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■ 全151件中、5160件目を表示しています。

  • 2016.06.07

    • アフリカ
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    マダガスカルにおける知的財産保護の現状

    マダガスカルにおける知的財産権の取扱いについては、産業財産権法に規定されている。この法律は、特許、商標、意匠、商号の保護、および不正競争について規定するものである。著作権については「著作権法」に規定されている。マダガスカルの特許制度、意匠制度、商標制度、著作権制度の概要を説明する。

  • 2016.05.12

    • 欧州
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ロシア分割出願における留意点

    ロシアでは、分割出願に関する制約は非常に少なく、親出願(原出願)が係属している限り、自発的に分割出願を提出することができる。出願が拒絶された場合、拒絶査定に対する不服申立ではなく、分割出願を行う方が出願人にとってクレームの自由度は高い。また、分割出願に対してさらに分割出願を行うことで、広い権利範囲のクレームを長期にわたって狙うことができるため、有用な戦略となり得る。

  • 2016.03.29

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    タンザニアにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(6)では、タンザニアにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.25

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    韓国におけるパリ条約ルートおよびPCTルートの特許出願の相違点

    韓国において外国人または外国法人が特許権を取得しようとする際には、韓国に直接特許出願する方法、外国での特許出願に基づいて韓国に特許出願する方法(「パリ条約ルートによる特許出願」)、PCT出願に基づいて韓国への国内段階移行手続を通じて特許出願する方法(「PCTルートによる特許出願」)が考えられる。韓国に直接特許出願する方法は、外国人または外国法人が主に利用する方法ではないため、以下、パリ条約ルートまたはPCTルートによる特許出願について、両特許出願ルートの相違点を説明する。

  • 2016.03.22

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    モロッコにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(4)では、モロッコにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.22

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(5)では、ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.15

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    ケニアにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(3)では、ケニアにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、実用新案、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.15

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    マレーシアにおける意匠の分割出願

    マレーシアにおける意匠の分割出願は、マレーシア工業意匠法(日本における意匠法に相当。) 第19条に基づく意匠の補正請求が認められ、かつ、当該補正請求が原出願の1つまたは2つ以上の意匠を排除する効果を有する場合にのみ認められる。また分割出願は、原出願の登録前に請求されなければならず、原出願に開示されていない事項を含めてその範囲を拡大することはできない。

  • 2016.03.08

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    エジプトにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、実用新案、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.02.19

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • その他

    中国における医薬品等の特許権の延長登録制度と関連制度

    「医薬品等の特許権の存続期間の延長登録制度及びその運用の在り方に関する調査研究報告書」(平成27年2月、知的財産研究所)Ⅳ-5では、特許権の延長制度が導入されていない中国における賛成説や反対説等の議論、ジェネリック医薬品の参入に関する近年の判決、医薬品の販売承認の手続き、パテントリンケージ、試験研究のための実施行為に関する特許権侵害の免責規定等について紹介されている。また、中国関係機関や代理人事務所に対する質問事項と回答も掲載されている。