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■ 全39件中、2130件目を表示しています。

  • 2015.02.19

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 意匠

    中国における意匠に関する実務マニュアル

    「中国意匠権出願手続における実務上の問題点にかかる調査報告書(2013年3月、日本貿易振興機構上海事務所 知識産権部)」第3章では、中国における意匠出願の実務マニュアルとして、類似意匠出願の具体例、意匠出願書類の「簡単な説明」、創作非容易性、日本での部分意匠出願を基礎とする出願に係る優先権、警告や権利行使を受けた際における対応、意匠調査に利用可能な検索データベース等について事例とともに説明されている。また、付属資料として意匠に関する審査基準の抜粋も紹介されている。

  • 2014.12.26

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 審決例・判例
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    • その他参考情報
    • 意匠

    インドネシアにおける産業意匠の取得

    (本記事は、2018/11/20に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16142/

    「模倣対策マニュアル インドネシア編」(2008年3月、日本貿易振興機構)2(4)では、インドネシアにおける産業意匠の取得について、産業意匠法の概要、出願に必要な書類、産業意匠権の効力、出願費用、出願・登録状況に関する統計等について紹介され、出願から登録までの手続きがフローチャートを交えて説明されている。また、添付資料として産業意匠法全文、産業意匠出願様式、模倣意匠の同一性に関する判決例も紹介されている。

  • 2014.11.11

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    タイにおける意匠制度の概要

    「世界の産業財産権制度および産業財産権侵害対策概要ミニガイド」(一般社団法人発明推進協会)タイ王国 <意匠制度>では、タイにおける意匠出願の必要書類、料金表、実体審査・出願公開制度・審査請求制度の有無、出願から登録までの手続きの流れ、存続期間、部分意匠制度の有無等について説明され、出願から登録までのフローチャートも紹介されている。また、タイにおける意匠に関する留意事項も紹介されている。

  • 2014.10.28

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 意匠

    フィリピンにおける意匠制度の概要

    「産業財産権制度ミニガイド フィリピン」(2012年1月、発明推進協会) <意匠制度>では、フィリピンにおける意匠出願の必要書類、料金表、実体審査・出願公開制度・審査請求制度の有無、出願から登録までの手続きの流れ、存続期間、部分意匠制度の有無等について説明され、出願から登録までのフローチャートも紹介されている。また、フィリピンにおける意匠に関する留意事項も紹介されている。

  • 2014.10.01

    • アジア
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 意匠

    香港における意匠制度の概要

    (本記事は、2021/9/28に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20887/

    「模倣対策マニュアル 香港編」(2014年3月、日本貿易振興機構)第2章第3節では、香港における意匠制度の説明がされている。具体的には、意匠出願・登録件数の統計、登録要件、出願手続、手続に係る手数料等についての説明がされている。

  • 2014.09.19

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    台湾における意匠の表現に関する制度・運用

    「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部では、台湾における意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、台湾の意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠の表現例等について、海外アンケートと海外ヒアリングの結果と共に紹介されている。

  • 2014.08.22

    • 欧州
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    ロシアにおける意匠の表現に関する制度・運用

    ロシアにおいて、意匠の表現は、図面のほか写真若しくはCGによる特定が可能である。図面について必要最小図面数の限定や提出可能図面数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する図面、即ち斜視図、正面図、背面図、上面図、底面図、左側面図、右側面図を提出しなければならない。提出図面の大きさはA4サイズという制約があり、拡大図の提出も可能である。写真についても必要最小写真数の限定や提出可能写真数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する写真の提出が求められており、写真は鮮明なものである必要がある(白黒/カラーいずれでも良い)。CGによる意匠の特定は静止状態のもののみ認められる(他の条件は写真と同様)。

  • 2014.03.11

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾進出の実例と留意点

    「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)B.第四章では、知的財産権の侵害や技術盗用について、外食産業、IT産業、コンテンツ産業及び製造業において、台湾進出の際に実際に起きた事例が挙げられ、リスクとその対処法について説明されている。

  • 2013.11.25

    • アジア
    • 法令等
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    インドにおける知的財産保護制度

    本コンテンツは2007年3月時点の情報に基づくものである。

    「インドにおける知的財産保護制度及びその運用状況に関する調査研究報告書」(2007年3月、日本国際知的財産保護協会)では、インドにおける知的財産制度の概要について、表、フローチャート、現地のコメント及び統計資料を交え、説明されている。例えば、特許出願公開について、2006年に公開された特許出願件数を4カ所のインド特許意匠商標総局ごとに調べ、表形式にまとめている。

  • 2013.09.27

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    アルゼンチンにおける産業財産権制度

    アルゼンチン産業財産権制度ミニガイド(2011年1月、発明推進協会)では、アルゼンチンにおける特許、実用新案、意匠及び商標の各出願制度の概要について紹介されている。