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  • 2020.01.30

    • アジア
    • 統計
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    シンガポールにおける特許、意匠、商標に関する統計情報

    「ASEAN6カ国の産業財産権データベースから得られる統計情報に関する調査」(2019年4月、日本貿易振興機構(JETRO)バンコク事務所 知的財産部)「第5章 シンガポール」では、シンガポールにおける特許、意匠、商標に関する権利化期間、出願件数上位出願人リスト、登録率等の統計情報が紹介されている。

  • 2020.01.30

    • アジア
    • 統計
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    タイにおける特許・実用新案、意匠、商標に関する統計情報

    「ASEAN6カ国の産業財産権データベースから得られる統計情報に関する調査」(2019年4月、日本貿易振興機構(JETRO)バンコク事務所 知的財産部)「第6章 タイ」では、タイにおける特許・実用新案、意匠、商標に関する権利化期間、出願件数上位出願人リスト、登録率等の統計情報が紹介されている。

  • 2020.01.28

    • アジア
    • 統計
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    マレーシアにおける特許・実用新案、意匠、商標に関する統計情報

    「ASEAN6カ国の産業財産権データベースから得られる統計情報に関する調査」(2019年4月、日本貿易振興機構(JETRO)バンコク事務所 知的財産部)「第3章 マレーシア」では、マレーシアにおける特許・実用新案、意匠、商標に関する権利化期間、出願件数上位出願人リスト、登録率等の統計情報が紹介されている。

  • 2020.01.28

    • アジア
    • 統計
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    インドネシアにおける特許・実用新案、意匠、商標に関する統計情報

    「ASEAN6カ国の産業財産権データベースから得られる統計情報に関する調査」(2019年4月、日本貿易振興機構(JETRO)バンコク事務所 知的財産部)「第2章 インドネシア」では、インドネシアにおける特許・実用新案、意匠、商標に関する権利化期間、出願件数上位出願人リスト、登録率等の統計情報が紹介されている。

  • 2019.12.10

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とインドネシアの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    日本とインドネシアの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、日本では60日(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)の応答期間が設定されているが、インドネシアでは3か月の応答期間が与えられる。また、応答期間の延長について、日本では2か月(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)、インドネシアでは通常3か月まで延長可能である。

  • 2019.11.07

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    日本とシンガポールの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)の応答期間が設定されている日本とは異なり、シンガポールにおいては、審査請求のオプションによって応答期間が異なり、シンガポール知的財産庁(IPOS)に審査を請求するオプションの場合は5か月、シンガポール知的財産庁に補充審査を請求するオプションの場合は3か月である。また、日本と異なり、シンガポールにおいては応答期間の延長ができない。

  • 2019.10.31

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本とインドの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    日本とインドの実体審査では、拒絶理由通知への応答に関する規定が異なっている。具体的には、応答期間が定まっている日本とは異なり、インドでは最初の拒絶理由通知書への応答期間は定められないが、代わりに特許付与のために整備する期間(拒絶理由解消期間)が定められる。そして、拒絶理由解消期間を過ぎると、その特許出願は放棄されたものとみなされる。

  • 2019.10.08

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本と中国の特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    日本と中国の特許の実体審査においては拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、日本では実体審査において60日(在外者でない場合)または3月(在外者の場合)の応答期間が設定されているのに対し、中国の実体審査においては最初の拒絶理由通知書であるか再度の(2回目以降の)拒絶理由通知書であるかにより応答期間が異なる。また、日本と中国とでは、延長可能な応答期間の長さが異なる。

  • 2019.10.03

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本と韓国の特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    日本と韓国の特許の実体審査においては拒絶理由通知への応答期間および延長可能な期間が異なる。具体的には、実体審査において60日(在外者でない場合)または3か月(在外者の場合)の応答期間が設定されている日本とは異なり、韓国の実体審査においては通常2か月の応答期間が設定され、さらに最大4か月まで延長可能である。1か月を1回として、1回ずつまたは2回以上を一括して4か月を越えない期間で応答期間の延長を申請することができる。

  • 2019.10.01

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    日本とインドにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較

    インドでは、中央政府に承認された展示会での開示や意匠権者の意に反する開示について、新規性喪失の例外が認められている。展示会での開示に関しては、開示日から6月以内に意匠出願する必要がある。
    日本では、2018年の意匠法改正により新規性喪失の例外期間が6月から1年に延長された。