。具体的には、専利権(特許権、実用新案権及び意匠権)と商標権に分けて、先行登録権利検索データベースの検索方法について説明されている。また、権利侵害回避の対応策として、譲渡やライセンスの交渉、異議申立、無効・取消審判請求等の制度や留意点について、フローチャートを用いて説明されている。
-
2014.06.03
中国における特許権取得後の訂正「諸外国における特許権利化後の補正・訂正制度に関する調査研究」(2011年3月、日本国際知的財産保護協会)第2章VIIでは、中国における特許権取得後の訂正について、訂正の要件、手続等の概要について紹介されている。
-
2014.03.25
韓国における審判関連の基礎データ及び関連法令「欧米韓における当事者系審判等の運用実態に関する調査研究」(2012年3月、日本国際知的財産保護協会)第2章VII.4では、韓国における審判関連の基礎データが紹介されている。具体的には、2010年度の拒絶決定不服審判、無効審判、取消審判、権利範囲確認、訂正審判(特実のみ)の審判請求及び処理件数並びに特許法院への提訴件数等についてデータが紹介されている。
-
2014.03.17
韓国における当事者系審判の運用「欧米韓における当事者系審判等の運用実態に関する調査研究」(2012年3月、日本国際知的財産保護協会)第2章VII.3では、韓国における当事者系審判、具体的には、無効審判、権利範囲確認審判等の手続の運用実態について説明されている。
-
2014.03.14
韓国における審判制度概要(本記事は、2017/9/26、2023/2/9に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/14043/(2017/9/26)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/33725/(2023/2/9)「欧米韓における当事者系審判等の運用実態に関する調査研究」(2012年3月、日本国際知的財産保護協会)第2章VII.2では、産業財産権(特許・実用新案・デザイン・商標)の発生・変更・消滅、及び、その効力範囲に関する紛争を解決するための審判制度として拒絶決定不服審判、無効審判、権利範囲確認審判及び訂正審判等の概要が紹介されている。
-
2014.02.18
台湾進出における知的財産関連の留意事項「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)B.第三章第一節では、台湾進出おける知的財産関連の留意事項について説明されている。具体的には、特許、実用新案、意匠、商標の権利化の具体的な費用の額を示すと共に、出願手続のフローチャートを用いて知的財産権取得の際の検討事項を説明し、ライセンス契約時の留意点やロイヤリティ等にも説明している。
-
2013.12.20
シンガポールにおける意匠登録制度及びその運用実態(2022年5月13日訂正:
本記事のソース「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)II.5、III.5では、シンガポールにおける意匠登録制度全般について詳しく説明されている。具体的には、意匠登録制度の法令、規則等の整備状況や、管轄部局の組織図、出願書類、登録要件、権利の効力範囲、裁判例等が説明され、資料編では、ガイドラインや審査フロー図等が掲載されている。
-
2013.11.25
インドにおける知的財産保護制度本コンテンツは2007年3月時点の情報に基づくものである。
「インドにおける知的財産保護制度及びその運用状況に関する調査研究報告書」(2007年3月、日本国際知的財産保護協会)では、インドにおける知的財産制度の概要について、表、フローチャート、現地のコメント及び統計資料を交え、説明されている。例えば、特許出願公開について、2006年に公開された特許出願件数を4カ所のインド特許意匠商標総局ごとに調べ、表形式にまとめている。