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2021.06.01
韓国における特許制度のまとめ－実体編（2024年7月5日訂正：
本記事のソース「韓国特許・実用新案審査基準」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）韓国における特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2020.12.24
メキシコにおける意匠の機能性および視認性メキシコ産業財産法によれば、意匠とは、物品の装飾的または美的側面のみを構成し、物品自体の形状など三次元の特徴、または模様、線、色彩など二次元の特徴で構成される。ただし、技術的考慮または技術機能作用からのみ要求され、創作者の裁量的寄与を具現していない要素もしくは特性には、意匠に付与される保護は及ばない。
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2020.08.11
台湾における専利法の一部改正台湾専利法（日本の特許法、実用新案法、意匠法に相当）は、1949年に施行されて以来、業界の要求、国際規範との調和などに応じて、13回の改正がなされた。
2019年11月1日に最新の改正法が施行された。主な改正点5点について旧法（2017年1月18日に改正された専利法）と比較し解説する。 -
2020.06.11
インドにおける商標制度のまとめ－実体編（本記事は、2023/10/10に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37446/インドにおける商標制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2020.06.09
シンガポールにおける商標制度のまとめ－実体編（2024年7月5日訂正：
本記事のソース中、「シンガポール知的財産庁 商標の概要（Overview of Trade Marks）」のURLが、リンク切れとなっていたため、削除いたしました。また、「シンガポール商標法」につき日本語版のURLを追記いたしました。）（2022年6月24日訂正：
本記事のソース「商標出願手順」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）シンガポールにおける商標制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2020.06.04
タイにおける商標制度のまとめ－実体編タイにおける商標制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2020.06.02
韓国における商標制度のまとめ－実体編韓国における商標制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2020.05.21
ベトナムにおける特許制度のまとめ－実体編（本記事は、2023/11/2に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37669/ベトナムにおける特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2020.05.19
インドにおける特許制度のまとめ－実体編インドにおける特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
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2020.05.19
タイにおける特許制度のまとめ－実体編タイにおける特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。