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■ 全43件中、2130件目を表示しています。

  • 2014.09.09

    • アジア
    • ライセンス・活用
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    • その他参考情報
    • その他

    韓国における公正取引法

    (本記事は、2021/9/7に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20830/

    「韓国ライセンスマニュアル」(2011年3月、日本貿易振興機構)第3編第4章では、韓国における公正取引法に関する注意事項ついて紹介されている。具体的には、ロイヤルティと関連した契約事項で、韓国の公正取引法に照らして問題になり得る主要な点として、過度に高額なロイヤルティの賦課、ロイヤルティ率の差別的割引、特許権消滅後のロイヤルティ支給、契約製品以外の製品に対するロイヤルティの賦課等を挙げ、それぞれについて紹介している。

  • 2014.09.02

    • アジア
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    • その他

    韓国における著作権ライセンス

    (本記事は、2021/9/7に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20830/

    「韓国ライセンスマニュアル」(2011年3月、日本貿易振興機構)第5編第2章では、韓国における著作権ライセンスについて紹介されている。具体的には、著作権ライセンスについて、ライセンスの種類、韓国著作権法上の利用許諾に関する規定、著作権ライセンス契約作成時の注意事項及び契約条項等が紹介されている。

  • 2014.08.22

    • 欧州
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    ロシアにおける意匠の表現に関する制度・運用

    ロシアにおいて、意匠の表現は、図面のほか写真若しくはCGによる特定が可能である。図面について必要最小図面数の限定や提出可能図面数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する図面、即ち斜視図、正面図、背面図、上面図、底面図、左側面図、右側面図を提出しなければならない。提出図面の大きさはA4サイズという制約があり、拡大図の提出も可能である。写真についても必要最小写真数の限定や提出可能写真数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する写真の提出が求められており、写真は鮮明なものである必要がある(白黒/カラーいずれでも良い)。CGによる意匠の特定は静止状態のもののみ認められる(他の条件は写真と同様)。

  • 2014.07.15

    • アジア
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    中国における税関による差押え事例

    中国で輸出入されている商品の中に知的財産権侵害製品も含まれており、中国から侵害品が国際市場に流出することが避けられない状況にある。このような状況において、手続の迅速性、有効性から、税関による知的財産権の保護がますます重視されるようになってきている。本稿では差押え事例を2件紹介し、税関による知的財産保護の役目とその効果について概観する。

  • 2014.05.13

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
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    • 商標
    • その他

    台湾における公平交易法の紹介

    (本記事は、2018/3/8に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/14621/

    「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)一、(一)4.では、台湾における不正競争行為を禁止する公平交易法の規定について紹介されている。具体的には、不正競争行為の類型、不正競争行為に関する事例に加え、不正競争行為に対する救済手段についても説明されている。

  • 2014.03.13

    • アジア
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    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾企業とのアライアンスによる中国進出について

    「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)B.第五章では、台湾企業との連携による中国への進出に関し、進出形態や施策、法令や支援等の制度、知的財産分野の日台アライアンスによる中国進出の事例等が紹介されている。また、中国進出の際の留意点として、台湾企業とのアライアンスによる中国進出の規制や紛争への対策等についても説明されている。

  • 2014.03.11

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    • 審決例・判例
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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾進出の実例と留意点

    「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)B.第四章では、知的財産権の侵害や技術盗用について、外食産業、IT産業、コンテンツ産業及び製造業において、台湾進出の際に実際に起きた事例が挙げられ、リスクとその対処法について説明されている。

  • 2014.02.18

    • アジア
    • 出願実務
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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾進出における知的財産関連の留意事項

    「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)B.第三章第一節では、台湾進出おける知的財産関連の留意事項について説明されている。具体的には、特許、実用新案、意匠、商標の権利化の具体的な費用の額を示すと共に、出願手続のフローチャートを用いて知的財産権取得の際の検討事項を説明し、ライセンス契約時の留意点やロイヤリティ等にも説明している。

  • 2014.02.06

    • アジア
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    台湾における商標権侵害及びトレードドレス侵害に関する企業事例についての検討

    「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)A.第五章では、台湾におけるトレードドレスの3件の企業事例を紹介している。パッケージ、店舗看板及び商品の型番に関する事例であり、その検討に基づく留意点も示されている。

  • 2014.02.04

    • アジア
    • 法令等
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    マレーシアの先使用権制度

    「先使用権制度に関する調査研究報告書」(2011年3月、日本国際知的財産保護協会)では、マレーシアを含む46カ国の先使用権に関する制度(先使用権制度を有さない国においては類似の制度)の概要及び運用状況に関する情報が取りまとめられている。