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2017.11.23
イスラエルにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアル「中東諸国における特許・実用新案・意匠・商標の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルに関する調査研究 報告書」(平成29年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部Cでは、イスラエルにおける四法の審査運用の実態および審査基準・審査マニュアルについて、出願制度の概要や審査の実態が、特許、意匠、商標の権利種別毎に条文やフローチャートを交えて説明されているとともに、審査基準・審査マニュアルへのアクセス方法等が紹介されている。なお、実用新案制度はない。
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2013.12.20
シンガポールにおける意匠登録制度及びその運用実態(2022年5月13日訂正:
本記事のソース「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)II.5、III.5では、シンガポールにおける意匠登録制度全般について詳しく説明されている。具体的には、意匠登録制度の法令、規則等の整備状況や、管轄部局の組織図、出願書類、登録要件、権利の効力範囲、裁判例等が説明され、資料編では、ガイドラインや審査フロー図等が掲載されている。
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2013.12.10
シンガポールにおける知的財産権取得の流れ「アセアン・インド知財保護ハンドブック」(2013年3月、日本貿易振興機構)第2章5では、シンガポールにおける特許、意匠、商標の出願から権利の取得までの流れがフローチャートを用いて説明され、6年分の出願件数等の統計情報も掲載されている。また、著作権、機密情報、集積回路レイアウトデザインの保護の概要についても説明されている。