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  • 2016.03.22

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    モロッコにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(4)では、モロッコにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.22

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(5)では、ナイジェリアにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.18

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    マレーシアにおける証明商標制度

    マレーシアにおける証明商標は、1976年商標法第56条XI部の規定に従い、マレーシア知的財産局(Intellectual Property Corporation of Malaysia : MyIPO)に登録することができる。証明商標の登録出願は、通常の商標の場合と同じ書式により提出されるが、出願人は、出願書(フォームTM5)において証明商標である旨を記載するとともに、案件説明書および商標使用管理運用規則案を添付しなければならない。証明商標の登録が認可されると、当該商標の登録要件および証明制度の種類および管理にかかる不備等を根拠とする第三者による異議申立のために公告される。

  • 2016.03.18

    • アフリカ
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    ケニアにおける知的財産権関連制度の運用実態

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(3)では、ケニアにおける知的財産権関連制度の運用実態について、ケニアの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。

  • 2016.03.15

    • アジア
    • 法令等
    • 制度動向
    • 特許・実用新案
    • 商標

    インドネシアにおける商標法および特許法の改正動向

    インドネシアでは、2008年に商標法改正案が、2012年に特許法改正案が公表され、それぞれ政府による改正作業が続けられている。公表された商標法改正案には、出願手続や更新手続の改正や保護対象の拡大などが盛り込まれ、特許法改正案には、電子出願の導入や、簡易特許(日本における「実用新案」に相当。)の定義の改正(組成物の追加)、強制実施権の付与などが盛り込まれている。公表された改正案に対する修正等については明らかにされておらず、最終的にどのような改正が行われるのか、引き続き注視が必要である。

  • 2016.03.15

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    ケニアにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(3)では、ケニアにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、実用新案、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.03.11

    • アフリカ
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態について、エジプトの一般情報、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約/海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。

  • 2016.03.08

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    エジプトにおける知的財産権関連制度の概要

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)3-2-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、実用新案、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

  • 2016.02.02

    • アジア
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    台湾における特許関連番号フォーマット

    台湾における特許関連の公報等に用いられる出願番号および公開番号には年度が含まれているが、出願番号には台湾暦が用いられ、公開番号には西暦が用いられており、注意が必要である。台湾暦に1911を加えると西暦年となり、逆に、西暦から1911を引くと台湾暦になる。なお、登録番号には年度は含まれない。台湾における各種番号フォーマットおよび欧州特許庁が提供するEspacenetでの番号フォーマットを紹介する。

  • 2016.01.05

    • アフリカ
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    南アフリカにおける知的財産権関連制度の運用実態

    「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)4-(1)では、南アフリカにおける知的財産権関連制度の運用実態について、南アフリカの一般情報等、知的財産権関連制度(特許・意匠・商標)や運用実態上の課題・留意点・リスク、権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、出願統計等が紹介されている。