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■ 全166件中、2130件目を表示しています。

  • 2020.06.09

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • 商標

    シンガポールにおける商標制度のまとめ-実体編

    シンガポールにおける商標制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2020.06.09

    • アジア
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    シンガポールにおける知的財産関連機関・サイト

    シンガポールの知的財産と関連する公的機関について、各機関の説明とサイトのURLを示す。

  • 2020.05.28

    • アジア
    • 法令等
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    シンガポールにおける知的財産の基礎情報(全体マップ)-関連情報編

    (本記事は、2021/5/13に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19852/

    本記事は、「新興国等知財情報データバンク」に掲載されているシンガポールの知的財産に関連する基礎的な情報へのアクセス性を向上させるために、当該基礎的な情報の全体像をマップ的に示すものである。
    具体的に、「関連情報編」の本記事では、シンガポールの知的財産に関連する情報として、特許や商標等の公報データベース、審決・判決データベース、出願統計データベース、主な知的財産関係機関のウェブサイトのURLを掲載した

  • 2020.05.28

    • アジア
    • 法令等
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    シンガポールにおける知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編

    本記事は、「新興国等知財情報データバンク」に掲載されているシンガポールの知的財産に関連する基礎的な情報へのアクセス性を向上させるために、当該基礎的な情報の全体像をマップ的に示すものである。
    具体的に、「実体編」の本記事では、シンガポールの知的財産に関連する基礎的な情報について、原文およびその翻訳文(日本語または英語でアクセスできるもの)のURLアドレスを掲載し、これらに関連する「新興国等知財情報データバンク」内の記事(関連記事)およびその他の情報(関連情報)の主なものについて、URLを掲載した。

  • 2020.05.19

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許制度のまとめ-実体編

    シンガポールにおける特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2020.05.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    日本とシンガポールの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)の応答期間が設定されている日本とは異なり、シンガポールにおいては、審査請求のオプションによって応答期間が異なり、シンガポール知的財産庁(IPOS)に審査を請求するオプションの場合は5か月、シンガポール知的財産庁に補充審査を請求するオプションの場合は3か月である。なお、2017年10月30日付けで改正された特許法により、2020年1月1日以降の出願から補充審査は利用できなくなる。また、日本と異なり、シンガポールにおいては応答期間の延長ができない。

  • 2020.04.30

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールにおける特許審査請求期限の比較

    (本記事は、2021/6/24に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20283/

    日本における特許審査請求の請求期限は、日本出願日(優先権主張の有無にかかわらず)から3年である。シンガポールにおける特許審査請求には4つのオプションがあり、それぞれ審査請求の期限が異なる。なお、2017年10月30日付けで改正された特許法により、2020年1月1日以降の出願から4つのオプションのうち「対応国の審査結果に基づく補充審査」が選択できなくなる。費用の支払いにより期限の延長も可能である。審査請求期限の起算日はいずれのオプションも出願日(優先権主張を伴う場合には優先日)である。

  • 2020.01.30

    • アジア
    • 統計
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    シンガポールにおける特許、意匠、商標に関する統計情報

    (本記事は、2021/10/14に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/statistics/20989/

    「ASEAN6カ国の産業財産権データベースから得られる統計情報に関する調査」(2019年4月、日本貿易振興機構(JETRO)バンコク事務所 知的財産部)「第5章 シンガポール」では、シンガポールにおける特許、意匠、商標に関する権利化期間、出願件数上位出願人リスト、登録率等の統計情報が紹介されている。

  • 2019.11.07

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールにおける特許審査請求期限の比較

    (本記事は、2021/6/24、2020/4/30に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20283/(2021/6/24)
        https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18538/(2020/4/30)

    日本における特許審査請求の請求期限は、日本出願日(優先権主張の有             無にかかわらず)から3年である。シンガポールにおける特許審査請求には4つのオプションがあり、それぞれ審査請求の期限が異なる。費用の支払いにより期限の延長も可能である。審査請求期限の起算日はいずれのオプションも出願日(優先権主張を伴う場合には優先日)である。

  • 2019.11.07

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    (本記事は、2020/5/5に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18540/

    日本とシンガポールの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)の応答期間が設定されている日本とは異なり、シンガポールにおいては、審査請求のオプションによって応答期間が異なり、シンガポール知的財産庁(IPOS)に審査を請求するオプションの場合は5か月、シンガポール知的財産庁に補充審査を請求するオプションの場合は3か月である。また、日本と異なり、シンガポールにおいては応答期間の延長ができない。