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■ 全426件中、4150件目を表示しています。

  • 2018.12.11

    • 欧州
    • ライセンス・活用
    • 商標

    ロシアにおける商標ライセンスの付与方法

    「ロシア・ライセンスマニュアル」(2018年3月、日本貿易振興機構知的財産課モスクワ事務所)「4」では、ロシアにおける商標ライセンスの付与方法について紹介している。具体的には、「4.1」で、商標ライセンスの概念、主題、分類について紹介している。「4.2」では、商標ライセンス契約に不可欠な条件、契約書の形式、有効期間、登録、ライセンサーおよびライセンシーの義務、ライセンス契約に基づく報告、訴訟におけるライセンシーの地位、および、ライセンス契約に及ぼす譲渡の効果について、関連する法規と合わせて紹介している。「4.3」では、商標ロイヤルティの計算方法、「4.4」では、商標ライセンスのケース・スタディ、「4.5」では、商標ライセンス契約(フランチャイズ契約を含む)の主要条項や留意事項が紹介されている。

  • 2018.11.22

    • アジア
    • 統計
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    インドネシアにおける知的財産権侵害行為に対する法的救済

    「模倣対策マニュアル インドネシア編」(2018年3月、日本貿易振興機構知的財産・イノベーション部知的財産課シンガポール事務所知的財産部)第2章では、知的財産権侵害行為に対する法的救済について紹介している。具体的には、第1節から第4節において、模倣品・海賊版の摘発件数等の実情、日本企業が直面する模倣品被害の状況、知的財産権行使の制度の概要、および、民事訴訟の件数や手続きの流れについて紹介している。第5節では、刑事的対抗手段に関する情報として、刑罰一覧、所管警察組織、刑事告発に必要な書類や手続きの流れ、第6節では、行政的救済手段として、税関による国境措置やウェブサイト閉鎖に関する制度や差止までの流れなどが紹介されている。

  • 2018.11.22

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    インドネシアにおける商標権の取得

    「模倣対策マニュアル インドネシア編」(2018年3月、日本貿易振興機構知的財産・イノベーション部知的財産課シンガポール事務所知的財産部)第1章第4節では、商標権の取得に関する情報が紹介されている。具体的には、商標法の概要、出願から登録までの手続き、出願・登録件数等の統計、商標権の効力、商標審判制度の概要、出願費用、公開情報検索の方法、登録取消訴訟の概要や統計について紹介されている。

  • 2018.11.15

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • 商標

    台湾における第三者より警告書や侵害訴訟を提訴された場合の対処

    「台湾模倣対策マニュアル(台湾における商標保護の戦略)」(2018年3月、日本台湾交流協会)第七章では、第三者より警告書や侵害訴訟を提訴された場合の対処として、警告書の送付者が権利侵害を主張できる権利者か、その権利範囲はどこまでかを確認すること、権利侵害被疑者と警告書送付者の関係を確認すること、和解も選択肢のひとつであること、係争商標に対して無効審判、取消審判の提起を検討すること、および、訴訟になった場合に抗弁できる事由が紹介されている。

  • 2018.10.30

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    韓国における秘密意匠制度

    秘密意匠(韓国語「秘密デザイン」)制度は、意匠権の設定登録日から3年以内の期間を定めて、登録意匠の内容を意匠公報等に公告せずに秘密の状態を維持する制度をいう(意匠法(韓国語「デザイン保護法」第43条)。意匠は物品の外的美観であるため、他人による模倣および盗用が容易であり、また、流行性が強いという特徴もあるので、秘密意匠制度を活用することによって、意匠権を取得しながら、製品の発売前に他人による模倣等を防ぐことができるというのは、大きなメリットである。この制度を利用するためには、秘密意匠の請求時期等に注意しなければならない。

  • 2018.10.25

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    韓国における商標出願制度概要

    韓国の商標出願手続きは、主に出願、方式審査、実体審査、出願公告、登録査定の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に何度でも更新可能である。

  • 2018.10.09

    • アジア
    • 法令等
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案

    台湾司法実務における均等論についての規定および適用

    均等論は、特許権侵害を判断する上で重要な役割を果たす。均等論の適用に関する最新の重要な規定は、2016年2月に台湾知的財産局(TIPO)により新しく発表された「専利侵害判断要点」に示されている。そこでは、米国における理論および実務である、オール・エレメント・ルール、非実質的相違テスト、三要素テスト(機能-方法-結果テスト)、先行技術の制限効果、および出願経過禁反言などが採用されている。

  • 2018.10.04

    • 中東
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    サウジアラビアにおける商標の使用と使用証拠

    サウジアラビアにおいて、商標出願人または商標権者が、出願、登録または更新の時点で、商標の使用または使用意思を証明しなければならないという規定はない。ただし、5年以上にわたり登録商標が使用されていない場合、当該登録商標は、不使用を理由とする第三者の取消請求により取消されるおそれがある。不使用取消請求は、裁判所に提起しなければならず、不使用であることの立証責任は原告側が負う。

  • 2018.10.03

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    タイの意匠特許における機能性および視認性

    タイ国特許法では機能的意匠の保護について言及していないが、最高裁判所では機能的意匠の保護について否定的な判決を出している。また視認性のない意匠については登録することはできない。機能的意匠と視認性のない意匠について、それぞれ最高裁判所の判決を例に挙げながら説明する。

  • 2018.09.27

    • アジア
    • 法令等
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案

    韓国司法実務における均等論についての規定および適用

    韓国では、2000年の大法院判決で初めて、5要件を満たす場合に均等侵害を認めて以来、様々な判決を通じて均等侵害法理が発展してきた。そして、比較的最近の大法院2014.7.24言渡2012フ1132判決は、第1要件の「課題の解決原理が同一」要件に関し、既存の「本質的部分」という表現の代わりに「特許発明に特有の解決手段の基礎となる技術指導の核心」かどうか、という判断準則を導入した。これにより、韓国大法院判決は、外見上日本の判例とは異なる原則を有するものと見えるかも知れないが、日本知的財産高等裁判所判決を分析してみると、各見解に実質的な差はないものと理解できる。