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■ 全67件中、5160件目を表示しています。

  • 2014.09.19

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    台湾における意匠の表現に関する制度・運用

    「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部では、台湾における意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、台湾の意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠の表現例等について、海外アンケートと海外ヒアリングの結果と共に紹介されている。

  • 2014.08.26

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    中国における意匠の表現に関する制度・運用

    各国における意匠の表現に関する調査研究報告書(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部、第IV部では、中国における意匠の開示方法や意匠の表現に関する願書記載事項に加え、中国における意匠制度全般、意匠の保護客体、意匠の補正等の考え方、意匠の単一性の考え方、意匠権の効力範囲、判例等について紹介されている。

  • 2014.08.22

    • 欧州
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    ロシアにおける意匠の表現に関する制度・運用

    ロシアにおいて、意匠の表現は、図面のほか写真若しくはCGによる特定が可能である。図面について必要最小図面数の限定や提出可能図面数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する図面、即ち斜視図、正面図、背面図、上面図、底面図、左側面図、右側面図を提出しなければならない。提出図面の大きさはA4サイズという制約があり、拡大図の提出も可能である。写真についても必要最小写真数の限定や提出可能写真数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する写真の提出が求められており、写真は鮮明なものである必要がある(白黒/カラーいずれでも良い)。CGによる意匠の特定は静止状態のもののみ認められる(他の条件は写真と同様)。

  • 2014.08.19

    • 中南米
    • 出願実務
    • 意匠

    ブラジルにおける意匠の表現に関する制度・運用

    ブラジルでは、三次元の意匠は六面図及び斜視図で表す(二次元であって裏面が無模様のものは、裏面の図は省略可)。図法に制約はないが、原則として点線の記載は認められない。陰線や引き込み線等についての規定はない。白黒写真及びカラー写真が認められ、写真に異なる色彩を付すことも可能である。CG(computer graphics)については、静止画のみが認められ、白黒及びカラーのいずれの画像も出願することができる。白黒の図面又は写真の場合、対応する着色の範囲を表示する。なお、参考図面は認められない。

  • 2014.05.02

    • 欧州
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • その他

    ロシアにおけるコンピュータプログラムの保護

    ロシアでは、コンピュータプログラムそのものは、著作権の保護対象であるが、特許の保護対象ではない。従って、コンピュータプログラムに関する発明に係る特許出願をする場合は、プログラムクレームではなく、装置クレーム、方法クレーム、又は記録媒体(コンピュータプログラムを格納した記録媒体)クレームを作成する必要がある。

  • 2014.03.28

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 商標

    台湾における商標法の紹介

    「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)一、(一)2.では、台湾商標法に関し、保護対象となる商標、登録要件、出願手続、更新手続、手数料等について、表やフローチャート等を用いて詳細に説明されている。六には、添付資料として手数料表や委任状のフォーム等が掲載されている。

  • 2014.02.25

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • その他

    韓国における産業技術の流出防止

    (本記事は、2020/2/20に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18307/

    「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II編第8章では、韓国の産業技術の流出防止及び保護に関する法律が紹介されている。同法律は、国家安保に直接的な影響を及ぼす国家核心技術の海外流出を規制し、国内核心技術を保護し、国家産業競争力を強化し、国家の安全と国民経済の安定を保障するためのものである。「韓国進出のための知的財産経営マニュアル」(2012年3月、日本貿易振興機構)第III編第3章では、技術流出防止に関連した人的資源管理等の実務的な内容等が紹介されている。

  • 2013.12.13

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • その他

    中国における著作権の取得

    「模倣対策マニュアル 中国編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第2章第3節では、中国における著作権の取得について、具体的には、著作権の保護対象、成立要件、著作者の権利内容、保護期間等について、フローチャートや表を用いて説明されている。中国の著作権も著作物の完成により登録することなく発生するが、著作物自由登録制度やコンピュータソフトウエア著作権登録制度があり、登録により一層の権益の保障を受けることができる。

  • 2013.12.10

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    中国における商標権の取得

    「模倣対策マニュアル 中国編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第2章第2節では、中国における商標権の取得について説明されている。具体的には、商標権の保護対象、登録要件、登録手続、拒絶通知を受けた場合の対応(不服審判請求)、異議申立制度、無効審判請求、不使用取消請求、馳名商標と著名商標の認定ルートと相違点等について、フローチャートや表を用いて記載されている。

  • 2013.12.06

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    中国における専利権の取得

    「模倣対策マニュアル 中国編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第2章第1節では、中国における専利(特許・実用新案・意匠)権の取得について説明されている。具体的には、専利権の保護対象、登録要件、出願手続、拒絶査定を受けた場合の対応(不服審判請求)、無効審判請求、審決取消訴訟、特実併願等について、フローチャートや表を用いて説明されている。