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■ 全428件中、341350件目を表示しています。

  • 2014.10.01

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 意匠

    タイにおける意匠権の効力範囲および侵害が及ぶ範囲

    「各国・地域の意匠権の効力範囲及び侵害が及ぶ範囲に関する調査研究報告書」(2014年2月、日本国際知的財産保護協会) 第Ⅱ部13では、タイにおける意匠制度の枠組み、意匠権設定前後の運用、著作権との関係、意匠権侵害、意匠権侵害の救済、税関・警察等での取締り等について、法律上の規定に加えて、判例等の具体的な事例、願書等への記載内容に関してタイ知的財産局担当者の回答並びにタイ実務者から得た見解を交えて詳細に説明されている。

  • 2014.10.01

    • アジア
    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 意匠

    タイにおけるハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題

    「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)Ⅲ-1では、タイのハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題として、複数意匠一括出願制度、公開繰り延べ制度、拒絶通報期間、秘密の写しの受理、新規性喪失の例外、関連意匠制度、意匠の簡潔な説明及び請求の範囲、見本による意匠の表現、方式審査、国際登録簿等に関するタイの現状について説明されている。

  • 2014.10.01

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 意匠

    インドネシアにおける意匠権の効力範囲及び侵害が及ぶ範囲

    「各国・地域の意匠権の効力範囲及び侵害が及ぶ範囲に関する調査研究報告書」(2014年2月、日本国際知的財産保護協会) 第Ⅱ部12では、インドネシアにおける意匠制度の枠組み、意匠権設定前後の運用、著作権との関係、意匠権侵害、意匠権侵害の救済、税関・警察等での取締り等について、法律上の規定に加えて、判例等の具体的な事例、願書等への記載内容に関してインドネシア特許庁担当者の回答並びにインドネシア実務者から得た見解を交えて詳細に説明されている

  • 2014.09.26

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    台湾における新しいタイプの商標に関する保護

    「視覚で認識することができない新しいタイプの商標に関する各国の制度・運用についての調査研究報告書」(2012年6月、日本国際知的財産保護協会)5-2-5では、台湾における新しいタイプの商標(色彩、音、におい、動き、位置、ホログラム)に関して、新しいタイプの商標の保護の経緯、出願手続、登録審査等について説明されており、出願・登録件数等の統計も記載されている。また、資料として、審査基準の日本語訳も掲載されている。

  • 2014.09.19

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    台湾における意匠の表現に関する制度・運用

    「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部では、台湾における意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、台湾の意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠の表現例等について、海外アンケートと海外ヒアリングの結果と共に紹介されている。

  • 2014.08.29

    • アジア
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    韓国における意匠の表現に関する制度・運用

    各国における意匠の表現に関する調査研究報告書(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部、第IV部では、韓国における意匠の開示方法や意匠の表現に関する願書記載事項に加え、韓国における意匠制度全般、意匠の保護客体、意匠の補正等の考え方、意匠の単一性の考え方、意匠権の効力範囲、判例等について紹介されている。

  • 2014.08.26

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    中国における意匠の表現に関する制度・運用

    各国における意匠の表現に関する調査研究報告書(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部、第IV部では、中国における意匠の開示方法や意匠の表現に関する願書記載事項に加え、中国における意匠制度全般、意匠の保護客体、意匠の補正等の考え方、意匠の単一性の考え方、意匠権の効力範囲、判例等について紹介されている。

  • 2014.08.22

    • 欧州
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    ロシアにおける意匠の表現に関する制度・運用

    ロシアにおいて、意匠の表現は、図面のほか写真若しくはCGによる特定が可能である。図面について必要最小図面数の限定や提出可能図面数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する図面、即ち斜視図、正面図、背面図、上面図、底面図、左側面図、右側面図を提出しなければならない。提出図面の大きさはA4サイズという制約があり、拡大図の提出も可能である。写真についても必要最小写真数の限定や提出可能写真数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する写真の提出が求められており、写真は鮮明なものである必要がある(白黒/カラーいずれでも良い)。CGによる意匠の特定は静止状態のもののみ認められる(他の条件は写真と同様)。

  • 2014.08.08

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    シンガポールにおけるシリーズ(連続)商標

    シンガポールでは、シリーズ(連続)商標については、複数の商標見本(願書で商標態様を示す見本)であっても単一の出願とすることができる。ただし、各商標の主要な特徴が本質的に同一であり、各商標の相違点が本質的に識別力のない点におけるものであって、商標全体において本質的な商標の同一性に影響を与える要素を含んでいないことが要件である。

  • 2014.07.25

    • アジア
    • 出願実務
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    • 特許・実用新案
    • その他

    中国におけるコンピュータ・ソフトウエア及びビジネスモデル関連等における保護の現状

    (本記事は、2019/1/8に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16381/

    「コンピュータ・ソフトウエア関連およびビジネス分野等における保護の在り方に関する調査研究報告書」(2010年3月、日本国際知的財産保護協会)I.第1章、第7章1では、中国におけるコンピュータ・ソフトウエア(CS)関連およびビジネスモデル(BM)関連等における保護の現状について紹介されている。具体的には、特許要件を紹介した上で、CS関連発明及びBM関連発明の特許可能性、特許性ガイドライン、クレームの形式等について紹介されている。また、「コンピュータ・ソフトウエア関連およびビジネス分野等における保護の在り方に関する調査研究報告書(参考資料編)」(2010年3月、日本国際知的財産保護協会)には、参考となる論説が掲載されている。