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2014.08.19
ブラジルにおける意匠の表現に関する制度・運用ブラジルでは、三次元の意匠は六面図及び斜視図で表す(二次元であって裏面が無模様のものは、裏面の図は省略可)。図法に制約はないが、原則として点線の記載は認められない。陰線や引き込み線等についての規定はない。白黒写真及びカラー写真が認められ、写真に異なる色彩を付すことも可能である。CG(computer graphics)については、静止画のみが認められ、白黒及びカラーのいずれの画像も出願することができる。白黒の図面又は写真の場合、対応する着色の範囲を表示する。なお、参考図面は認められない。
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2014.07.11
韓国における特許戦略「韓国進出のための知的財産経営マニュアル」(2012年3月、日本貿易振興機構)第III編第2章では、韓国における特許経営について紹介されている。具体的には、日本企業が韓国に進出する際に重要な特許戦略として、特許出願かノウハウ管理かの方針決定をはじめ、特許出願管理(出願前段階、出願から登録までの段階、特許登録後段階)、特許維持評価、特許紛争への対応等について紹介されている。
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2014.05.27
シンガポールにおける特許出願書類(2022年9月22日訂正:
本記事のソース「特許出願願書フォーム(様式1)」「宣誓書フォーム(様式8)」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)シンガポールでは、特許出願書類として、願書、明細書、クレーム、図面、要約書が必要であり、出願手続は英語で行わなければならない。
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2014.05.20
シンガポールにおける優先権主張を伴う特許出願シンガポールもパリ条約締結国であるため、優先権主張に伴う特許出願が認められる。優先権主張期間は基礎出願日から12ヶ月以内であり、部分優先や複数優先も認められる。
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2014.05.16
中国における証明商標制度「商標法における認証・証明マークの保護の在り方に関する調査研究報告書」(2012年2月、知的財産研究所)II.7(4)、「地理的表示・地名等に係る商標の保護に関する調査研究報告書」(2011年2月、知的財産研究所)II.4(6)では、中国における証明商標制度について紹介されている。具体的には、証明商標の定義、証明商標制度における主体要件、提出書類、使用管理規則の審査等が紹介されている。
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2014.05.13
シンガポールにおける英語以外の言語を含む商標の出願(本記事は、2021/6/29に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20345/シンガポールにおいて、日本語で使われる文字(ひらがな、カタカナ、漢字)等、ローマ字以外の文字や英語以外の言語より構成される、又はこれらを含む商標の出願を行う場合、願書に当該文字、言語の英語翻訳等を記載する必要がある。
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2014.05.09
ブラジル特許出願の期日管理の留意点(本記事は、2022/7/26に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/24174/ブラジルでは、特許出願から登録まで、審査請求期間、拒絶理由通知対応期間、拒絶査定を受けたときの応答期間又は拒絶査定不服審判請求可能期間をはじめ、手続上多くの定められた期日がある。延長が可能なものと不可のものがあるので、十分注意して期日管理を行う必要がある。
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2014.05.07
シンガポールにおいて意匠出願人となる者シンガポールでは、原則として、意匠登録を受ける権利は創作者に原始的に帰属するが、雇用期間中に従業者により創作された場合等は、創作者に帰属しない旨が定められている。
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2014.05.07
マレーシアにおける複数意匠の一括出願マレーシアにおいて、公序良俗に反する意匠や物品の形状若しくは輪郭の特徴であって、物品が果たすべき機能によってのみ決定づけられる意匠は登録が認められないが、同一の出願で複数の意匠を対象にできる点に特徴がある。審査は方式審査のみである。
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2014.04.11
韓国における証明商標制度「商標法における認証・証明マークの保護の在り方に関する調査研究報告書」(2012年2月、知的財産研究所)II.7(5)、及び「地理的表示・地名等に係る商標の保護に関する調査研究報告書」(2011年2月、知的財産研究所)II.4(7)では、韓国における証明標章制度について、提出書類及び使用規則の記載項目等が紹介されている。