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2015.03.31
台湾における特許の分割出願（本記事は、2020/5/12に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18556/2011年の台湾専利法(日本における特許法、実用新案法、意匠法に相当。)改正により、分割出願を行う時期に関する規制が緩和され、初審審査の特許査定書の送達後30日以内に分割出願を行うことが可能となった。
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2015.03.31
韓国における一括審査制度について韓国特許庁は、一つの製品や融合技術・複合技術に関連した複数の特許・実用新案出願について、出願人が希望する時点に合わせ一括で審査する企業戦略に即した一括審査制度（日本における事業戦略対応まとめ審査に相当。）を施行している。2013年12月から、特許・実用新案の出願に対して一括審査が適用されており、2014年4月からは、商標および意匠にもその適用が拡大された。一括審査制度は、新製品の発売に合わせて多様な知的財産権を一度に権利化することができるという点で、企業の知財戦略の確立とタイムリーな知的財産権の保護に役立つことが期待される。
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2015.03.31
台湾における特許の早期権利化の方法（本記事は、2023/12/26に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37984/台湾において、発明特許出願を早期審査する二つの方法として、「発明特許早期審査の運用方案（AEP）」と台日特許審査ハイウェイ（PPH MOTTAINAI）について、両制度の要件や事由、その効果を紹介する。
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2015.03.31
シンガポールにおける特許審査迅速化の方法（本記事は、2019/10/17、2023/2/14に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17822/（2019.10.17）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/33773/（2023.2.14）シンガポール特許出願、またはシンガポールに国内移行したPCT出願において、特許を早期に取得するためにはいくつかの方法がある。これらの方法について2014年2月14日に施行された改正特許法により導入された3種類の審査オプションに基づき説明する。
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2015.03.27
インドネシアにおける特許の早期権利化（本記事は、2021/6/22に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20273/インドネシアでは、特許法に基づき、特許庁が出願人による実体審査請求を受領した日から特許については36ヶ月、小特許（日本における実用新案に相当。）については24ヶ月で特許付与または拒絶査定を下すこととなっているが、滞貨案件が理由で、通常は登録まで3～6年を要する。審査手続を促進させるには、方式要件を満たした出願を行い、早期公開請求および実体審査請求とともに、特許審査ハイウェイ（Patent Prosecution Highway ： PPH）プログラムとASEAN特許審査協力（ASEAN Patent Examination Co-operation ： ASPEC）プログラムを活用することが考えられる。その他、修正実体審査請求を活用することも審査手続の促進に有用である。
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2015.03.25
韓国における特許・実用新案・意匠・商標に関する各種審判制度「日中韓における審判・裁判についての制度及び統計分析に関する調査研究報告書」（平成26年2月、日本国際知的財産保護協会）第5部5.1.4では、韓国における特許・実用新案・意匠・商標に関する各種審判制度について、企業や特許事務所等に対する国内アンケート調査結果を紹介している。
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2015.02.19
タイにおける特許・小特許・意匠出願の審査迅速化のための対応タイにおける特許・小特許・意匠の出願から登録までに要する期間は統計データから平均して3～5年程度と考えられているが、現在のタイ知的財産局（Department of Intellectual Property : DIP）の審査滞貨数を考慮すると、登録までに要する期間はさらに長くなることが予測される。このため方式審査および実体審査おいて、審査迅速化のために出願人ができる対応について紹介する。
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2015.02.19
中国における意匠に関する実務マニュアル「中国意匠権出願手続における実務上の問題点にかかる調査報告書（2013年3月、日本貿易振興機構上海事務所 知識産権部）」第3章では、中国における意匠出願の実務マニュアルとして、類似意匠出願の具体例、意匠出願書類の「簡単な説明」、創作非容易性、日本での部分意匠出願を基礎とする出願に係る優先権、警告や権利行使を受けた際における対応、意匠調査に利用可能な検索データベース等について事例とともに説明されている。また、付属資料として意匠に関する審査基準の抜粋も紹介されている。
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2014.12.19
タイにおける商標権の取得「模倣対策マニュアル タイ編」（2008年3月、日本貿易振興機構）第1編第5章では、タイにおける商標権の取得について、商標の定義・種類、登録要件、不登録事由、商標出願から登録までの手続及びそのフローチャート、出願の起算日、出願に必要な事項及び書類、優先権主張、商標の保護期間、不服審判請求、登録後の商標取り消し審判請求、著名商標登録制度等について説明されている。
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2014.12.18
タイにおける意匠権の取得「模倣対策マニュアル タイ編」（2008年3月、日本貿易振興機構）第1編第4章では、タイにおける意匠権の取得について、意匠の定義・種類、登録要件、不登録事由、意匠出願から登録までの手続き及びそのフローチャート、出願の起算日、出願に必要な事項及び書類、優先権主張、意匠権の保護期間、意匠権の内容等について説明されている。