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2024.11.12
中国における実用新案出願制度概要実用新案の出願手続は、主に、(i)出願、(ii)初歩審査、(iii)登録・公告の手順で進められる。実体審査は行われず、登録後の無効請求により対応する。実用新案特許権の存続期間は、出願日から10年である。
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2024.10.31
韓国における商標出願制度概要韓国の商標出願手続は、主に出願、方式審査、実体審査、出願公告、登録査定の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に継続して更新可能である。
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2024.10.24
中国における特許出願制度概要特許の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)実体審査、(5)登録・公告の手順で進められる。特許権の存続期間は、出願日から20年である。
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2024.10.15
中国におけるパリルート出願とPCTルート出願の手続の相違点外国出願人が中国に特許または実用新案の出願を行う際、パリ優先権を主張して出願する方法（以下「パリルート出願」という。）と、PCT出願の中国国内段階への移行によって中国に出願する方法（以下「PCTルート出願」という。）がある。パリルート出願とPCTルート出願の手続上の相違点は、以下のとおりである。
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2024.10.01
中国における商標出願制度概要中国における商標出願は、国家知識産権局に属する商標局に対して行い、出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)実体審査、(4)出願公告、(5)登録公告の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に何度でも更新可能である。
本稿は、2014年5月1日に施行された改正商標法実施条例（以下「条例」という。）および2019年11月1日に施行された改正商標法（以下「商標法」という。）に基づき説明する。 -
2024.09.26
中国における実用新案制度の概要と活用実用新案は、特許と比べると登録期間が短いものの、初歩審査のみ行われ、登録までの期間が短く、進歩性基準が特許より低い等の特徴を有することから、中国では、中小企業に多く利用されている。また、中国には特許/実用新案同日出願制度があり、この制度を利用して実用新案出願を先に権利化し、後に特許出願が登録要件を満たす場合に実用新案権を放棄することにより特許出願の権利化を図ることもできる。
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2024.06.27
香港における特許関連番号フォーマット香港知的財産局（Hong Kong Intellectual Property Department：HKIPD）の検索サイトでは、標準特許（O）、短期特許、標準特許（R）、標準特許（R）PCTルートの公報が閲覧できる。香港における特許関連の公報等に用いられる各種番号フォーマットの変遷および香港知的財産局や欧州特許庁が提供するEspacenetでの番号フォーマットを紹介する。
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2024.06.27
タイにおける主な知的財産関連サイトのリンク情報（その１）タイの主な知的財産関連サイトであるタイ知的財産局について、掲載されているリンク情報を一覧にして示した。タイ知的財産局のウェブサイトのリンクは、接続にやや時間がかかるので注意されたい。
なお、日本貿易振興機構（JETRO）のタイに関する情報については、（その２）を参照されたい。
その２：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/23608/ -
2024.06.25
フィリピンの商標等関連の法律、規則、審査基準等フィリピンの商標等関連の法律、規則、審査基準等を示す。フィリピンでは商標権に関する法令は包括的な知的財産法体系の中に含まれており、特・実・意・商のほか、著作権や回路配置権等も対象となっている。これら知的財産権の不服申立やライセンス契約の取扱いに関連する規則も併せて紹介する。
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2024.06.20
香港における知的財産の基礎情報（全体マップ）－関連情報編本記事は、「新興国等知財情報データバンク」に掲載されている香港の知的財産に関連する基礎的な情報へのアクセス性を向上させるために、当該基礎的な情報の全体像をマップ的に示すものである。具体的に、「関連情報編」の本記事では、香港の知的財産に関連する情報として、特許や商標等の公報データベース、審決・判決データベース、出願統計データベース、主な知的財産関係機関のウェブサイトのURLを掲載した。