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■ 全142件中、5160件目を表示しています。

  • 2016.05.30

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ブルネイにおける特許出願審査の概要注目コンテンツ

    ブルネイ特許出願における実体審査(先行技術調査および審査)は4つのオプションがある。以下、それぞれの具体的なオプションおよび、実体審査の概要について説明する。

  • 2016.05.23

    • アジア
    • 法令等
    • 制度動向
    • その他

    台湾における公平交易法改正注目コンテンツ

    台湾では、「公平交易法」(日本の「不正競争防止法」および「独占禁止法」に相当。以下「公平法」)改正案が2015年1月22日に可決され、第10条および第11条条文が公布の30日後から施行されるのを除き、その他の条文は公布日(2015年2月4日)から施行された。今回の改正案は、「公平法」が1992年に施行されて以来、初めての全面的な法改正であり、事業者に大きな影響を与えるものである。

  • 2016.05.23

    • アジア
    • 法令等
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    香港における商号の保護注目コンテンツ

    香港において、商号は、会社または法人の名称または事業の名称となり得るが、会社登記にて会社の商号は会社登記所に登記され、商業登記にて事業名は税務局に登記される。商号もしくは事業名またはその一部を商標として登録することも可能であるが、香港における商標の登録は、商標条例(第559章)および商標規則(第559章)に従い、香港知的財産局(日本の特許庁に相当する)に対してのみ出願することができる。

  • 2016.04.15

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    南アフリカ商標制度概要注目コンテンツ

    南アフリカの商標法は、1993年法律第194号の商標法、施行規則およびコモンローにより規定されている。南アフリカでは、指定する分類ごとに別々の出願をする必要があり、絶対的拒絶理由および相対的拒絶理由の双方について審査される。審査後、異議申立の為に公告され、異議が無ければ登録証発行となる。商標出願が登録へ進むまでには、約24ヵ月を要している。

  • 2016.03.25

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    韓国におけるパリ条約ルートおよびPCTルートの特許出願の相違点注目コンテンツ

    韓国において外国人または外国法人が特許権を取得しようとする際には、韓国に直接特許出願する方法、外国での特許出願に基づいて韓国に特許出願する方法(「パリ条約ルートによる特許出願」)、PCT出願に基づいて韓国への国内段階移行手続を通じて特許出願する方法(「PCTルートによる特許出願」)が考えられる。韓国に直接特許出願する方法は、外国人または外国法人が主に利用する方法ではないため、以下、パリ条約ルートまたはPCTルートによる特許出願について、両特許出願ルートの相違点を説明する。

  • 2016.03.18

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    マレーシアにおける証明商標制度注目コンテンツ

    マレーシアにおける証明商標は、1976年商標法第56条XI部の規定に従い、マレーシア知的財産局(Intellectual Property Corporation of Malaysia : MyIPO)に登録することができる。証明商標の登録出願は、通常の商標の場合と同じ書式により提出されるが、出願人は、出願書(フォームTM5)において証明商標である旨を記載するとともに、案件説明書および商標使用管理運用規則案を添付しなければならない。証明商標の登録が認可されると、当該商標の登録要件および証明制度の種類および管理にかかる不備等を根拠とする第三者による異議申立のために公告される。

  • 2016.03.11

    • アフリカ
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態注目コンテンツ

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態について、エジプトの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。

  • 2016.03.04

    • オセアニア
    • その他参考情報
    • 商標

    オーストラリアにおける商標の調べ方注目コンテンツ

    「オーストラリア商標情報検索ミニガイド」(2015年2月、発明推進協会)では、オーストラリアにおける商標の調べ方について、IP オーストラリア(旧名称:オーストラリア知的財産庁)が無料で提供する商標データベース(Australian Trade Mark On-line Search System:ATMOSS)の検索方法が実際の画面を交えて紹介されている。また、補足として商標官報(Australian Official Journal of Trade Marks)であるオーストラリア商標オンラインジャーナルの参照方法も紹介されている。

  • 2016.02.26

    • アジア
    • 統計
    • その他参考情報
    • 商標

    インドネシアにおける商標関連番号フォーマット注目コンテンツ

    インドネシアにおける商標関連の公報等に用いられる出願番号フォーマットおよび登録番号フォーマットを紹介する。インドネシア知的財産権総局(Directorate General of Intellectual Property Rights : DGIPR)商標局が提供する登録商標データベースやWIPOが提供するGlobal Brand Databaseの出力例を紹介する。

  • 2016.02.12

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願制度注目コンテンツ

    本稿ではシンガポールにおける特許出願制度について説明する。特に、シンガポールには2014年2月14日に施行された改正特許法において導入された独自の審査オプションが存在する。これらのオプションを踏まえた上で出願から登録までの流れを説明する。