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2019.11.07
日本とシンガポールにおける特許審査請求期限の比較（本記事は、2021/6/24、2020/4/30に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20283/（2021/6/24）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18538/（2020/4/30）日本における特許審査請求の請求期限は、日本出願日（優先権主張の有 無にかかわらず）から3年である。シンガポールにおける特許審査請求には4つのオプションがあり、それぞれ審査請求の期限が異なる。費用の支払いにより期限の延長も可能である。審査請求期限の起算日はいずれのオプションも出願日（優先権主張を伴う場合には優先日）である。
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2019.11.07
日本とシンガポールの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較（本記事は、2020/5/5に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18540/日本とシンガポールの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されている日本とは異なり、シンガポールにおいては、審査請求のオプションによって応答期間が異なり、シンガポール知的財産庁（IPOS）に審査を請求するオプションの場合は5か月、シンガポール知的財産庁に補充審査を請求するオプションの場合は3か月である。また、日本と異なり、シンガポールにおいては応答期間の延長ができない。
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2019.11.07
日本とシンガポールにおける特許出願書類・手続の比較日本で出願された特許出願を優先権の基礎としてシンガポールに特許出願する際に、必要となる出願書類および関連する法令についてまとめた。日本とシンガポールにおける特許出願について、出願書類と手続言語についての規定および優先権主張に関する手続を比較した。
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2019.10.17
シンガポールの庁指令に対する応答期間（2022年5月24日訂正：
本記事のソース「Examination Guidelines for Patent Applications at IPOS」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）シンガポールにおける特許出願の調査および審査の流れは、パリ条約に基づく出願または特許協力条約（PCT）に基づく国際出願の国内移行出願のいずれを選択するかにより大きく異なる。また、発行される庁指令および通知は、出願形式や、選択した調査および審査の種類により異なる。庁指令または通知に対する応答期間は、庁から発行される書面に記載されている。庁書面によっては、応答期間の延長が認められない場合もあり、そのような応答期間については、特に注意を払う必要がある。
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2019.10.17
シンガポールにおける特許審査迅速化の方法（本記事は、2023/2/14に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/33773/シンガポール特許出願、またはシンガポールに国内移行したPCT出願において、特許を早期に取得するためにはいくつかの方法がある。これらの方法について2014年2月14日に施行された改正特許法により導入された3種類の審査オプションに基づき説明する。
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2019.10.17
シンガポールにおける特許出願の補正の制限（2022年5月27日訂正：
本記事のソース「Examination Guidelines for Patent Applications at IPOS」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）シンガポール特許出願およびシンガポール特許に対する補正の時期的要件および実体的要件を説明する。特に、特許付与前と特許付与後における、補正の制限の違いを示す。その他、新規事項の追加に関する判断基準、補正に対する異議、等についても説明する。
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2019.10.15
シンガポールにおけるパリ条約ルートおよびPCTルートの特許出願の差異（2022年5月20日訂正：
本記事のソース「Examination Guidelines for Patent Applications at IPOS」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）シンガポールにおいては、2014年2月14日に施行された改正特許法により、パリ条約ルートおよびPCTルートの特許出願審査手続きの大部分が統一された。審査請求に関する重要な期限は両ルートとも同一である。しかしならが、両ルートの手続きには、依然として留意すべき差異が存在する。また、2017年10月30日付けで改正された特許法により、2020年1月1日以降の出願では、補充審査が利用できなくなることにも留意する必要がある。
なお詳細は以下のサイトを参照されたい。
https://www.jpo.go.jp/news/kokusai/sg/foreign_route.html -
2019.10.15
シンガポールにおける特許法改正の概要（2014年2月14日施行、2017年10月30日一部改正）シンガポールでは、改正特許法が2012年7月10日に成立し、2014年2月14日に施行された。同改正により、自己査定型の特許制度（self-assessment patent system）から肯定的結果に基づく付与制度（positive grant system）へシフトし、シンガポール知的財産局が発行する審査内容に関する報告書が肯定的な出願のみが特許を付与されることになった。その後、特許法および規則が2017年10月30日に改正（補充審査廃止）され、2020年1月1日以降の出願から補充審査の制度は利用できなくなる。
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2019.10.15
シンガポールにおける特許出願制度（2022年6月17日訂正：
本記事のソース「シンガポール知的財産局Eサービスポータル」が、異なるサイトにリンクしていたため、修正いたしました。）本稿ではシンガポールにおける特許出願制度について説明する。特に、シンガポールには2014年2月14日に施行された改正特許法において導入された独自の審査オプションが存在する。これらのオプションを踏まえた上で出願から登録までの流れを説明する。なお、補充審査に関連するオプションは、2020年1月1日以降の出願から廃止される。詳細は以下のサイトを参照されたい。
https://www.jpo.go.jp/news/kokusai/sg/foreign_route.html -
2019.10.10
日本とシンガポールにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較シンガポールにおける意匠出願の新規性喪失の例外規定の適用要件は、意匠法第8条及び第8A条に規定されている。2017年改正意匠法第6条の施行日（2017年10月30日）以降に生じた開示については、公開から12か月以内（従来は6か月）に出願することを条件として、新規性喪失の例外を主張することが可能である。日本における意匠出願の新規性喪失の例外期間は平成30年改正意匠法により延長され、公開から1年以内（従来は6か月）となった。