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2021.06.29
シンガポールにおける英語以外の言語を含む商標の出願シンガポールにおいて、日本語で使われる文字（ひらがな、カタカナ、漢字）等、ローマ字以外の文字や英語以外の言語より構成される、またはこれらを含む商標の出願を行う場合、願書に当該文字、言語の英語翻訳等を記載する必要がある。
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2021.06.10
台湾における特許制度のまとめ－実体編台湾における特許制度の運用について、その実態面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2021.06.08
台湾における商標制度のまとめ－実体編台湾における商標制度の運用について、その実態面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2021.06.01
韓国における特許制度のまとめ－実体編韓国における特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2021.05.25
中国における商標の「識別力」「識別力」は商標登録の要件の一つであり、通常、識別力を有しない標章は、商標として登録できない。ただし、使用により識別力を有するに至った商標はこの限りではない。商標の識別力の有無を判断する際は、商標の標章自体（観念、称呼および外観の構成）、商標の指定商品、指定商品の関連公衆の認知習慣、指定商品の所属業界の実際の使用状況などを総合的に考慮しなければならない（審査基準第2部分）。
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2021.05.18
中国における特許制度のまとめ－実体編（本記事は、2023/9/26に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37360/中国における特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2020.12.22
ロシアにおける特許および実用新案登録を受けることができる発明とできない発明ロシアにおいて、特許および実用新案の保護については、ロシア民法典第4部の第72章に規定されており、不特許事由に該当する客体は、A. 特許を受けることができない客体、B. 発明に該当しない客体、C. 発明として保護しない客体、の3つのカテゴリーに分けて示されている。
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2020.12.15
マレーシアにおける画像意匠の保護制度マレーシアにおいて、画像意匠（Graphical User Interface：GUI）は主に意匠法（Industrial Designs Act 1996：IDA）によって保護される。また、一定の要件を満たす場合、知的財産関連法や民法またはそれらの組み合わせによっても権利が保護される可能性がある。
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2020.09.22
メキシコにおける産業財産法改正に関する解説（商標の規定の改正）メキシコでは2018年5月18日に産業財産法改正案が公表され、同8月10日より施行された。主な改正内容は商標に関して、新しいタイプの商標の導入、団体商標に関する規定の拡大、証明商標の導入、商標登録更新時の使用宣誓、不誠実登録商標の無効化等である。
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2020.09.22
メキシコにおける特許出願制度概要メキシコでは、産業財産法に基づき、発明を特許制度によって保護することができる。メキシコの特許出願制度について、産業財産権法の関連条文や方式審査での手続を中心に説明する。