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2015.01.06
タイにおける地理的表示保護法の活用「模倣対策マニュアル タイ編」（2008年3月、日本貿易振興機構）第3編第5章では、タイにおける地理的表示保護法について、保護対象、登録可能な地理的表示、登録できない地理的表示、登録者の資格、外国の地理的表示の登録手続き、登録手続きの流れ、地理的表示の保護期間、罰則規定、料金表等が説明されている。
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2014.12.26
タイにおける半導体集積回路の回路図保護法の活用「模倣対策マニュアル タイ編」（2008年3月、日本貿易振興機構）第3編第4章では、タイにおける半導体集積回路の回路図保護法について、保護対象、集積回路としての登録要件、登録者の資格、タイ知的財産局への保護申請、保護期間、料金表等が説明されている。
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2014.11.05
インドにおける特許制度の概要「模倣対策マニュアル インド編」（2014年3月、日本貿易振興機構） 第1章 第3節では、インドにおける特許関連の現行法制、国際条約の加盟状況、特許の保護対象、出願手順、先行技術に基づく拒絶査定が下された場合の手続き、権利付与前及び権利付与後の異議申立手続き、特許権の実施に関する情報提出、料金等について説明されている。また、判例を交えて強制実施権についても説明されている。
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2014.09.19
シンガポールにおける意匠の存続期間とその延長シンガポールにおける意匠権の存続期間は出願日から5年であるが、2度の延長申請（各5年ずつ）によって、最長で出願日から（優先権主張を伴う出願の場合には優先日から）15年間有効に存続することが可能である。
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2014.09.09
中国における無効審判請求手続、口頭審理、証拠について「中国専利無効審判請求・訴訟における注意点に関する調査報告書」（2012年3月、日本貿易振興機構上海事務所知識産権部）第二章では、中国における無効審判請求について紹介されている。具体的には、無効審判請求の手続、口頭審理の手続、証拠等について紹介されている。
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2014.06.24
韓国意匠法全面改正（2014年7月1日施行）の概要韓国のデザイン保護法（意匠法）が2013年5月28日付で全面改正され、2014年7月1日から施行される。今回の改正においては、条文を体系的に再配置して、意匠創作者の権利保護強化のための制度改善、意匠登録出願人の便宜増進のための制度改善、ヘーグ協定に伴う国際出願及び国際意匠登録出願手続を導入する等の改正が行われている。
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2014.05.20
ベトナムにおける商標登録出願の早期審査（本記事は、2021/6/22に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20267/ベトナムでは、法律上の規定はないが、商標登録出願について、所定の手数料を支払い、早期審査を求める理由等を記載した申請書を提出すれば、審査期間の短縮が可能である。
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2014.05.07
マレーシアにおける複数意匠の一括出願マレーシアにおいて、公序良俗に反する意匠や物品の形状若しくは輪郭の特徴であって、物品が果たすべき機能によってのみ決定づけられる意匠は登録が認められないが、同一の出願で複数の意匠を対象にできる点に特徴がある。審査は方式審査のみである。
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2014.04.18
韓国における先使用権制度「先使用権制度に関する調査研究報告書」（2011年3月、日本国際知的財産保護協会）III．１「２」では、韓国における発明の先使用権制度について紹介されている。具体的には、先使用権の成立要件、先使用権者が実施できる範囲及び移転等に関して、Q&A形式で紹介されている。
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2014.04.15
シンガポール特許のライセンス・オブ・ライト（実施許諾用意）制度シンガポールでも特許をライセンス許諾することができるが、ライセンス・オブ・ライト制度（実施許諾用意制度）を利用すれば、更新手数料を半額にすることができる。