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2020.02.13
韓国における特許法「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第II編 韓国の知的財産制度と関連法 第2章 特許法」では、韓国における特許法に基づく登録要件、手続概要、権利取得と維持、特許取消申請制度、特許審判、PCT出願、PPH申請手続等が紹介されている。
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2020.01.21
フィリピンにおける知的財産権エンフォースメント「フィリピンにおける模倣品流通実態調査」（2019年3月、日本貿易振興機構マニラ事務所）「Ⅲ フィリピンの知的財産権エンフォースメント」では、フィリピンにおける知的財産権侵害者に対する対抗措置が紹介されている。
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2019.12.05
日本とインドネシアにおける特許出願書類・手続の比較日本で出願された特許出願を優先権の基礎としてインドネシアに特許出願する際に、必要となる出願書類および関連する法令についてまとめた。日本とインドネシアにおける特許出願について、出願書類と手続言語についての規定および優先権主張に関する要件を比較した。
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2019.11.21
カンボジアにおける商標出願制度の概要商標出願の手続は主に、出願、方式審査、実体審査、登録の順に進行する。商標権の存続期間は、カンボジアにおける出願日から10年であるが、10年間の更新が可能である。商務省（MOC：Ministry of Commerce）の知的財産局（DIPR：Department of Intellectual Property Rights）は、標章、商号および不正競争行為に関する法律（以下、「商標法」という。）、並びに、標章、商号および不正競争行為に関する法律の施行に関する規則（以下、「商標法施行規則」という。）に従い、カンボジアにおける商標関連事項を所管する。
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2019.11.21
カンボジアにおける意匠出願制度の概要意匠出願の手続きは主に、出願、方式審査、実体審査、登録の順に進行する。意匠権の存続期間は、カンボジアにおける出願日から5年であるが、5年間の更新が2回可能であり、最長の存続期間は15年間である。工業手工芸省（MIH：Ministry of Industry and Handicrafts）の工業財産局（DIP: Department of Industrial Property）は、特許、実用新案証および意匠に関する法律（以下、「特許法」という。）および意匠登録手続に関する省令（以下、「意匠省令」という。）に従い、特許、実用新案および意匠を含むすべての産業財産関連事項を所管する。
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2019.11.19
メキシコにおける商標出願制度概要メキシコにおける商標制度は、1）出願、2）方式審査、3）出願の公開、4）実体審査および5）登録の手順で進められる。登録になった場合、存続期間は、出願日から10年で、10年ごとに更新することができる。
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2019.11.14
メキシコにおける意匠出願制度概要メキシコ産業財産権法の意匠に関する条項を改正及び追加する法令が2018年3月13日に公布され、改正法が2018年4月27日に施行された。それによって、意匠制度にいくつかの改正が行われた。
メキシコでの出願の手続は、1）出願、2）方式審査、3）審査請求、4）登録の順で行われる。存続期間は5年であり、5年ごとの延長により最長25年まで可能である。 -
2019.11.14
ブラジルにおける意匠出願制度概要ブラジルにおける意匠制度の特徴としては、無審査主義が挙げられる。したがって、出願の手続は、1）出願、2）方式審査、3）登録の順で行われる。
一方、登録の後で4）審査請求が可能である。権利行使を考えると、審査請求を行ったほうが望ましいといえる。
存続期間は10年であり、5年ごと3回の延長が可能なため、最長25年となる。 -
2019.11.14
ブラジルにおける商標出願制度概要ブラジルにおける商標制度は、1）出願、2）方式審査、3）出願の公開、4）実体審査および5）登録の手順で進められる。登録になった場合、存続期間は、出願日から10年で、10年ごとに更新することができる。
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2019.11.07
日本とシンガポールにおける特許出願書類・手続の比較日本で出願された特許出願を優先権の基礎としてシンガポールに特許出願する際に、必要となる出願書類および関連する法令についてまとめた。日本とシンガポールにおける特許出願について、出願書類と手続言語についての規定および優先権主張に関する手続を比較した。