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■ 全718件中、3140件目を表示しています。

  • 2019.10.15

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願制度注目コンテンツ

    本稿ではシンガポールにおける特許出願制度について説明する。特に、シンガポールには2014年2月14日に施行された改正特許法において導入された独自の審査オプションが存在する。これらのオプションを踏まえた上で出願から登録までの流れを説明する。なお、補充審査に関連するオプションは、2020年1月1日以降の出願から廃止される。詳細は以下のサイトを参照されたい。
    https://www.jpo.go.jp/news/kokusai/sg/foreign_route.html

  • 2019.10.08

    • 中南米
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    メキシコ商標制度概要注目コンテンツ

    メキシコにおける商標制度は、1991年産業財産法(改正)およびその施行規則に準拠している。
    メキシコ議会において、2018年3月に商標に関する産業財産法の改正法案が可決され、2018年5月18日付で改正法が官報に公示された。改正法は、官報に公示されてから60営業日目である2018年8月10日に発効した。これが過去25年間のメキシコの商標法にとって最も重要な改正であるといえる。
    改正法によって、音の商標、匂いの商標、ホログラム等の非伝統的商標およびトレードドレスが、商標の定義に追加された。また、異議申立制度も改正された。
    権利期間は出願日から10年であり、10年ごとに更新することができる。

  • 2019.10.08

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本と中国の特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較注目コンテンツ

    日本と中国の特許の実体審査においては拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、日本では実体審査において60日(在外者でない場合)または3月(在外者の場合)の応答期間が設定されているのに対し、中国の実体審査においては最初の拒絶理由通知書であるか再度の(2回目以降の)拒絶理由通知書であるかにより応答期間が異なる。また、日本と中国とでは、延長可能な応答期間の長さが異なる。

  • 2019.10.03

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本と韓国における特許審査請求期限の比較注目コンテンツ

    日本における特許の審査請求の期限は、日本出願日(優先権主張の有無にかかわらず)から3年である。韓国における特許の審査請求の期限は、韓国出願日(優先権主張の有無にかかわらず)から5年である。

  • 2019.10.03

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本と韓国の特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較注目コンテンツ

    日本と韓国の特許の実体審査においては拒絶理由通知への応答期間および延長可能な期間が異なる。具体的には、実体審査において60日(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)の応答期間が設定されている日本とは異なり、韓国の実体審査においては通常2か月の応答期間が設定され、さらに最大4か月まで延長可能である。1か月を1回として、1回ずつまたは2回以上を一括して4か月を越えない期間で応答期間の延長を申請することができる。

  • 2019.09.19

    • 欧州
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とロシアにおける特許分割出願に関する時期的要件の比較注目コンテンツ

    日本およびロシアにおいては、それぞれ所定の期間、特許出願について分割出願を行うことができる。ロシアにおいては、(1)原出願が取り下げられていないこと(取下とみなされていないこと)、(2)原出願について、拒絶査定に対する不服申立期間が満了していないこと、(3)原出願に係る特許が登録されていないこと、のいずれかの条件において、分割出願を行うことができる。

  • 2019.09.12

    • アジア
    • その他参考情報
    • その他

    インドネシアにおける政府による知的財産に関する各種優遇・支援制度注目コンテンツ

    インドネシアにおける政府による知的財産に関する各種優遇・支援制度としては、インドネシア知的財産権総局(DGIP)が提供する、知的財産(特許、簡易特許、意匠、商標)の出願や登録に係る庁費用の中小企業、教育機関、および政府機関に対する軽減措置が挙げられる。また、知的財産に関連が深いと考えられる研究開発等に関する各種優遇・支援制度としては、投資奨励分野に対する優遇措置が挙げられる。審査期間に関する優遇・支援制度としては、日本インドネシア特許審査ハイウェイ(PPH)試行プログラムやASEAN特許審査協力(ASPEC)プログラムが挙げられる。

  • 2019.09.10

    • 中東
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    トルコにおける意匠出願制度概要注目コンテンツ

    トルコにおける意匠出願制度での出願人の要件、所轄庁、出願に必要な書類、図面の要件、出願の流れ、審査、審判等を紹介する。トルコの意匠には工業意匠、グラフィック意匠、ファッション意匠、建築意匠等がある。トルコの意匠権の存続期間は出願日から5年であり、5年ごとの更新により、最長25年まで更新可能である。

  • 2019.09.10

    • 中東
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標

    トルコにおける商標出願制度概要注目コンテンツ

    トルコにおける商標登録出願は、方式審査および実体審査が行われ、2か月間の公開・異議申立期間の後、登録される。権利は登録日から生じ、存続期間は登録日から10年で、更新することができる。

  • 2019.09.10

    • 欧州
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標

    ロシアにおける商標出願制度概要注目コンテンツ

    ロシアにおける商標の出願手続きは、1)出願、2)方式審査、3)実体審査、4)登録の手順で進められる。商標に係る排他権の存続期間は出願から10年であり、請求により何度でも、10年ごとの更新が可能である。