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■ 全425件中、7180件目を表示しています。

  • 2021.06.17

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • その他

    台湾における専利に必要な書類一覧

    専利の出願、審査、維持あるいは審判には、所定の書類を用意しなければならない。書式によっては台湾特許庁(中国語「智慧財産局」)のウェブサイトにてダウンロードできるものもあるが、そうでないものもある。そこで、専利に係る必要書類について、台湾特許庁のウェブサイトで提供されている書類をもとに、出願のプロセスに沿って、出願時に必要な書類、出願後から公告に至るまでに必要な書類、公告後に必要な書類に分けて説明すると共に、専利法または専利法施行細則における各種必要書類を紹介する(台湾特許庁のウェブサイトにおいて提供されていない書類には、「*」をつけている)。

  • 2021.06.10

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    台湾における商標関連手続に必要な書類

    商標の手続きは、出願、取り下げ、補完、変更出願、登録延長、商標権異動、争議処理等に分けることができ、商標出願人または商標権者は、それぞれの手続において関連法律条文により定められた書類を提出しなければならない。

  • 2021.06.03

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    日本と台湾における特許出願書類の比較

    (本記事は、2023/9/21に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37347/

    主に日本で出願された特許出願を優先権の基礎として台湾に特許出願する際に、必要となる出願書類についてまとめた。日本と台湾における特許出願について、出願書類と手続言語についての規定および優先権主張に関する要件を比較した。

  • 2021.05.25

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    中国における特許/実用新案の同日出願について

    中国では、同一の発明創作には1つの専利権のみが付与されるが、同一の出願人が同一の発明創作について特許と実用新案を同日に出願する場合(以下、「特実同日出願」という。)、出願人は、先に取得した実用新案特許権が終了する前に当該実用新案権を放棄すれば、特許出願について権利付与を受けることができ、特許出願の内容を修正すれば、特許と実用新案との両方を維持することもできる。

  • 2021.05.18

    • アジア
    • 法令等
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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    中国における知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編

    (本記事は、2024/5/16に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/38987/

    (2022年5月27日訂正:
    本記事の「规费清单(料金表)」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)

    本記事は、「新興国等知財情報データバンク」に掲載されている中国の知的財産に関連する基礎的な情報へのアクセス性を向上させるために、当該基礎的な情報の全体像をマップ的に示すものである。
    具体的に、「実体編」の本記事では、中国の知的財産に関連する基礎的な情報について、原文およびその翻訳文(英語または日本語でアクセスできるもの)のURLアドレスを掲載し、これらに関連する「新興国等知財情報データバンク」内の記事(関連記事)およびその他の情報(関連情報)の主なものについて、URLを掲載した。

  • 2021.05.06

    • アジア
    • 法令等
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾における知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編

    (本記事は、2024/1/11に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/38039/

    (2022年5月27日訂正:
    本記事の「混淆誤認之虞 審查基準」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)

    本記事は、「新興国等知財情報データバンク」に掲載されている台湾の知的財産に関連する基礎的な情報へのアクセス性を向上させるために、当該基礎的な情報の全体像をマップ的に示すものである。具体的に、「実体編」の本記事では、台湾の知的財産に関連する基礎的な情報について、原文およびその翻訳文(英語または日本語でアクセスできるもの)のURLアドレスを掲載し、これらに関連する「新興国等知財情報データバンク」内の記事(関連記事)の主なものについて、URLを掲載した。

  • 2020.12.01

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    中国における商標出願手続の注意点

    中国はパリ条約、TRIPS協定、マドリッド協定議定書(マドプロ)などの国際条約に加盟しているため、商標法に関する基本的な考え方は日本と同じである。しかし、実際の手続等異なっている箇所も少なくないため、注意が必要である。本稿では、中国において商標出願手続を行う際に注意が必要な点を解説する。

  • 2020.08.04

    • アジア
    • 法令等
    • 制度動向
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    中国における専利審査指南の改正(後編)

    中国において2019年9月23日に改正された「専利審査指南」は、2019年11月1日から実施され、2019年11月1日(当日を含む)以降に受理された新たな専利出願および審査段階にある案件に適用される。本稿では前編、後編に分けて今回の指南の改正の背景、改正内容、および出願人に対する影響について解説を行う。

  • 2020.05.28

    • アジア
    • 法令等
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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    シンガポールにおける知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編

    (本記事は、2024/6/20に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/39348/

    (2022年6月10日訂正:
    本記事のソース「Singapore Copyright Act」「Examination Guidelines」「Patents Formalities Manual」「Trade Marks Work Manual」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)

    本記事は、「新興国等知財情報データバンク」に掲載されているシンガポールの知的財産に関連する基礎的な情報へのアクセス性を向上させるために、当該基礎的な情報の全体像をマップ的に示すものである。
    具体的に、「実体編」の本記事では、シンガポールの知的財産に関連する基礎的な情報について、原文およびその翻訳文(日本語または英語でアクセスできるもの)のURLアドレスを掲載し、これらに関連する「新興国等知財情報データバンク」内の記事(関連記事)およびその他の情報(関連情報)の主なものについて、URLを掲載した。

  • 2020.05.26

    • アジア
    • 法令等
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    タイにおける知的財産に関する基礎情報(全体マップ)-実体編

    本記事は、「新興国等知財情報データバンク」に掲載されているタイの知的財産に関連する基礎的な情報へのアクセス性を向上させるために、当該基礎的な情報の全体像をマップ的に示すものである。具体的に、「実体編」の本記事では、タイの知的財産に関連する基礎的な情報について、原文およびその翻訳文(日本語または英語でアクセスできるもの)のURLアドレスを掲載し、これらに関連する「新興国等知財情報データバンク」内の記事(関連記事)およびその他の情報(関連情報)の主なものについて、URLを掲載した。