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2014.10.01
香港における意匠制度の概要（本記事は、2021/9/28に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20887/「模倣対策マニュアル 香港編」（2014年3月、日本貿易振興機構）第2章第3節では、香港における意匠制度の説明がされている。具体的には、意匠出願・登録件数の統計、登録要件、出願手続、手続に係る手数料等についての説明がされている。
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2014.09.16
韓国における契約書の作成（本記事は、2021/9/7に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20830/「韓国ライセンスマニュアル」（2011年3月、日本貿易振興機構）第６編では、韓国における契約書の作成について紹介されている。具体的には、ライセンス契約書全体の構成を前文、本文及び後文にわけ、前文については、導入部、説明部及び約因部、本文については、定義条項、実施許諾条項及び技術指導条項等、各項目に含まれる具体的な条項を列挙し、それぞれの内容について紹介されている。
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2014.08.15
韓国におけるライセンスの意義とライセンス適性の検討（本記事は、2021/9/7に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20830/「韓国ライセンスマニュアル」（2011年3月、日本貿易振興機構）第１編第１章では、韓国におけるライセンスの意義とライセンス適性の検討について紹介されている。具体的には、ライセンスの有用性、ライセンスの対象となる知的財産（ノウハウを含む）、ライセンスの種類（専用実施権、クロスライセンス等）、韓国の国際技術移転の現状、ライセンスの適性の検討等について紹介されている。
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2014.06.06
台湾における先行登録権利の調査と権利侵害の回避「台湾模倣対策マニュアル」（2013年3月、交流協会）一、（二）では、台湾における先行登録権利の調査と権利侵害の回避について説明されている。具体的には、専利権（特許権、実用新案権及び意匠権）と商標権に分けて、先行登録権利検索データベースの検索方法について説明されている。また、権利侵害回避の対応策として、譲渡やライセンスの交渉、異議申立、無効・取消審判請求等の制度や留意点について、フローチャートを用いて説明されている。
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2014.05.16
ロシアでの商標出願における拒絶理由通知に対する対応策（本記事は、2020/4/16に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18451/商標出願に拒絶理由があると審査官が判断したときは、拒絶理由を出願人に通知し応答する機会が与えられる。これに対し、出願人は、意見書を提出し拒絶理由がない旨の反論をすることができるが、その他にも指定商品等の補正、先願商標権者や登録周知商標の所有者との交渉、先願商標権を消滅させるために不使用取消訴訟の提起等の対応をとることもできる。
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2014.03.21
マレーシアにおける優先権主張を伴う特許出願（本記事は、2025/2/25に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/40614/マレーシアにおける特許出願において優先権を主張する場合、出願時の願書において、優先権を主張する旨を宣誓する必要がある。基礎出願の出願書類の謄本は必ずしも出願時に提出する必要はないが、登録官から提出を求められた日から3ヵ月以内に提出しなければならない。優先権主張の期間は基礎出願から12ヶ月以内であり、部分優先や複数優先も認められる。
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2014.03.07
サウジアラビアにおける著作権制度本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」（2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課）第２部第２章第４節では、サウジアラビアにおける著作権制度について紹介されている。具体的には、対象となる著作物、著作権の登録、著作権侵害の告訴の受理等を行う著作権部、著作者、利用許諾、譲渡等について紹介されている。サウジアラビアは、文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約の加盟国だが、当該条約の著作権対象著作物であったとしても、同国内の関連する規則及び法律、特にイスラム法に適合する著作物でなければ、保護されない。
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2014.03.06
アラブ首長国連邦における商標制度本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」（2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課）第１部第２章第３節では、アラブ首長国連邦（UAE）における商標制度について紹介されている。具体的には、商標制度、登録手続き、必要書類、手数料、登録の取消、周知商標の保護、譲渡及び使用許諾等について紹介されている。UAEでは、商品及び役務の区分はニース協定の国際分類に対応し、商標出願は1区分ごとに行う。商標権の存続期間は出願日から10年である。
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2014.03.06
サウジアラビアにおける商標制度本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」（2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課）第２部第２章第３節では、サウジアラビアにおける商標制度について紹介されている。具体的には、商標の定義、出願、団体商標、記載事項、優先権、商標局による審査、拒絶理由、公告、異議申し立て、登録の流れ、更新、譲渡、質入れ等について紹介されている。
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2014.03.05
サウジアラビアにおける半導体回路配置および意匠制度本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」（2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課）第２部第２章第２節では、サウジアラビアにおける半導体回路配置及び意匠制度について紹介されている。サウジアラビアでは、回路配置及び意匠は、「特許、集積回路の回路配置、植物品種及び工業意匠に関する法律」によって保護されるが、本節では、意匠における登録要件、出願、優先権主張及び新規性喪失の例外、並びに、集積回路の回路配置における登録要件、譲渡、実施許諾及び強制実施権等について紹介されている。