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2023.04.20
メキシコにおける特許・実用新案・意匠の出願・登録に関する統計情報へのアクセス方法メキシコにおける年次ごとの特許・実用新案・意匠の出願・登録件数についての統計情報は、メキシコ産業財産庁（Instituto Mexicano de la Propiedad Industrial: IMPI）ウェブサイト（https://www.gob.mx/impi/）において確認することが可能である。該当ページにアクセスすると、特許・実用新案・意匠の出願・登録件数の統計情報をMS Excel形式で入手することができる。
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2023.04.18
中国における悪意のある商標登録行為の取締りについて2019年中国『商標法』の法改正により、『商標法』第4条に使用を目的としない悪意の出願を拒絶する旨の規定が追加された後、中国国家知識産権局（CNIPA）は、悪意による商標の登録を厳しく取締るために一連の措置を実施している。本稿では、関連措置の概要、悪意のある商標登録の種類、取締る手段・実績、問題点などについて解説する。
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2023.04.06
中国における商号と商標との関係中国では商号と商標との衝突が頻繁に発生しており、主に「他人の登録商標に同一または類似する文字を企業名称の商号として登録するもの」と「他人の商号を商標として登録するもの」の二種類が挙げられる。これらの衝突が発生する主因は、中国の商標登録制度と企業名称登記制度という異なる二制度の並存にある。以下では、中国の企業名称登記制度と商標登録制度の概要およびその衝突の解決策について紹介する。
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2023.03.30
マレーシアにおける特許出願の補正の制限マレーシアの特許出願においては、マレーシア特許法(1983年)の規定に従い、出願人は特許付与の前および後に補正を行うことができる。しかしながら、2022年の特許法改正により、自発補正に関する特許法第26A条が削除され、代わりに、特許出願の補正に関する登録官の権限に関する特許法第79A条に補正に関する条文が加えられた。本記事では、2022年3月18日施行の改正特許法（以下「特許法」という。）に基づき補正の制限について解説する。
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2023.03.30
韓国におけるメタバース内の仮想商品の商標出願審査処理指針について近年、韓国において拡張仮想世界（メタバース）などの仮想空間での仮想商品の取引が活性化し仮想商品関連の商標出願が増加傾向にある。これに伴い、韓国特許庁は仮想空間での商標紛争発生を防止し、商標選択の範囲が過度に縮小する問題点を解消するために「仮想商品審査処理指針」を作成し2022年7月14日から施行している。本稿では、「仮想商品審査処理指針」の要点を紹介する。
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2023.03.28
中国の商標審査審理指南について（審査編）2021年11月16日、中国国家知識産権局（CNIPA）は「商標審査審理指南」（以下、「指南」）を公表した（2022年1月1日より施行）。「指南」は、上編および下編の2編から構成されており、上編「方式審査・事務作業編」は、現行の各種商標業務の方式審査基準および事務作業の規範化を目的に新設された内容で、下編「商標審査審理編」は2016年版の「商標審査及び審理基準」に基づいて改訂されたものである。本稿では、下編の「商標審査審理編」について紹介する。上編については、「中国の商標審査審理指南について（方式編）」（https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/34081/）をご覧ください。
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2023.03.28
中国の商標審査審理指南について（方式編）2021年11月16日、中国国家知識産権局（CNIPA）は「商標審査審理指南」（以下、「指南」）を公表した（2022年1月1日より施行）。「指南」は、上編および下編の2編から構成されており、上編「方式審査・事務作業編」は、現行の各種商標業務の方式審査基準および事務作業の規範化を目的に新設された内容で、下編「商標審査審理編」は2016年版の「商標審査及び審理基準」に基づいて改訂されたものである。本稿では、上編の「方式審査・事務作業編」について紹介する。下編については、「中国の商標審査審理指南について（審査編）」（https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/34084/）をご覧ください。
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2023.03.23
韓国の商標法改正について韓国において、「部分拒絶制度」、「再審査請求制度」、「商標使用行為の類型拡大」を導入する改正商標法が2022年2月3日に公布され、公布後1年が経過する2023年2月4日から実施される。ただし、商標使用行為の類型拡大は、公布後6か月が経過した2022年8月から施行されている（法律第18817号、付則第1条参照）。本稿では、今回の商標法改正の主な内容について解説する。
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2023.03.23
韓国における関連意匠制度関連意匠制度（「関連デザイン制度」）とは、意匠権者または意匠登録出願人が自己の登録意匠または出願した意匠（基本意匠）とのみ類似した意匠に係っており、その基本意匠の意匠登録出願日から1年以内に意匠登録出願された場合に限って関連意匠として意匠登録を受けることができる制度である。なお、「デザイン保護法の一部改正法律案」では、関連意匠の出願可能な期間を、基本意匠の意匠登録出願日から3年以内に拡大する提案がなされている。
従前は類似意匠制度を採用していたが、デザイン保護法の全面改正（2013年5月28日改正、2014年7月1日施行）によって関連意匠制度を新たに導入した。
関連意匠は、類似意匠とは異なって独自の効力範囲を有し、基本意匠権が消滅しても消滅せず、独自の権利として存続する。ただし、存続期間は基本意匠の意匠権存続期間満了日となる。基本意匠権の存続期間は、意匠登録日より発生し、出願日から20年である。 -
2023.03.23
インドにおける商標異議申立制度インドでは、商標出願が商標公報に公告（公開）されてから4か月以内に、異議申立をすることができる。異議申立理由は、主として、絶対的拒絶理由および相対的拒絶理由が根拠とされる。出願人は、登録官から異議申立書を受領した日から2か月以内に、答弁書を提出しなければならない。出願人が2か月以内に答弁書を提出しない場合、異議対象の出願は放棄されたとみなされる。