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2023.11.21
マレーシアにおける特許の新規性についてマレーシアにおける特許出願は、その発明が、刊行物、口頭の開示、使用等により、出願日もしくは優先日前に開示されていた場合、新規性を失い特許権の付与が認められない。しかし、マレーシアにおいても、一定の期間に限って、定められた行為による開示については、グレースピリオドが認められる。
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2023.10.26
日本とインドの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較日本とインドの実体審査では、拒絶理由通知への応答に関する規定が異なる。日本は拒絶理由通知への応答期間が定められている。一方、インドは最初の拒絶理由通知書への応答期間は定められていないが、出願を特許付与のために整備する期間（拒絶理由解消期間）が定められており、拒絶理由解消期間を過ぎると、その特許出願は放棄されたものとみなされる。
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2023.10.10
メキシコ商標制度概要メキシコ商標制度は、2018年8月10日に施行されたメキシコ産業財産法において、音の商標、匂いの商標、ホログラム等の非伝統的商標およびトレードドレスの保護対象への追加（メキシコ産業財産法第172条）、一部の無効理由について無効審判請求期間の延長（メキシコ産業財産法第258条）、登録時および更新時に指定商品・役務に関する真実宣誓書の提出義務を導入（メキシコ産業財産法第178条）など、多くの改正がなされたが、その後2020年11月5日に施行されたメキシコ産業財産法（以下「産業財産法」という。）においても、施行日である2020年11月5日以降に出願された商標の権利期間は、出願日ではなく登録日から10年間となる（産業財産法第178条）、異議申立に対する応答期限が1か月から2か月になる（産業財産法第225条）などの改正がなされた。
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2023.09.28
日本と台湾の特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較日本と台湾の特許の実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、日本では、実体審査において60日（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されているのに対して、台湾の実体審査においては2か月（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されている。また、日本と台湾とでは、延長可能な応答期間の長さが異なる。
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2023.09.26
日本とインドにおける特許分割出願に関する時期的要件の比較日本およびインドにおいては、それぞれ所定の期間内に、特許出願について分割出願を行うことができる。インドにおいては、特許付与前であれば、いつでも分割出願を行うことができる。
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2023.09.21
日本と中国の特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較日本と中国の特許の実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、日本では実体審査において60日（在外者でない場合）または3か月（在外者の場合）の応答期間が設定されているのに対し、中国の実体審査においては最初の拒絶理由通知書であるか再度の（2回目以降の）拒絶理由通知書であるかにより応答期間が異なる。また、日本と中国とでは、延長可能な応答期間の長さが異なる。
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2023.08.29
中国における他人の氏名等を含む商標に関する調査「他人の氏名等を含む商標に関する調査研究報告書」（令和4年3月、日本国際知的財産保護協会）では、国内外における他人の氏名等を含む商標に関する制度および氏名等に係る人格権について、法令、審査基準、文献および裁判例等の情報調査、並びに関係者へのヒアリング調査の結果が報告されている。本稿では、中国における調査結果を紹介する。
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2023.08.29
韓国における他人の氏名等を含む商標に関する調査「他人の氏名等を含む商標に関する調査研究報告書」（令和4年3月、日本国際知的財産保護協会）では、国内外における他人の氏名を含む商標に関する制度および氏名等に係る人格権について、法令、審査基準、文献および裁判例等の情報調査、並びに関係者へのヒアリング調査の結果が報告されている。本稿では、韓国における調査結果を紹介する。
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2023.05.11
中国における進歩性（創造性）の審査基準（専利審査指南）に関する一般的な留意点（前編）中国の審査基準（専利審査指南）のうち進歩性（創造性）に関する事項について、日本の審査基準と比較して留意すべき点を中心に前編・後編に分けて紹介する。ただし、本稿では、各技術分野に共通する一般的な事項についてのみ取扱うこととし、コンピュータソフトウエア、医薬品など、特定の技術分野に特有の審査基準については省略する。また、発明の認定・対比などについては、「中国における新規性の審査基準に関する一般的な留意点」を参照されたい。前編では、進歩性に関する法令等の記載個所、進歩性判断の基本的な考え方、用語の定義について解説する。進歩性の具体的な判断、数値限定、選択発明については「中国における進歩性（創造性）の審査基準（専利審査指南）に関する一般的な留意点（後編）」（https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/34483/）をご覧ください。
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2023.05.09
チリにおける商標制度の概要チリにおける商標に関する規定は、1991年1月25日に施行された産業財産に関する法律第19039号（以下「産業財産法」という。）に定められている。産業財産法は、2021年7月5日の法No.21355により改正され、登録後の不使用取消が可能になる等の新たな規定が導入された。