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2020.04.09
ベトナムにおける特許規則の改正ベトナムにおいて科学技術省通達01/2007/TT-BKHCNを改正する通達16/2016/TT-BKHCN（以下「2016通達」）が2018年１月15日付で発効した。2016通達では、約50か所にのぼる科学技術省通達01/2007/TT-BKHCNの条文改正を行っている。本稿では特許に関する内容を抜粋して紹介する。
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2020.04.09
ベトナムにおける意匠規則の改正ベトナムにおいて、科学技術省通達01/2007/TT-BKHCNを改正する通達16/2016/TT-BKHCN（以下「2016通達」）が2018年１月15日付で発効した。科学技術省通達01/2007/TT-BKHCNは、ベトナムの知的財産法の施行に関する詳細を定める政府決議103/2006/NĐ-CPよりも下位の法規範文書に該当し、細則を定めている。科学技術省通達01/2007/TT-BKHCNは2010年、2011年、2013年に過去3回改正されており、2016通達は4回目の改正である。本稿では意匠に関わる内容を抜粋して紹介する。
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2020.03.31
マレーシアにおける特許出願の審査手続（本記事は、2023/2/21に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/33909/マレーシアにおける特許出願では、出願日の確定、方式審査（予備審査）、実体審査の順に手続が進むが、実体審査を受けるには、実体審査請求の手続を行わなければならない。同一の発明につき、オーストラリア、英国、米国、日本もしくは韓国における特許権、または、欧州特許を既に取得している場合には、実体審査に代えて修正実体審査請求を行うこともできる。
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2019.12.10
日本とインドネシアにおける特許分割出願に関する時期的要件の比較日本およびインドネシアにおいては、それぞれ所定の期間、特許出願について分割出願を行うことができる。インドネシアにおいては、（特許または拒絶）査定の発行までは、いつでも分割出願を行うことができる。
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2019.12.10
日本とインドネシアの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較日本とインドネシアの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、日本では60日（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されているが、インドネシアでは3か月の応答期間が与えられる。また、応答期間の延長について、日本では2か月（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）、インドネシアでは通常3か月まで延長可能である。
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2019.11.07
日本とシンガポールの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較（本記事は、2020/5/5に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18540/日本とシンガポールの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されている日本とは異なり、シンガポールにおいては、審査請求のオプションによって応答期間が異なり、シンガポール知的財産庁（IPOS）に審査を請求するオプションの場合は5か月、シンガポール知的財産庁に補充審査を請求するオプションの場合は3か月である。また、日本と異なり、シンガポールにおいては応答期間の延長ができない。
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2019.10.31
日本とインドの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較（本記事は、2023/10/26に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37601/日本とインドの実体審査では、拒絶理由通知への応答に関する規定が異なっている。具体的には、応答期間が定まっている日本とは異なり、インドでは最初の拒絶理由通知書への応答期間は定められないが、代わりに特許付与のために整備する期間（拒絶理由解消期間）が定められる。そして、拒絶理由解消期間を過ぎると、その特許出願は放棄されたものとみなされる。
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2019.10.15
シンガポールにおける特許出願制度（2024年6月13日訂正：
本記事のソース「シンガポール司法長官室」が、異なるサイトにリンクしていたため、修正いたしました。）（2022年6月17日訂正：
本記事のソース「シンガポール知的財産局Eサービスポータル」が、異なるサイトにリンクしていたため、修正いたしました。）本稿ではシンガポールにおける特許出願制度について説明する。特に、シンガポールには2014年2月14日に施行された改正特許法において導入された独自の審査オプションが存在する。これらのオプションを踏まえた上で出願から登録までの流れを説明する。なお、補充審査に関連するオプションは、2020年1月1日以降の出願から廃止される。詳細は以下のサイトを参照されたい。
https://www.jpo.go.jp/news/kokusai/sg/foreign_route.html -
2019.10.08
メキシコ商標制度概要（本記事は、2023/10/10に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37422/メキシコにおける商標制度は、1991年産業財産法（改正）およびその施行規則に準拠している。
メキシコ議会において、2018年3月に商標に関する産業財産法の改正法案が可決され、2018年5月18日付で改正法が官報に公示された。改正法は、官報に公示されてから60営業日目である2018年8月10日に発効した。これが過去25年間のメキシコの商標法にとって最も重要な改正であるといえる。
改正法によって、音の商標、匂いの商標、ホログラム等の非伝統的商標およびトレードドレスが、商標の定義に追加された。また、異議申立制度も改正された。
権利期間は出願日から10年であり、10年ごとに更新することができる。 -
2019.10.08
日本と中国の特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較（本記事は、2023/9/21に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37344/日本と中国の特許の実体審査においては拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、日本では実体審査において60日（在外者でない場合）または3月（在外者の場合）の応答期間が設定されているのに対し、中国の実体審査においては最初の拒絶理由通知書であるか再度の（2回目以降の）拒絶理由通知書であるかにより応答期間が異なる。また、日本と中国とでは、延長可能な応答期間の長さが異なる。