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2017.07.04
ロシアにおける商標制度および原産地（地理的）表示の保護「模倣対策マニュアル ロシア編」（2016年3月、日本貿易振興機構）第1章第3節では、ロシアにおける商標制度について、制度の概要、出願人適格、登録要件、出願手続と審判、商標権の内容、商標および商品または役務の類似性に関する基準、商標の「使用」の定義、周知商標、ユーラシア経済連合の商標登録出願統一窓口等について、同第4節ではロシアにおける原産地（地理的）表示の保護についてそれぞれ説明されている。
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2017.07.04
ロシアにおける特許制度「模倣対策マニュアル ロシア編」（2016年3月、日本貿易振興機構）第1章第1節(1)では、ロシアにおける特許制度について、制度の概要、統計データ、出願人適格、特許性要件、出願から登録までの流れ、異議申立、特許権の内容、審判手続、審決に対する裁判所への不服手続、政府の特許手数料、特許付与の公告等が説明されている。
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2017.06.22
シンガポールにおける意匠の公開延期請求についてシンガポールにおいては、意匠は、登録意匠法または著作権法によって保護される。意匠を登録意匠法により保護するために出願すると、その意匠は登録により公開されるが、出願日から18か月間にわたって登録意匠の公開を延期するよう請求することが可能である。また意匠を美術著作物として著作権法で保護する場合、当該意匠が産業利用されない限り、これを秘密に保つことができる。
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2016.06.30
ペルー意匠制度概要ペルー意匠出願の新規性要件について説明し、その他出願実務の留意点として優先権主張、保護期間、異議申立、そして権利消尽について手短に論じる
本稿では、ペルー意匠制度概要について、Fernández-Dávila & Bueno Law Firmの弁理士Liz León Cabezudo氏が解説している。
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2016.06.29
エジプトにおける営業秘密保護に関する法規概要および運用実態エジプトはTRIPS協定に基づいて営業秘密（非公開情報）の保護を図っている。具体的には、エジプト知的財産権法で保護対象や保護要件などを定めている。営業秘密の侵害行為に対しては、知的財産法以外にも、民法、商標に基づく損害賠償等の救済を求めることが可能である。
本稿では、エジプトにおける営業秘密保護に関する法規概要および運用実態について、Maddock & Bright IP Law Officeのパートナー弁護士Abdelwahab Moustafa氏が解説している。
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2016.06.20
湾岸協力会議特許庁における特許権取得に関する制度概要「湾岸協力会議特許庁における特許権取得に関する制度概要調査」（2016 年6 月、日本貿易振興機構ドバイ事務所）では、湾岸協力会議（GCC）特許制度について解説している。具体的には出願･登録統計や特許の対象、出願の手順や注意点、審査等について、フローチャートや料金表とともに説明されている。
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2016.06.13
中国の知的財産権訴訟の現状 － 知的財産権白書の分析近年、中国では、国家知的財産権戦略の実施に伴い、知的財産権の司法保護が顕著に強化されている。それに伴い、知的財産関連訴訟もますます増加の傾向をたどっている様子が2015年4月20日に中国最高人民法院が発行した「中国法院知的財産権司法保護状況（2014年）」（知的財産権白書）からも明らかである。
本稿では、2015年4月20日に中国最高人民法院により発行された白書「中国法院知的財産権司法保護状況（2014年）」の内容を踏まえ、中国の知的財産権訴訟の現状について、康信国際特許事務所（Kangxin Partners, P.C.）の呉孟秋氏、李慧氏が解説する。
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2016.06.08
ニュージーランドにおける分割出願に関する留意事項ニュージーランドにおける分割出願の形式的および実体的要件について説明する。ニュージーランドでは2013年に特許法が改正された。本稿では、この改正された特許法が適用される分割出願と、改正前の特許法が適用される分割出願について説明する。
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2016.06.01
フィリピンにおける分割出願に関する留意点フィリピンでは、出願人は、自発的にまたは庁指令に応じて分割出願を行うことができる。分割出願の時期的要件および実体的要件を説明する。また、分割出願の審査請求期限、分割出願からの分割出願の可否、親出願との二重特許についても説明する。
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2016.04.28
メキシコにおける特許の分割出願についての留意点メキシコにおける特許の分割出願の形式的要件および実体的要件について紹介する。また、分割出願の審査および公開についても説明する。