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■ 全72件中、6170件目を表示しています。

  • 2019.06.18

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標

    ミャンマーにおける新たな商標出願制度の概要

    ミャンマーにおいて、最近公開された新知的財産法案に基づく商標登録出願の手続は、主に出願、方式審査(第1の審査)、公開、異議申立て(第2の審査)、登録(拒絶)の手順で進められる。権利期間は出願の日から10年間存続し、10年毎に何度でも更新することができる。

  • 2019.06.13

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    インドにおける特許出願制度概要

    インドにおける特許出願制度での発明者・出願人の要件、所轄庁、出願に必要な書類、出願の流れ、審査、異議、審判等を紹介する。インド特有の制度として、国内実施報告制度があり、特許権者および実施権者は実施の状況を報告する義務があり、これを怠る、または虚偽の報告を行うと、処罰の対象となる。特許権の存続期間は出願日またはもっとも古い優先日から20年である。

  • 2019.06.13

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    インドにおける意匠出願制度概要

    インドにおける意匠出願制度での出願人の要件、所轄庁、出願に必要な書類、図面の要件、出願の流れ、審査、審判等を紹介する。インドの意匠権の存続期間は登録日から10年であるが、登録日とは優先日またはインド出願日の早い方とされる。また、追加手数料を支払うことで存続期間を5年延長できる。

  • 2018.10.25

    • アジア
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 商標

    韓国における商標出願制度概要

    (本記事は、2023/1/10に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27493/

    韓国の商標出願手続きは、主に出願、方式審査、実体審査、出願公告、登録査定の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に何度でも更新可能である。

  • 2016.06.02

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ペルーにおける特許法の概要

     ペルーでは、アンデス共同体内の共通法規である「アンデス共同体委員会決議第486号」(以下、決議第486号、と記載)が、ペルー国内の知的財産制度に適用されている。また、「工業所有権の共通制度を制定するアンデス共同体委員会決議486の補足規定を承認する法定命令第1075号」が、決議486号の補足規定として制定されている。
     以下、ペルーにおける特許法および特許審査の概要に関して説明する。

  • 2016.05.25

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    チリにおける特許法の概要

    (本記事は、2023/10/17に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37508/

    チリでは、特許出願がなされると、方式審査、実体審査を経て、新規性、進歩性、及び産業上利用可能性を有する発明に特許権が付与される。チリへの特許出願に際しては、スペイン語の明細書が必要である。
    以下、チリにおける特許法の概要について説明する。

  • 2016.03.11

    • アフリカ
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態について、エジプトの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。

  • 2016.01.05

    • アフリカ
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    南アフリカにおける知的財産権関連制度の運用実態

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(1)では、南アフリカにおける知的財産権関連制度の運用実態について、南アフリカの一般情報等、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)や運用実態上の課題・留意点・リスク、権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、出願統計等が紹介されている。

  • 2015.03.31

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける第一国出願制度

    (2022年4月28日訂正:
    本記事の「第34条申請様式」と「シンガポール知的財産権庁ウェブサイト(国家セキュリティクリアランス)」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。
    また、2022年5月4日からオンラインシステムがIP2SGからIP4SGに変更されます。)

    シンガポール特許法第34条に基づき、「シンガポールに居住する発明者または出願人は、(i)シンガポール国外で出願する2ヶ月以上前に、シンガポールにおいて特許出願すること、または(ii)シンガポール知的財産権庁(Intellectual Property Office of Singapore : IPOS)から書面による許可を取得すること」を満たさない限り、シンガポール国外で特許を出願できない。留意すべきは、特許法第34条は、発明が着想された場所とは無関係であり、(シンガポール国外で出願する、または出願させる人の)市民権も無関係である。あくまでシンガポールにおける「居住」が基準となる。

  • 2015.03.31

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    マレーシアにおける特許の第一国出願制度

    マレーシアでは、マレーシア特許法第23A条に基づき、出願人または発明者の中にマレーシア居住者が含まれる場合、原則として最初の出願がマレーシアにおいて行われるべきと規定されている。マレーシア国外で第一国出願を行う場合は、事前に書面による許可を得なければならない。この規定に違反する場合は罰金および拘禁を科される恐れがある。なお、マレーシアの「居住者」とは、恒久的にまたは相当の期間にわたりマレーシアで生活する個人または営業する事業体を指すものと考えられる。