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■ 全105件中、5160件目を表示しています。

  • 2016.04.13

    • オセアニア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • アーカイブ
    • 商標

    ニュージーランド商標制度概要

    (本記事は、2022/12/20に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/27357/

    ニュージーランドにおける商標保護は、2002年商標法および2003年商標規則の規定にしたがって保護される。また、ニュージーランドは「先使用主義」の国であるため、市場における商標の最初の使用者が、商標の真正な「所有者」または「所有権者」とみなされる。未登録商標の先使用者は、先使用を無視して第三者の出願がなされたとしても、当該出願の登録を阻止する、または既存の第三者の商標登録を取り消すことができる。

  • 2016.04.08

    • 中南米
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • アーカイブ
    • 商標

    メキシコにおける「商標の使用」と使用証拠

    (本記事は、2019/10/3に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17771/

    メキシコの産業財産法(商標法を含む)では、商標の使用は登録の要件ではない。したがって、メキシコにおいては、世界中のどこにおいても使用されていない商標であっても、登録可能である。しかし、出願日以前にメキシコで使用されている商標については、願書においてその使用開始日を記載することが重要である。願書を提出した後に使用開始日を追記することはできない。

  • 2016.04.01

    • アフリカ
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    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    タンザニアにおける知的財産権関連制度の運用実態

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(6)では、タンザニアにおける知的財産権関連制度の運用実態について、タンザニアの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標・著作権)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制等が紹介されている。

  • 2016.03.22

    • アフリカ
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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    モロッコにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(4)では、モロッコにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.22

    • アフリカ
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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(5)では、ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.18

    • アフリカ
    • 統計
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    • ライセンス・活用
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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ケニアにおける知的財産権関連制度の運用実態

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(3)では、ケニアにおける知的財産権関連制度の運用実態について、ケニアの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。

  • 2016.03.15

    • アフリカ
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    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 意匠

    モロッコにおける意匠制度概要と権利行使

    「モロッコにおける知的財産権利行使マニュアル」(2015年1月、日本貿易振興機構 デュッセルドルフ事務所)5では、モロッコにおける意匠制度について、工業意匠にかかる法規則、工業意匠出願手続きの概要、工業意匠権侵害に対する訴訟手続きの概要等が説明されているとともに、工業意匠権侵害訴訟の事例研究も紹介されている。また、付属書として、工業意匠出願の願書様式(様式D1)も紹介されている。

  • 2016.03.15

    • アジア
    • 法令等
    • 制度動向
    • 特許・実用新案
    • 商標

    インドネシアにおける商標法および特許法の改正動向

    インドネシアでは、2008年に商標法改正案が、2012年に特許法改正案が公表され、それぞれ政府による改正作業が続けられている。公表された商標法改正案には、出願手続や更新手続の改正や保護対象の拡大などが盛り込まれ、特許法改正案には、電子出願の導入や、簡易特許(日本における「実用新案」に相当。)の定義の改正(組成物の追加)、強制実施権の付与などが盛り込まれている。公表された改正案に対する修正等については明らかにされておらず、最終的にどのような改正が行われるのか、引き続き注視が必要である。

  • 2016.03.15

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    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    ケニアにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(3)では、ケニアにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、実用新案、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.08

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    エジプトにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、実用新案、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。