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■ 全24件中、2124件目を表示しています。

  • 2013.09.20

    • アジア
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • その他

    ベトナムにおける半導体集積回路の回路配置の保護について注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル ベトナム編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II章A.II第7節4は、ベトナムにおける半導体集積回路の回路配置の保護について解説している。ベトナム知的財産法によると、「半導体集積回路の回路配置」(以下「回路配置」という)とは、半導体集積回路における素子とその相互接続の立体的配置をいい、回路配置が独創性及び商業的新規性を有する場合に保護を受けることができる。半導体集積回路により実行される原則、プロセス等は回路配置として保護されない。回路配置の出願は方式審査のみで、実体審査はない。回路配置の保護期間は、出願日若しくは世界のいずれかの場所における回路配置の最初の商業利用の日から10年間、又は回路配置の創出日から15年間のいずれか早い方となる。登録の一連の流れをまとめた「回路配置登録手続フローチャート」が掲載されている(p.161)。

  • 2013.09.20

    • 中南米
    • 出願実務
    • 意匠

    ブラジルにおける意匠出願制度注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル ブラジル編」(2011年3月、日本貿易振興機構)第1章第2節には、ブラジルにおける意匠特許制度、登録要件、出願手続、無効請求、譲渡等について紹介されている。

  • 2013.09.20

    • アジア
    • 法令等
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    マレーシアにおける著作権及び関連権注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル マレーシア編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第2章第4節では、マレーシアにおける著作権の制度及び著作権に関連する法について紹介されている。具体的には、著作権の要件、届出制度、救済措置、刑事責任、光ディスク法、違法アップロード/ダウンロード、サービスプロバイダーの免責、ロゴの著作物性、著作権法の改正状況等について説明されている。

  • 2013.09.06

    • 欧州
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 意匠

    ロシアにおける意匠制度注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル ロシア編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第1章第2節では、ロシアにおける意匠制度の概要、出願から登録までの流れ(方式審査、実体審査等)、審判、手数料、譲渡・ライセンス等について記載されている。