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■ 全214件中、7180件目を表示しています。

  • 2016.06.14

    • アジア
    • 法令等
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    香港における商標権に基づく権利行使の留意点注目コンテンツ

    香港において、商標権に基づく権利行使として、商標条例に基づく商標権侵害訴訟およびコモンロー上の詐称通用訴訟を提起することにより、差止命令、損害賠償請求、不当利得の返還請求、引き渡し等の命令による救済が可能となっている。また、取引表示条例に基づく税関での取締りが可能であり、税関は違反者を逮捕し、模倣品および海賊版を押収し、更に商標権侵害に対する刑事訴追を行う権限を有している。

    本稿では、香港における商標権に基づく権利行使の留意点について、Emily Yip & Coの弁護士Emily Yipが解説している。

  • 2016.06.09

    • アフリカ
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    南アフリカにおける特許出願の補正の制限注目コンテンツ

    南アフリカ特許出願において、補正は、係属中の特許出願または付与された特許に対して行うことができる。しかし、特許の付与後に行われる補正には、より厳しい制限が課せられる。また、付与された特許に対する補正の申請は公告され、その後二ヶ月間が異議申立期間となる。したがって、出願が特許付与される前に明細書を補正することが望ましい。

  • 2016.06.07

    • アフリカ
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    マダガスカルにおける知的財産保護の現状注目コンテンツ

    マダガスカルにおける知的財産権の取扱いについては、産業財産権法に規定されている。この法律は、特許、商標、意匠、商号の保護、および不正競争について規定するものである。著作権については「著作権法」に規定されている。マダガスカルの特許制度、意匠制度、商標制度、著作権制度の概要を説明する。

  • 2016.06.07

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける登録特許の取消手続と特許出願に対する第三者情報提供について注目コンテンツ

    シンガポールでは、登録特許の取り消しを求める手続として、取消制度が設けられている。一方、シンガポール特許庁に係属中の特許出願に対する異議申立制度、特許付与後の異議申立制度、第三者情報提供制度は設けられていない。第三者は、係属中の特許出願に対して非公式の情報提供を行うことができるが、情報提供された資料を審査に採用するか否かはシンガポール特許庁の裁量に委ねられている。

  • 2016.06.06

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    ブルネイ商標制度概要注目コンテンツ

    ブルネイ・ダルサラームにおける商標保護は、1953年商標法に代わり2000年6月1日に施行された商標法(第98章)(「商標法」)および2000年商標規則(「商標規則」)に定められている。現在採用されているニース国際分類は1類から42類までを規定する第7版である。

  • 2016.06.01

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願の補正の制限注目コンテンツ

    シンガポール特許出願およびシンガポール特許に対する補正の時期的要件および実体的要件を説明する。特に、特許付与前と特許付与後における、補正の制限の違いを示す。その他、新規事項の追加に関する判断基準、補正に対する異議、等についても説明する。

  • 2016.05.31

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案

    インドにおける特許出願の補正の制限注目コンテンツ

    インドにおいて、特許出願書類の補正は、自発的な補正と非自発的な補正の2つに分類することができる。この2種の補正は特許出願後から特許が有効である間いつでも行うことができる。本稿では、インドにおける補正の制限について考察する。

  • 2016.05.27

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 商標

    ペルー商標制度概要注目コンテンツ

    ペルーにおける商標保護は、アンデス共同体決議第486号(産業財産に関する一般規定)およびアンデス共同体決議第486号の補足規定を承認する法令第1075号(産業財産法)の規定にしたがって付与される。ペルー特許庁に商標出願が提出された後、方式審査を経て、当該出願は異議申立のために公告される。公告日から30就業日以内に異議申立が提起されなければ、当該出願は絶対的拒絶理由および相対的拒絶理由に関して実体審査を受け、実体審査で受けた拒絶理由を全て克服した後に10年間にわたる登録が与えられる。

  • 2016.05.26

    • 中南米
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    メキシコ商標制度概要注目コンテンツ

    メキシコにおける商標制度は、1991年産業財産法(改正)およびその施行規則に準拠している。メキシコでは複数分類をカバーする出願は認められていない。匂い商標および音商標は、視認可能な標識とはみなされないため、メキシコでは保護を受けられない。現行の産業財産法は、異議申立制度を有していない。権利期間は出願日から10年間であり、10年毎に更新することができる。

  • 2016.05.19

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 商標

    台湾における異議申立制度注目コンテンツ

    審査の公平性を保つため、台湾も日本と同様に権利付与後異議申立制度を採用している。経済部知的財産局(以下、「知的財産局」が実体審査を行っていても、登録すべきでない商標が登録されてしまうこともあるため、商標異議申立制度が設けられている。異議申立は、適切な期間に適切な書面で、適切な官庁に対して手続を執らなければならない。