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■ 全38件中、2130件目を表示しています。

  • 2014.10.17

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    インドネシアにおけるライセンス及び秘密管理に関する法制度と実務運用

    「我が国企業の新興国への事業展開に伴う知的財産権のライセンス及び秘密管理等に関する調査研究報告書」(2012年2月、知的財産研究所)Ⅲ-5では、インドネシアにおけるライセンス及び秘密管理に関する法制度、ライセンス契約書の作成やライセンス登録の手続き、ロイヤルティ送金等のライセンス実務、営業秘密の保護要件、契約上の対策・秘密管理方法等の秘密管理の実務等が説明され、ライセンス及び営業秘密関連のトラブル事例や判例も紹介されている。

  • 2014.09.16

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 商標
    • その他

    韓国における契約書の作成

    「韓国ライセンスマニュアル」(2011年3月、日本貿易振興機構)第6編では、韓国における契約書の作成について紹介されている。具体的には、ライセンス契約書全体の構成を前文、本文及び後文にわけ、前文については、導入部、説明部及び約因部、本文については、定義条項、実施許諾条項及び技術指導条項等、各項目に含まれる具体的な条項を列挙し、それぞれの内容について紹介されている。

  • 2014.07.04

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    中国におけるロイヤルティ管理と監査の実態

    「知的財産のライセンス契約に伴うロイヤルティ監査に関する調査研究報告書」(2011年2月、三菱UFJリサーチ&コンサルティング株式会社)II.6では、中国におけるロイヤルティ管理と監査の実態について紹介されている。具体的には、契約に関わる法や実務、契約不履行への対応、ロイヤルティ管理や監査についての契約条項例、監査の実態等について紹介されている。

  • 2014.06.10

    • アジア
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    中国における差止請求権の行使を巡る状況

    「権利行使態様の多様化を踏まえた特許権の効力の在り方に関する調査研究報告書」(2011年2月、知的財産研究所)II.2では、中国における差止請求権の行使を巡る状況について紹介されている。中国専利法は特許権侵害に対して差止請求を認めているが、知的財産の基本総合戦略として2008年に発布された「国家知的財産権戦略綱要」の中で重点戦略として「知的財産権濫用の防止」が特記されたことを受け、様々な形で知的財産権の差止請求権に係る制限について規定されるに至っている。ここでは、差止請求権に関する基本事項、差止請求権の制限に係る政府政策、関連法及び裁判例等について紹介されている。

  • 2014.04.25

    • 中東
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • その他

    アラブ首長国連邦における技術移転の現状

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第1部第2章第7節では、アラブ首長国連邦(UAE)における技術移転の現状について紹介されている。同国では、投資家を誘致するため、フリーゾーン(UAE領土内の一部で、この地域に搬入される商品は、関税地域の外部に存在するものとみなされ、通常の税関手続きと管理の適用を受けずに商業活動又は産業活動が行われる地域)を開設し、同地域への直接投資、合弁事業契約又は実施/使用許諾契約を通じて技術移転が行われている。

  • 2014.04.15

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • 特許・実用新案

    シンガポール特許のライセンス・オブ・ライト(実施許諾用意)制度

    シンガポールでも特許をライセンス許諾することができるが、ライセンス・オブ・ライト制度(実施許諾用意制度)を利用すれば、更新手数料を半額にすることができる。

  • 2014.03.10

    • アジア
    • 法令等
    • その他

    韓国における知財法と公正取引委員会による規制

    「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II編第13章では、韓国における知財法と公正取引委員会による規制が紹介されている。具体的には、知的財産権の不当な権利行使、並行輸入における不公正取引行為、不当な表示・広告行為及び技術奪取行為に対する公正取引法に基づく規制等について紹介されている。

  • 2014.03.07

    • 中東
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 商標

    湾岸諸国協力会議(GCC)

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第3部では、湾岸諸国協力会議(GCC)における特許制度や商標制度について紹介されている。GCCは共通特許制度(域内出願人及び国際出願人に対し、一度の出願で、GCC加盟国の全ての同盟国における特許保護を付与する制度)を実行しているが、統一GCC商標法は、全てのGCC加盟国が批准しておらず、本マニュアル作成時では、効力を生じていない。

  • 2014.03.05

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 意匠
    • その他

    サウジアラビアにおける半導体回路配置および意匠制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第2部第2章第2節では、サウジアラビアにおける半導体回路配置及び意匠制度について紹介されている。サウジアラビアでは、回路配置及び意匠は、「特許、集積回路の回路配置、植物品種及び工業意匠に関する法律」によって保護されるが、本節では、意匠における登録要件、出願、優先権主張及び新規性喪失の例外、並びに、集積回路の回路配置における登録要件、譲渡、実施許諾及び強制実施権等について紹介されている。

  • 2014.03.05

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 意匠

    アラブ首長国連邦における意匠及び工業モデル制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第1部第2章第2節では、アラブ首長国連邦(UAE)における意匠及び工業モデル制度について紹介されている。具体的には、新規性喪失の例外適用期間、意匠登録出願手続き、意匠および工業モデル登録の効果、譲渡、救済措置等、意匠及び工業モデル制度全般について紹介されている。