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■ 全109件中、5160件目を表示しています。

  • 2016.05.27

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 商標

    ペルー商標制度概要

    (本記事は、2025/1/23に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/40491/

    ペルーにおける商標保護は、アンデス共同体決議第486号(産業財産に関する一般規定)およびアンデス共同体決議第486号の補足規定を承認する法令第1075号(産業財産法)の規定にしたがって付与される。ペルー特許庁に商標出願が提出された後、方式審査を経て、当該出願は異議申立のために公告される。公告日から30就業日以内に異議申立が提起されなければ、当該出願は絶対的拒絶理由および相対的拒絶理由に関して実体審査を受け、実体審査で受けた拒絶理由を全て克服した後に10年間にわたる登録が与えられる。

  • 2016.05.26

    • 中南米
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    • 審判・訴訟実務
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    • 商標

    メキシコ商標制度概要

    (本記事は、2019/10/8に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17773/

    メキシコにおける商標制度は、1991年産業財産法(改正)およびその施行規則に準拠している。メキシコでは複数分類をカバーする出願は認められていない。匂い商標および音商標は、視認可能な標識とはみなされないため、メキシコでは保護を受けられない。現行の産業財産法は、異議申立制度を有していない。権利期間は出願日から10年間であり、10年毎に更新することができる。

  • 2016.04.18

    • 中東
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    • 商標

    トルコ商標制度概要

    (本記事は、2019/11/28に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17945/

    トルコでは、商標法において商標の保護が規定されており、「先使用主義」を採用している。
    トルコ特許庁への商標出願は、絶対的拒絶理由および相対的拒絶理由の審査が行われるが、出願公告後3ヵ月間の異議申立期間がある。異議申立がなされなかった場合は、出願日から約1年で登録される。登録の有効期間は10年であり、10年ごとに更新可能となっている。登録後5年間は、不使用取消請求または無効訴訟により、権利が消滅する場合がある。

  • 2016.04.15

    • アフリカ
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    • 商標

    南アフリカ商標制度概要

    (本記事は、2023/4/11に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/34164/

    南アフリカの商標法は、1993年法律第194号の商標法、施行規則およびコモンローにより規定されている。南アフリカでは、指定する分類ごとに別々の出願をする必要があり、絶対的拒絶理由および相対的拒絶理由の双方について審査される。審査後、異議申立の為に公告され、異議が無ければ登録証発行となる。商標出願が登録へ進むまでには、約24ヵ月を要している。

  • 2016.04.13

    • オセアニア
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    ニュージーランド商標制度概要

    (本記事は、2022/12/20に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/27357/

    ニュージーランドにおける商標保護は、2002年商標法および2003年商標規則の規定にしたがって保護される。また、ニュージーランドは「先使用主義」の国であるため、市場における商標の最初の使用者が、商標の真正な「所有者」または「所有権者」とみなされる。未登録商標の先使用者は、先使用を無視して第三者の出願がなされたとしても、当該出願の登録を阻止する、または既存の第三者の商標登録を取り消すことができる。

  • 2016.04.08

    • 中南米
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    メキシコにおける「商標の使用」と使用証拠

    (本記事は、2019/10/3に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17771/

    メキシコの産業財産法(商標法を含む)では、商標の使用は登録の要件ではない。したがって、メキシコにおいては、世界中のどこにおいても使用されていない商標であっても、登録可能である。しかし、出願日以前にメキシコで使用されている商標については、願書においてその使用開始日を記載することが重要である。願書を提出した後に使用開始日を追記することはできない。

  • 2016.04.01

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    • 商標
    • その他

    タンザニアにおける知的財産権関連制度の運用実態

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(6)では、タンザニアにおける知的財産権関連制度の運用実態について、タンザニアの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標・著作権)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制等が紹介されている。

  • 2016.03.22

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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    モロッコにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(4)では、モロッコにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.22

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(5)では、ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.18

    • アフリカ
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    • 審判・訴訟実務
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    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ケニアにおける知的財産権関連制度の運用実態

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(3)では、ケニアにおける知的財産権関連制度の運用実態について、ケニアの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。