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2023.01.10
韓国における商標出願制度概要韓国の商標出願手続は、主に出願、方式審査、実体審査、出願公告、登録査定の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に継続して更新可能である。
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2023.01.05
インドネシアにおける特許出願の実体審査と特許庁からの指令書に対する応答期間インドネシアの特許出願における方式指令、拒絶理由通知に対する最初の応答期間は3か月であり、その後2か月の延長に加えて、さらに1か月の延長が可能である。期間の起算日は、方式審査は発送の日であるが、実体審査は通知の日である。実体審査結果の通知の送達に遅れが生じていることにより、出願人に与えられる準備期間が短くなることがあるが、審査官の裁量による期間延長が認められる。
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2022.12.06
中国における意匠出願制度概要中国における意匠の出願手続は、主に、(1)出願、(2)方式審査、(3)登録・公告の手順で進められる。実体審査は行われず、登録後の無効請求により対応する。意匠権の存続期間は出願日から15年である。
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2022.11.24
台湾における実用新案登録出願制度概要実用新案（中国語「新型専利」）出願手続は、一般的に、方式審査、形式審査、許可処分、公告という順で進められる。なお、実体審査に代わりうるものとして技術評価書がある。
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2022.11.24
台湾における意匠出願制度概要意匠（中国語「設計專利」）出願手続は、一般的に、方式審査、実体審査、登録査定、公告の順で進められる。
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2022.11.22
中国における特許出願の単一性の審査について（2024年6月13日訂正：
本記事のソース「中国専利法実施細則」、「中国専利審査指南」および「「専利審査指南」の改正に関する公告」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正または削除いたしました。）中国において、1つの全体的発明構想に属する2つ以上の発明/実用新案は、単一性を有していれば、1件の専利出願に含めることができる。特許の実体審査実務において、2つの独立形式請求項が単一性を有するか否かは、同一のまたは対応する特定の技術的特徴の有無により判断され、「特定の技術的特徴」の認定においては、進歩性の判断基準が採用されている。
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2022.11.22
中国知財法と日本知財法の相違点中国進出にあたっては有効な知財戦略を立てる必要があるが、そのためにはまず、中国と日本の知財法の相違点を理解することが重要である。本稿では、専利（日本における特許、実用新案、意匠に相当）制度と日本の特許・実用新案・意匠制度について、存続期間、保護対象、審査・審判における相違点の概略を紹介する。
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2022.11.01
韓国における特許・実用新案出願制度概要（2024年6月10日訂正：
本記事のソース「韓国特許法」、「韓国実用新案法」および「韓国特許法施行規則」のURLを修正いたしました。）特許および実用新案の出願から登録までの手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)審査請求および実体審査、(5)登録の手順で進められる。2017年3月1日以降の出願については、審査請求期間が特許および実用新案どちらも出願日（国際出願の場合は国際出願日）から3年に変更された。権利は設定の登録日から生じるが、特許権の存続期間は出願日から20年、実用新案権の存続期間は出願日から10年である。2021年10月19日の韓国特許法改正により分離出願制度が新設され、また、拒絶査定後の応答期間が30日から3か月に変更された。
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2022.10.13
インドにおける特許、意匠、商標の実務について「インドにおける特許・意匠・商標に係る実務実態調査報告書」（2022年5月、日本貿易振興機構 ニューデリー事務所（知的財産権部））では、インドにおける特許、商標および意匠の実務についての調査結果を報告している。具体的には、特許についてはFirst Examination Report（FER）、新規性・進歩性、補正・記載要件、ヒアリング、分割出願、付与前・付与後異議、特許権の回復およびその他の関連実務（PPH、早期公開および実施報告書）について、商標についてはFER、ヒアリング、付与前異議および著名商標について、意匠についてはFER、原本の扱い、部分意匠および意匠実務手続マニュアルについて紹介している。また、インド特許意匠商標総局のウェブサイト、法律事務所・調査事業体、インド出願実務の重要なポイントについて紹介している。
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2022.10.11
インドネシアにおける商標制度・運用実態について「インドネシアにおける商標制度・運用に係る実態調査」（2022年3月、日本貿易振興機構バンコク事務所（知的財産権部）)では、インドネシアの商標制度を紹介している。具体的には、制度概要、保護対象、審査フロー、審査指針、異議申立、無効取消、不使用取消、登録後の注意事項およびエンフォースメントの他、制度改正動向、2017年から2021年までの出願件数の統計情報、知的財産総局のデータベース、料金表などを紹介している。