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■ 全89件中、4150件目を表示しています。

  • 2016.02.09

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部1では、シンガポールにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    マレーシアにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部6では、マレーシアにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.02

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標

    中国改正商標法について留意すべき点注目コンテンツ

    「中国・改正商標法マニュアル」(2015年3月、日本貿易振興機構 進出企業支援・知的財産部 知的財産課)四では、中国における第三次商標法改正による変化に伴う留意すべき点について、具体的には、音声商標の導入や商標登録更新期間の変更、商標権譲渡手続きの変化等の申請案件の変化に伴う留意点、審査・審理期限の明文化や未登録商標に対する保護の強化、懲罰的賠償制度の導入等の商標権利保護に関する変化に伴う留意点等について紹介されている。

  • 2016.02.02

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部2では、インドネシアにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.01.29

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ベトナムにおける特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部4では、ベトナムにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.01.22

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    中国改正商標法と現行制度の審査業務フローの比較および改正後の法執行の概要注目コンテンツ

    「中国・改正商標法マニュアル」(2015年3月、日本貿易振興機構 進出企業支援・知的財産部 知的財産課)二では、中国における商標法の改正前と改正後の商標出願フローの比較と、補正手続きの変化や分割出願の追加、異議申立手続きの変化等の法改正による主な変化についての説明が、三では、商標法改正後の法執行の変化と法執行の最近の傾向について、それぞれ紹介されている。

  • 2016.01.19

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    台湾における特許審査基準関連資料注目コンテンツ

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部7では、台湾における特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.01.12

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 商標

    中国改正商標法及び実施条例の主な改正点注目コンテンツ

    「中国・改正商標法マニュアル」(2015年3月、日本貿易振興機構 進出企業支援・知的財産部 知的財産課)一の1では、中国において2014年5月1日より施行された改正商標法について、一の2ではこれに伴い改正、施行された商標法実施条例について、主な改正点が詳細に紹介されている。また、参考資料として、改正商標法の条文の和訳・対照表、商標法実施条例の全文和訳も掲載されている。

  • 2016.01.08

    • オセアニア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    オーストラリアにおける特許の審査基準・審査マニュアル注目コンテンツ

    「各国における特許の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書」(平成26年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅱ部7では、オーストラリアにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2015.11.20

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本と香港における特許分割出願に関する時期的要件の比較注目コンテンツ

    日本においては、所定の期間、特許出願について分割出願を行うことができる。香港における標準特許出願は、香港特許庁に直接出願するものでなく、指定特許庁に出願された特許出願(指定特許出願)に基づき香港特許庁へ記録請求手続きをするものである。したがって、香港の標準特許出願については直接分割出願を行うことはできないが、標準特許出願に対応する指定特許出願が指定特許庁で分割された場合に、所定の期間、その分割された指定特許出願を香港特許庁に記録請求することができる。