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2016.06.07
マダガスカルにおける知的財産保護の現状マダガスカルにおける知的財産権の取扱いについては、産業財産権法に規定されている。この法律は、特許、商標、意匠、商号の保護、および不正競争について規定するものである。著作権については「著作権法」に規定されている。マダガスカルの特許制度、意匠制度、商標制度、著作権制度の概要を説明する。
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2016.04.26
韓国における特許法改正（2015年1月/7月施行）が出願実務に与える影響【その2】韓国では、昨年、2回の特許法改正が施行された（2015年1月1日施行および2015年7月29日施行）。これらの改正では、特許出願人、特に、韓国外から韓国特許出願を行う者にとって、より手続きを行いやすくなる改正事項が含まれている。以下の改正事項に関して、ポイントと出願実務に与える影響を解説する。
1. 外国語書面出願制度の導入
2. PCT国内移行 翻訳文提出期間の延長
3. PCT国内移行 翻訳文の誤訳訂正の導入
4. 公知例外主張（日本の「新規性喪失例外適用」にあたる）の補完
5. 特許査定後の分割出願韓国における特許法改正が出願実務に与える影響について、SUNYOUNG IP GROUPの弁理士 許 容録氏が全2回シリーズで解説しており、本稿は、【その2】として、4.新規性喪失例外適用の補完、5.特許査定後の分割出願、についての解説である。
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2016.04.25
韓国における特許法改正（2015年1月/7月施行）が出願実務に与える影響【その1】韓国では、昨年、2回の特許法改正が施行された（2015年1月1日施行および2015年7月29日施行）。これらの改正では、特許出願人、特に、韓国外から韓国特許出願を行う者にとって、より手続きを行いやすくなる改正事項が含まれている。以下の改正事項に関して、ポイントと出願実務に与える影響を解説する。
1. 外国語書面出願制度の導入
2. PCT国内移行 翻訳文提出期間の延長
3. PCT国内移行 翻訳文の誤訳訂正の導入
4. 公知例外主張（日本の「新規性喪失例外適用」にあたる）の補完
5. 特許査定後の分割出願韓国における特許法改正が出願実務に与える影響について、SUNYOUNG IP GROUPの弁理士 許 容録氏が全2回シリーズで解説しており、本稿は、【その１】として、1.外国語書面出願制度の導入、2.PCT国内移行 翻訳文提出期間の延長、3.PCT国内移行 翻訳文の誤訳訂正の導入についての解説である。
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2016.02.26
インドにおける意匠制度の運用実態「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」（平成27年3月、日本国際知的財産保護協会）第2部-IV-Dでは、インドにおける意匠制度の運用実態について、意匠制度の枠組、意匠出願から登録までの手続の流れ、意匠審査の内容、意匠出願や登録に関する統計情報、ハーグ協定ジュネーブ改正協定に関する整合状況等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。
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2016.02.26
ロシアにおける意匠制度の運用実態「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」（平成27年3月、日本国際知的財産保護協会）第2部-V-Dでは、ロシアにおける意匠制度の運用実態について、意匠制度の枠組、意匠出願から登録までの手続の流れ、意匠審査の内容、意匠出願や登録に関する統計情報、ハーグ協定ジュネーブ改正協定に関する整合状況等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。
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2016.02.23
ブラジルにおける意匠制度の運用実態「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」（平成27年3月、日本国際知的財産保護協会）第2部-Ⅰ-Dでは、ブラジルにおける意匠制度の運用実態について、意匠制度の枠組、意匠出願から登録までの手続の流れ、意匠審査の内容、意匠出願や登録に関する統計情報、ハーグ協定ジュネーブ改正協定に関する整合状況等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。
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2016.02.09
韓国におけるデザイン（意匠）の登録要件韓国におけるデザイン（意匠）の登録要件として、デザイン保護法第33条に基づき、i）新規性、ii）創作性、iii）工業上の利用可能性を満たさなければならず、iv）拡大された先出願主義に違反してはならない。また、v）上記要件を満たしたデザインまたはこれと類似のデザインが2以上出願された場合には、一番先に出願した者のみが登録を受けることができる。
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2016.02.05
インドにおける意匠の表現に関する制度・運用「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」（平成25年2月、日本国際知的財産保護協会）第II部、第III部および第Ⅳ部では、インドにおける意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、インドの意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠公報に掲載された意匠の表現例、判例等について、海外アンケートと海外ヒアリングの結果と共に紹介されている。
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2016.02.02
オーストラリアにおける意匠の表現に関する制度・運用「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」（平成25年2月、日本国際知的財産保護協会）第II部、第III部では、オーストラリアにおける意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、オーストラリアの意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠の表現例等について、海外アンケートの結果と共に紹介されている。
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2016.01.29
ブラジルにおける商標制度の運用実態「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」（平成27年3月、日本国際知的財産保護協会）第2部-Ⅰ-Eでは、ブラジルにおける商標制度の運用実態について、商標制度の枠組、商標出願から登録までの手続の流れ、商標出願審査の内容、商標出願や登録に関する統計情報等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。