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2022.05.10
香港における商標制度のまとめ－実体編（2025年4月18日訂正：
本記事のソース「分類に関する実務マニュアル（Classification）」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。また、第1-3項に記載の関連記事「香港における『商標の使用』と使用証拠」の公開日およびURLを更新いたしました。）香港における商標登録プロセスは、「商標条例 第559章」および「商標規則 第559A章」により規定されている。本稿では、実体審査に関連する香港の商標制度を紹介する。
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2022.04.28
フィリピンにおける商標制度のまとめ－実体編フィリピンの商標制度は、フィリピン知的財産法（2013年法律第10372号により改正された法律第8293号2013年3月4日施行2015年版）、フィリピン知的財産施行規則（特許・実用新案・意匠に関する施行規則2017年8月1日施行）、フィリピン商標規則（商標、サービスマーク、商号およびマーキングされた容器に関する規則2017年7月7日版）によって規定されている。
本稿では、フィリピンにおける商標制度の特徴と実体面について、関連記事とともに紹介する。 -
2022.04.28
フィリピンにおける特許制度のまとめ－実体編フィリピンの特許付与プロセスは、フィリピン知的財産法（2013年法律第10372号により改正された法律第8293号2013年3月4日施行2015年版）、フィリピン知的財産施行規則（特許・実用新案・意匠に関する施行規則2017年8月1日施行）、フィリピン発明に関する規則（2008年改正Duly noted by the Philippine Embassy Tokyo）によって規定されている。
本稿では、フィリピンにおける特許制度の実体面について紹介する。 -
2022.04.21
韓国におけるデザイン審査基準韓国のデザイン審査基準は、2014年6月に全面改正された後、毎年部分的に改正されてきたが、2021年10月20日付で全面改正（特許庁例規第122号）された。本稿では、同審査基準の主要な改正内容について紹介する。
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2022.04.07
インドネシアにおける商標制度のまとめ－実体編インドネシアにおける商標登録プロセスは、「雇用創出法第11/2020号によって改正された商標法第20/2016号（商標法）」、および「法務人権大臣規則第12/2021号により改正された商標登録に関する法務人権大臣規則第67/2016号（商標規則）」により規定されている。実体審査に関連するインドネシアの商標制度を以下に紹介する。
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2022.04.07
香港における特許制度のまとめ－実体編香港では、特許関連事項は、特許条例（Cap.514）（「特許条例」）および特許（一般）規則（Cap.514C）（「特許規則」）によって規定されている。
香港における特許制度の実体面について、以下に紹介する。 -
2022.02.01
インドネシアにおける特許制度のまとめ－実体編インドネシアの特許付与プロセスは、特許法2016年（雇用創出法2020年第11号により改正された特許法2016年第13号）と、特許規則2018年（特許出願に関する法務人権大臣規則2021年第13号により改正された特許規則2018年第38号）によって規定されている。
インドネシアにおける特許制度の実体面について、以下に紹介する。 -
2022.02.01
タイにおける特許審査基準（2019年版）についてタイ知的財産局ウェブサイト上に2019年6月に2019年版「発明特許出願および小特許出願の審査マニュアル」が公開された。2012年版審査基準から約７年ぶりに改訂された。本稿では、同審査マニュアルの概要および日本の実務との違いによるタイの実務上留意すべき点を説明する。
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2021.12.28
台湾における発明の単一性の判断に関する審査基準の改定台湾における発明の単一性の判断に関する審査基準は、2013年の改定後、2019年および2021年に2度改定されており、特に2019年改定は、大幅な改定であった。本稿では、それぞれの改定について、主にその概要、および改定に伴う出願対策や戦略などの変更について紹介する。
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2021.09.21
台湾における意匠保護の戦略「台湾模倣対策マニュアル（台湾における意匠保護の戦略）」（2019年3月、日本台湾交流協会）では、台湾における意匠の保護（出願から権利化）から活用について、より実務的な視点で調査した内容を紹介している。また、2013年に導入された部分意匠、画像意匠、関連意匠および組物意匠等の新しい意匠制度を反映させ、商標の保護の可能性を含め権利化の実務や警告を受領した場合や模倣品の対処法についても解説している。