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2014.03.21
台湾における専利法の紹介「台湾模倣対策マニュアル」（2013年3月、交流協会）一、（一）1.では、台湾専利法に関し、特許、実用新案及び意匠の各保護対象、保護を受けるための要件、出願手続及び手数料等について、表やフローチャート等を用いて詳細に説明されている。また、六には、手数料表や委任状フォーム等の添付資料も掲載されている。
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2014.03.17
韓国における当事者系審判の運用「欧米韓における当事者系審判等の運用実態に関する調査研究」（2012年3月、日本国際知的財産保護協会）第２章VII．３では、韓国における当事者系審判、具体的には、無効審判、権利範囲確認審判等の手続の運用実態について説明されている。
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2014.03.14
ブラジルにおける特許の早期権利化の方法（本記事は、2017/7/20に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13911/ブラジルでは特許審査の遅れが指摘されており、ファーストアクションまで十数年かかることもあるが、所定の要件を満たす場合には、優先審査を請求することができる。
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2014.03.11
マレーシアにおける特許の単一性要件と分割出願（本記事は、2020/4/23に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18526/マレーシアにおいて、特許出願人は、所定の期間内であれば、出願が単一性の要件を満たさない場合、その不備を是正する手段として分割出願することができるほか、自発的に分割出願を行うことも可能である。ただし、分割できる時期は制限されており、原出願の明細書に記載された範囲を超えてはならない。
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2014.03.06
サウジアラビアにおける商標制度本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」（2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課）第２部第２章第３節では、サウジアラビアにおける商標制度について紹介されている。具体的には、商標の定義、出願、団体商標、記載事項、優先権、商標局による審査、拒絶理由、公告、異議申し立て、登録の流れ、更新、譲渡、質入れ等について紹介されている。
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2014.03.05
サウジアラビアにおける半導体回路配置および意匠制度本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」（2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課）第２部第２章第２節では、サウジアラビアにおける半導体回路配置及び意匠制度について紹介されている。サウジアラビアでは、回路配置及び意匠は、「特許、集積回路の回路配置、植物品種及び工業意匠に関する法律」によって保護されるが、本節では、意匠における登録要件、出願、優先権主張及び新規性喪失の例外、並びに、集積回路の回路配置における登録要件、譲渡、実施許諾及び強制実施権等について紹介されている。
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2014.02.20
韓国における商標制度「模倣対策マニュアル 韓国編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第５章では、韓国の商標制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持、異議申立、各種商標審判手続、審決取消訴訟、マドリッド議定書による出願等について紹介されている。
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2014.02.19
韓国におけるデザイン保護制度（本記事は、2020/2/13に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18280/「模倣対策マニュアル 韓国編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第４章では、韓国のデザイン保護制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持、デザイン無審査登録異議申立、デザイン審判手続等について紹介されている。韓国のデザイン登録出願は物品により、実体審査を経ないで登録になるものと、実体審査を経て登録になるものがある。「デジタル社会におけるデザイン保護に即した意匠制度の在り方に関する調査研究」（2012年2月、知的財産研究所）II．２．（３）では、表示器等の物品に表示された、物品の部分としての画面デザインの保護について紹介されている。
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2014.02.18
韓国における実用新案制度（本記事は、2020/2/13に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18278/「模倣対策マニュアル 韓国編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第３章では、韓国の実用新案制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持等について紹介されている。韓国の実用新案法は2006年10月1日付の改正により、審査前登録制度から審査後登録制度に変更され、技術評価制度が廃止されるなど、特許制度により近い制度となった。
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2014.02.18
ベトナムの先使用権制度「先使用権制度に関する調査研究報告書」（2011年3月、日本国際知的財産保護協会）では、ベトナムを含む46カ国の先使用権に関する制度（先使用権制度を有さない国においては類似の制度）の概要及び運用状況に関する情報が取りまとめられている。ベトナム知的財産法では、出願日又は優先日より前に独立して創出した発明や意匠を実施又は実施の準備をしていた場合に先使用権を認めているが、条文上「善意」の要件は見当たらない。